Изложена общая теория плазменных источников малой мощности, основанных на высокочастотном (ВЧ) методе нагрева и поддержания плазмы. Частота ВЧ-поля лежит между ионной и электронной ленгмюровскими и циклотронными частотами во внешнем продольном магнитном поле, параллельном скорости истечения плазмы. В этих условиях процессы проникновения и поглощения ВЧ-поля в плазму определяются чисто электронной компонентой плазмы. Вместе с тем длина волны ВЧ-поля в вакууме намного превосходит геометрические размеры источника, что позволяет использовать квазистатическое (неволновое) приближение. Рассмотрены примеры цилиндрического и плоского источников плазмы, а также экспериментальной реализации такого источника
А general theory of low power plasma sources based оn the method of high frequency (НF) heating and supporting of plasma is presented. Тhе frequency lies between the iоn and electron Larmour frequencies in the longitudinal external magnetic field parallel to the plasma stream velocity. Under such conditions all the electromagnetic phenomenoain plasma sources are determined bу the electrons. At the same time the wavelength is much larger than the geometrical sizes of the sources and, therefore, a quasistatic description is valid. Тhе cylindrical and flat sources are considered, and an example of the experimental realization of such а source is discussed
Предпросмотр статьи
