Статья: ЭЛЕКТРОННАЯ ЛИТОГРАФИЯ КАК НАИБОЛЕЕ ИНОВАЦИОННЫЙ МЕТОД ЛИТОГРАФИИ

В статье говорится о существующих современных методах
литографии. Описаны общие шаги процесса литографии в
полупроводниковом производстве. Рассмотрены тенденции развития
полупроводниковой промышленности в целом.
Произведен анализ методов литографии на основе информации о
современной полупроводниковой промышленности, и выбран наиболее
инновационный метод литографии: электронная лучевая литография, – как
метод, позволяющий повысить технологически уровень полупроводниковой
промышленности

Информация о документе

Формат документа
PDF
Кол-во страниц
7 страниц
Загрузил
Старцев Вадим
Лицензия
CC BY
Доступ
Всем

Информация о статье

Автор(ы)
Лунякина Т.А
Ключевые фразы
полупроводник, МЭМС, фотолитография, электронная литография
Каталог SCI
Электроника