Читать онлайн

Рассматривается полупроводниковый p–n-переход, через который течет флуктуирующий ток неосновных носителей. Показано, что уравнение, связывающее концентрацию дырок вблизи перехода и плотность тока, имеет вид интегрального стохастического уравнения, а изменение плотности тока, обусловленное тепловой диффузией дырок, носит характер немарковского случайного процесса. Найдены статистические характеристики таких изменений для случая модели постоянной напряженности электрического поля вблизи перехода.

We consider a semiconductor p-n-junction, which flows through the fluctuating current of minority carriers. It is shown that the equation relating the concentration of holes near the junction and the current density is given by the integral stochastic equation, and the change in current density due to the thermal diffusion of the holes is in the nature of non-Markovian stochastic process. Statistical characteristics of such changes for the case of a constant model of the electric field near the junction are found.

Ключевые фразы: p–n-переход, диффузия, немарковский процесс
Автор (ы): Морозов Андрей Николаевич, Скрипкин Алексей Владимирович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
538.935. электронные
eLIBRARY ID
23330586
Для цитирования:
МОРОЗОВ А. Н., СКРИПКИН А. В. ДИФФУЗИОННЫЕ ТОКИ В P–N-ПЕРЕХОДАХ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2015. №2
Текстовый фрагмент статьи
Моя история просмотров (10)