SCI Библиотека

Настоящая работа посвящена исследованию влияния режимов напыления на свойства функциональных покрытий в плазменном реакторе, основанном на распылительном источнике (магнетроне) и индуктивном ВЧ-разряде с внешним магнитным полем, являющимся источником потока ассистирующих ионов. Получены образцы функциональных покрытий, изготовленных при работе только распылительного источника и при совместной работе распылительного и плазменного источников. Проведено сравнение свойств таких покрытий. Представлены результаты напыления пленок из титана. Получено, что с ростом величины потока ассистирующих ионов, который определялся мощностью ВЧ-генератора, увеличивается удельное сопротивление пленок титана, а также их микротвердость. Показано, что облучение пленок потоком ускоренных ионов приводит к уменьшению размера зерна напыляемых покрытий, а также к уменьшению содержания примесей.

Данное исследование посвящено изучению текущего состояния предприятий промышленности в Чеченской Республике, выявлению положительных и отрицательных тенденций в развитии, эффективности работы промышленных предприятий, а также выработке предложений по повышению их эффективности.

Целью данной работы является анализ направлений повышения эффективности функционирования промышленных предприятий, а также мероприятий, направленных на совершенствование организации производственных процессов, применение инновационных технологий для повышения их эффективности. Кроме того, рассматривается проблематика развития интеллектуального капитала в эпоху цифровизации глобального пространства в разрезе повышения конкурентоспособности промышленных предприятий. Рассмотрены механизмы по обеспечению формирования, развития и использования интеллектуального капитала в условиях цифровой трансформации как основы повышения конкурентных преимуществ промышленных предприятий страны. Это обуславливает необходимость и актуальность дальнейших научных поисков в области разработки адаптивных теоретико-методических подходов и практических рекомендаций, позволяющих эффективно организовать рабочий процесс на промышленных предприятиях в условиях формирования цифровой среды. В исследовании проведено изучение возможностей развития интеллектуального капитала промышленных предприятий, в котором ключевыми являются их трансформированный человеческий капитал в сочетании с процессами цифровизации как весомые источники повышения конкурентоспособности промышленных предприятий. Практическая значимость исследования заключается в возможности использования предложенных механизмов для обеспечения эффективности формирования, развития и использования интеллектуального капитала с имплементированными цифровыми знаниями в повышении эффективности деятельности промышленных предприятий и формировании конкурентных преимуществ. Результаты исследования позволяют лучше и целенаправленнее влиять на повышение эффективности промышленных предприятий за счет использования инновационных форм и могут быть использованы в рамках отраслевых программ, разрабатываемых министерствами и ведомствами, направленных на стратегическое управление экономикой и промышленностью. Методами исследования являются метод научной абстракции, методы анализа и синтеза, метод системного анализа. Научная новизна заключается в разработке комплексно-целостного подхода по обеспечению трансформации промышленных предприятий за счет синтеза с цифровыми технологиями, использование которого позволило бы ускорить развитие промышленных предприятий Чеченской Республики.

Исследована кинетика образования гидроксил-радикалов в воде под действием импульсного разряда в парогазовых пузырьках, формирующихся у поверхности погруженного в воду графитового электрода. Реакция окисления гексацианоферрата (II) калия использовалась для определения концентрации и скорости образования ОН-радикалов в жидкой фазе. Для оценки мощности, рассеиваемой в разряде, измерены временные зависимости тока, протекающего через разрядную ячейку, напряжения, приложенного к электродам, и интегральной интенсивности излучения разряда. Рассчитаны выходы ОН-радикалов на 100 эВ вложенной в плазму энергии. Найдено, что с увеличением мощности от 13 до 100 Вт скорость генерации радикалов растет в интервале (2,8–34,8)10-7 моль/(л с), а их выход слабо зависит от мощности и составляет 0,12  0,03 частица / (100 эВ).

