SCI Библиотека

SciNetwork библиотека — это централизованное хранилище... ещё…

Результаты поиска: 361 док. (сбросить фильтры)
Математическое моделирование инфракрасного матричного фотоприемного устройства

Представленная математическая модель инфракрасного матричного фотоприемного устройства (ИК МФПУ) позволяет прогнозировать фотоэлектрические характеристики любого фоточувствительного элемента (ФЧЭ) матрицы, анализировать зависимости этих характеристик от конструктивных и эксплуатационных параметров и осуществлять их оптимизацию. Модель позволяет точно определять все характеристики ИК МФПУ с холодной диафрагмой произвольной формы, в том числе и многосвязной, с учетом всей совокупности паразитных излучений, падающих на матрицу фоточувствительных элементов (МФЧЭ). Для модели разработан новый способ определения облученности МФПУ, использующий новый конструктивный параметр — коэффициент пропускания холодной диафрагмы. Коэффициент пропускания диафрагмы определяется интегралом по площади холодной диафрагмы, включающим координаты заданной точки в плоскости МФЧЭ, расстояние от этой плоскости до плоскости диафрагмы, форму и размеры диафрагмы. Доказано, что фоновая облученность прямо пропорциональна произведению коэффициента пропускания диафрагмы на облучённость от протяжённого источника излучения (абсолютно черное тело) с известной температурой, расположенного в полусфере вокруг заданной точки МФЧЭ. Проведена экспериментальная оценка корректности модели сравнением сигналов, шумов и фотоэлектрических характеристик ФЧЭ ИК МФПУ на основе фотодиодов с известными конструктивными и эксплуатационными параметрами. Их МФЧЭ чувствительны в диапазонах 0,9—1,7 мкм, 3—5 мкм и 8—10,6 мкм. Получены хорошие совпадения характеристик, подтверждающие корректность модели.

Формат документа: pdf
Год публикации: 2016
Кол-во страниц: 1
Загрузил(а): Филачев Анатолий
Язык(и): Русский, Английский
Высоковольтный импульсно-периодический многоэлектродный кольцевой разряд в жидкости: основные характеристики и возможности применения

В работе представлены результаты исследования многоэлектродного кольцевого высоковольтного импульсно-периодического искрового разряда в жидкости с инжекцией газа в межэлектродное пространство. Энергия импульса W = 1,6 Дж. Приведена конструкция и принцип работы разрядной системы, а также ее электрические и оптические характеристики. Измерена интенсивность УФ-излучения в интервале 200 нм <  < 400 нм. Выполнены эксперименты, связанные с решением ряда прикладных задач: очистка воды от микробиологических загрязнений, обработка отходов гальванического производства, получение коллоидного раствора углерода в этаноле.

Формат документа: pdf
Год публикации: 2016
Кол-во страниц: 1
Загрузил(а): Анпилов Андрей
Язык(и): Русский, Английский
Вакуумное ультрафиолетовое излучение ртутного разряда при давлении буферного газа менее 1 Торр

Активное развитие направления фотохимической очистки воздуха за счёт наработки озона и активных радикалов привело к повышенному спросу на мощные и эффективные источники УФ-излучения с длиной волны 185 нм. В настоящее время КПД таких источников невысок, а закономерности генерации ВУФ-излучения газоразрядными лампами низкого давления изучены в недостаточной мере. В данной работе приведены результаты экспериментального исследования потока и КПД генерации излучения на длине волны 185 нм при низких давлениях (0,1—2 Торр) газовой смеси неон-аргон. Показана принципиальная возможность увеличения эффективности генерации ВУФ-излучения существующих газоразрядных ламп низкого давления.

Формат документа: pdf
Год публикации: 2016
Кол-во страниц: 1
Загрузил(а): Левченко Владимир
Язык(и): Русский, Английский
Взаимодействие плазмы с защитным бороуглеродным покрытием вакуумной камеры стелларатора Л-2М

В статье исследуются свойства бороуглеродных (В/С) покрытий, наносимых различными способами на внутреннюю стенку вакуумной камеры стелларатора Л-2М. Ресурсные испытания показали, что В/С-покрытия, полученные с использованием тлеющего разряда, сохраняет свои защитные свойства при работе в режиме омического нагрева в полтора раза дольше, чем в режиме ЭЦР-нагрева плазмы. Рассматриваются вопросы нанесения, разрушения и долговечности В/С-покрытий, создаваемых в рабочих импульсах установки в режиме омического нагрева плазмы, а также изменения их состава и структуры в процессе работы стелларатора. Особое внимание было уделено роли сепаратрисы в нанесении и разрушении В/С-пленки. Проведены первые эксперименты по нанесению бороуглеродного покрытия в рабочих импульсах стелларатора Л-2М в режиме с ЭЦР-нагревом плазмы.

