Научный архив: статьи

Обсуждаются новые естественные принципы деления высокочастотных (ВЧ) разрядов на емкостные и индуктивные, основанные на характере электромагнитного поля в плазме разряда. Если поле в плазме с высокой степенью точности является потенциальным и его вихревая часть мала, то разряд следует считать емкостным. Если же поле в плазме, напротив, почти чисто вихревое, то такой разряд является индуктивным. При этом следует различать разряды объемные и поверхностные, резонансные и нерезонансные, в зависимости от того, возбуждающие разряд ВЧ-поля совпадают с резонансными частотами объемных и поверхностных волн плазменных образований или далеки от них, проникают или не проникают в объем плазмы и каков характер сканирования таких полей

Изложена общая теория плазменных источников малой мощности, основанных на высокочастотном (ВЧ) методе нагрева и поддержания плазмы. Частота ВЧ-поля лежит между ионной и электронной ленгмюровскими и циклотронными частотами во внешнем продольном магнитном поле, параллельном скорости истечения плазмы. В этих условиях процессы проникновения и поглощения ВЧ-поля в плазму определяются чисто электронной компонентой плазмы. Вместе с тем длина волны ВЧ-поля в вакууме намного превосходит геометрические размеры источника, что позволяет использовать квазистатическое (неволновое) приближение. Рассмотрены примеры цилиндрического и плоского источников плазмы, а также экспериментальной реализации такого источника