В книге приведены основные сведения о нанотехнологиях и нанообъектах, рассмотрены характерные особенности и свойства наночастиц. Значительное внимание уделено функциональным и конструкционным материалам (фуллеренам, углеродным нанотрубкам, ленгмюровским молекулярным пленкам) и их применению, а также методам получения наночастиц и упорядоченных наноструктур. Приводятся результаты искусственного наноформообразования, описаны методы зондовой нанотехнологии, пучковые и другие новые методы нанолитографии.
Для студентов и аспирантов высших учебных заведений, специализирующихся по направлению «Нанотехнология».
В книге приведены основные сведения о нанотехнологиях и нанообъектах, рассмотрены характерные особенности и свойства наночастиц. Значительное внимание уделено функциональным и конструкционным материалам (фуллеренам, углеродным нанотрубкам, ленгмюровским молекулярным пленкам) и их применению, а также методам получения наночастиц и упорядоченных наноструктур. Приводятся результаты искусственного наноформообразования, описаны методы зондовой нанотехнологии, пучковые и другие новые методы нанолитографии.
Для студентов и аспирантов высших учебных заведений, специализирующихся по направлению «Нанотехнология».
В учебное пособие включено описание новых технологических процессов, которые составляют основу современного производства сверхбольших интегральных схем (СБИС) и других устройств кремниевой наноэлектроники. К таким процессам относятся субмикронная литография, ионное легирование, ионное и плазмохимическое травление наноструктур, атомно-слоевое и плазмохимическое осаждение металлов и диэлектриков. Изложены технологические маршруты
формирования СБИС.
Пособие предназначено для слушателей программы переподготовки в области промышленного производства наногетероструктурных монолитных интегральных схем СВЧ-диапазона и дискретных полупроводниковых приборов, а также может быть использовано при подготовке студентов, обучающихся по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника», 210600 «Нанотехнология», 222900 «Нанотехнология и микросистемная техника».
Учебное пособие будет полезно при подготовке магистров по программам «Твердотельная электроника» и «Наногетероструктурная СВЧ-электроника».
В статье говорится о существующих современных методах
литографии. Описаны общие шаги процесса литографии в
полупроводниковом производстве. Рассмотрены тенденции развития
полупроводниковой промышленности в целом.
Произведен анализ методов литографии на основе информации о
современной полупроводниковой промышленности, и выбран наиболее
инновационный метод литографии: электронная лучевая литография, – как
метод, позволяющий повысить технологически уровень полупроводниковой
промышленности