С быстрым развитием экономики и общества уровень науки и техники в стране стремительно развивается, особенно заметно развитие компьютерных электронных информационных технологий. Широко используются компьютерные электронные информационные технологии. Они необходимы во всех сферах жизни страны, а производство и жизнь людей неотделимы от компьютерных электронных информационных технологий. Однако в области управления инженерией применение компьютерных электронных информационных технологий пока не получило широкого распространения, существует много проблем в практическом применении, а их применение в работе по управлению инженерией относительно невелико, а роль науки и техники не задействована. В данной статье на основе соответствующего содержания компьютерных электронных информационных технологий и инженерного менеджмента обсуждается применение компьютерных электронных информационных технологий в инженерном менеджменте.

Проведен анализ процессов в плазме вакуумной дуги, которые, возможно, приводят к образованию и росту фрактальных агрегатов. В основе анализа лежат результаты, полученные при исследовании катодного пятна и структуры пылевых частиц плазмы дугового разряда. Одна из возможных причин формирования фрактальных структур – возникновение токовых слоев и капельных пятен при сближении катодных пятен. Поток ионов между сближающимися катодными пятнами дугового разряда при их движении по плоскости распыляемого катода можно рассматривать как токовые слой. Магнитное поле, создаваемое токовым слоем, является источником энергии. Диссипация этой энергии означает создание неустойчивости фронта роста, в которых может происходить образование фракталоподобных агрегатов. Этот процесс можно отнести к явлению дрейфово-диссипативной неустойчивости – одному из видов плазменной микронеустойчивости.

Работа посвящена исследованию спектров излучения импульсно-периодического разряда в парах калия, рубидия и цезия. Изучено влияние условий электрического питания на спектральные и световые характеристики ламп. Выявлено, что наибольшей эффективностью в видимом диапазоне обладает импульсно-периодический разряд в парах цезия.

При изучении вольт-амперных характеристик процесса коммутации высоковольтного вакуумного диода плазмой искрового разряда по поверхности диэлектрика обнаружены свидетельства эффективной ионизации остаточного газа излучением катодного пятна, сформированного во вспомогательном разряде. Приведены экспериментальные факты в пользу модели аномального ускорения ионов в вакуумном разряде на искровой стадии.

В работе исследованы плазменные возбуждения в двумерных электронных системах (ДЭС) в квантовых ямах GaAs/AlGaAs при наличии бокового металлического затвора и двумерного слоя доноров, обладающего остаточной проводимостью. Установлено, что слабо проводящий слой доноров может быть использован в качестве прозрачного затвора, позволяющего эффективно управлять концентрацией электронов в ДЭС, и перестраивать плазменную частоту в широких пределах. Установлено, что такой прозрачный затвор не вносит дополнительного вклада в экранирование плазмонов в ДЭС и не возмущает закон дисперсии двумерных плазмонов.

Исследованы рассеяние и волновые свойства субволновых диэлектрических элементов в виде плоских тонких эллипсов, возбуждаемых токами смещения при различных углах падения плоской электромагнитной волны СВЧ-диапазона. Измеренные основные магнитные резонансы в спектре электромагнитных полей плоского эллипса совпадают с рассчитанными резонансными частотами. Вихревые токи смещения приводят к появлению магнитного диполя и возникновению отрицательной магнитной восприимчивости у эллипса. Измерено распределение магнитного поля в ближней волновой зоне эллипса на частоте основного магнитного резонанса. Обнаружена анизотропия рассеяния магнитного поля при различной ориентации эллипса относительно волнового вектора падающей волны.

В статье рассматривается концепция корпоративного маркетплейса как внутренней цифровой платформы, предназначенной для стимулирования предпринимательской активности сотрудников и укрепления корпоративной культуры. Описываются ключевые аспекты его функционирования, в том числе его влияние на мотивацию сотрудников, развитие неформальных связей на рабочем месте и создание позитивной рабочей среды. Особое внимание уделяется организационным нюансам внедрения маркетплейса в корпоративной среде. Кроме того, рассматриваются правовые аспекты функционирования платформы, потенциальные проблемы, с которыми может столкнуться компания при внедрении корпоративного рынка. Основанная на анализе научных исследований и тематических статей, статья демонстрирует, как корпоративный маркетплейс может превратиться не просто в дополнительный инструмент для сотрудников, а стать полноценной экосистемой.