Формат документа: pdf
Год публикации: 2016
Кол-во страниц: 1
Загрузил(а): Мещеряков Алексей
Язык(и): Русский, Английский
Разработка системы очистки диагностических зеркал в ИТЭР на основе комбинированной разрядной конфигурации «полый катод — ячейка Пеннинга»

Разработана комбинированная разрядная ячейка, обеспечивающая одновременную очистку первого и второго зеркал в оптических диагностиках ИТЭР как при наличии магнитного поля, ориентированного вдоль очищаемой поверхности зеркала в режиме разряда с магнитоизолированным анодом (пеннинговского разряда), так и без магнитного поля в режиме цилиндрического полого катода. В обоих режимах очистки металлические зеркала являются катодными электродами разрядной ячейки и находятся под одинаковым потенциалом относительно изолированного анода, расположенного внутри полого катода. Дополнительные катодные электроды изготовлены из металлической сетки. Разрядная ячейка изолирована от стенок диагностического порта. Предусмотрено функционирование системы очистки в среднечастотном импульсном режиме при наличии диэлектрических загрязнений и в режиме постоянного тока при очистке от металлических загрязнений. Рабочий газ — He. Представлены результаты исследования функционирования системы очистки Mo-зеркал в магнитном поле величиной 0,2 Тл и без магнитного поля в технологическом режиме, соответствующем отключению тороидального поля. Эксперименты проводились с использованием разрядной ячейки, интегрированной в макет узла входного зеркала диагностики «Спектроскопия водородных линий», расположенного в 11-м экваториальном порту ИТЭР. В качестве имитационного загрязнения использовалось Al-покрытие.

Формат документа: pdf
Год публикации: 2016
Кол-во страниц: 1
Загрузил(а): Рогов Александр
Язык(и): Русский, Английский
Новые тенденции в исследованиях по физике плазмы и управляемому термоядерному синтезу в России (обзор по материалам XLIII Международной конференции по физике плазмы и УТС)

Дан обзор новых наиболее интересных результатов, представленных на ежегодной XLIII Международной Звенигородской конференции по физике плазмы и управляемому термоядерному синтезу, состоявшейся с 8 по 12 февраля 2016 года в городе Звенигороде Московской области. Проведен анализ развития и достижений главных направлений исследований в области физики плазмы как в России, так и за рубежом.

Формат документа: pdf
Год публикации: 2016
Кол-во страниц: 1
Загрузил(а): Гришина Ирина
Язык(и): Русский, Английский
О температурном поле газа, движущегося в цилиндрическом канале при наличии неравномерно распределенных по осевой координате внутренних источников тепла

Расчет температурного поля движущегося газа с внутренним источником тепла обобщается на случай неравномерного распределения источников тепла. Осесимметричное распределение в зоне внутреннего тепловыделения аппроксимируется набором сегментов различной длины по осевой координате, в каждом из которых плотность мощности полагается постоянной, а радиальная функция источника — специфической только для этого сегмента. Таким образом, газ последовательно проходит N+2 зоны: входную z < 0, выходную z > 1 и зону внутреннего тепловыделения 0  z  l, представленную N сегментами. Полученные аналитические решения позволяют рассчитать тепловой баланс для широкого класса задач, особенностью которых является обдув и неравномерное распределение источников тепла по осевой координате.

Формат документа: pdf
Год публикации: 2016
Кол-во страниц: 1
Язык(и): Русский, Английский
Пленкообразующие материалы для тонкослойных оптических покрытий: новые задачи и перспективы (обзор)

Представлен краткий обзор задач оптики тонких пленок в части пленкообразующих материалов, применяемых для проектирования и изготовления тонкослойных оптических покрытий для инфракрасной области спектра. Обсуждаются пути решения задач получения оптических пленок с набором требуемых показателей преломления. Приведены некоторые сведения о покрытиях на оптических элементах из халькогенидных стекол и новой технологии атомно-слоевого осаждения тонких пленок.

Формат документа: pdf
Год публикации: 2016
Кол-во страниц: 1
Загрузил(а): Тропин Алексей
Язык(и): Русский, Английский
Фильтрация методом Савицкого-Голея спектральных характеристик чувствительности матричных фотоприемных устройств

При пересчете спектральных характеристик чувствительности матричных фотоприемных устройств с низким значением отношения сигнал/шум перед исследователями возникает задача фильтрации шума с сохранением положения границ и максимума чувствительности. В исследовании проведено сравнение методик фильтрации спектральных характеристик чувствительности: метода скользящего среднего и его вариаций, интерполяция сплайнами, методика расчёта по кривым Безье, метод Савицкого-Голея. Установлены критерии выбора неразрушающей расчетной методики, не вносящей погрешность в значения границ диапазона и максимума чувствительности МФПУ. Выбран и обоснован оптимальный метод пересчёта спектральных характеристик чувствительности матричных фотоприемных устройств.

Формат документа: pdf
Год публикации: 2016
Кол-во страниц: 1
Загрузил(а): Никонов Антон
Язык(и): Русский, Английский
Оценка влияния параметров структуры на рабочий режим лавинного фотодиода с раздельными областями умножения и поглощения

В результате рассмотрения структуры лавинного фотодиода на основе InGaAs/InP с раздельными областями поглощения и умножения проведена оценка дозы легирующей примеси в зарядовом слое, допустимый диапазон значений которой при заданном коэффициенте умножения определяется толщиной области умножения и напряженностью поля в области поглощения. Показано, что для снижения рабочего напряжения ЛФД необходимо уменьшать толщины слоя умножения и зарядового слоя. При этом ограничением для толщины слоя умножения является допустимая напряженность поля, а для зарядового слоя при оптимальной дозе – точность воспроизведения его толщины.

Формат документа: pdf
Год публикации: 2016
Кол-во страниц: 1
Загрузил(а): Макаров Михаил
Язык(и): Русский, Английский