В книге изложены современное состояние, возможности и перспективы использования алмаза в различных областях электроники, оптики и техники. Представлено обобщение опыта существующих и перспективных технических решений по созданию алмазных полупроводниковых пленок, технологии выращивания высококачественных, высокочистых алмазных монокристаллических пленок, их легирования и получения наноструктур. Описаны электрофизические и фотоэлектрические свойства таких структур.
В связи с тем, что основное внимание уделено получению алмазных полупроводниковых пленок методом химического осаждения из газовой фазы (CVD-метод), приведены сведения об основных типах СВЧ реакторов и об организациях (научных группах), работающих на переднем крае технологии и исследований CVD-алмаза. Отмечается уникальность свойств алмаза по сравнению с другими полупроводниковыми материалами для разработки и создания перспективных электронных приборов. Обсуждается основная проблема внедрения алмаза в современные электронику и оптику – отсутствие монокристаллического алмаза в виде пластин большого размера, пригодных для технологии фотолитографии, а также пути ее решения. Книга предназначена для ученых, технологов и инженеров, работающих над созданием оптоэлектронных приборов и устройств полупроводниковой электроники на основе алмаза. Может быть полезна преподавателям, аспирантам и студентам технических вузов, исследователям, инженерам и разработчикам.
