Статья: Исследование влияния глубины диффузии на параметры матричных фотодиодов на основе InGaAs/InP (2015)

Читать онлайн

В статье исследуется повышенная взаимосвязь между элементами фоточувствительной матрицы. Установлена причина этого явления: смыкание элементов матрицы из-за боковой диффузии. Выбраны оптимальные величины параметров, а именно, глубина диффузии примеси менее 2,5 мкм и расстояние между p+-областями соседних элементов матрицы 1 мкм, что обеспечило минимальный уровень взаимосвязи без потерь в обнаружительной способности.

Consideration is given to an increased interrelation between the array cells. A cause of this phenomenon has been ascertained: it is a linkage of the photo-sensitive array cells due to sideways diffusion. The optimal diffusion depth of 2.5 m and the distance between p+-areas of neighboring array cells of 1 m have been selected, thus ensuring a minimal interrelation level without loss of detectability.

Ключевые фразы: МАТРИЦА, взаимосвязь фоточувствительных элементов, дефектные элементы, сопротивление взаимосвязи, рабочее напряжение, темновой ток
Автор (ы): Андреев Дмитрий Сергеевич, Хакуашев Павел Евгеньевич, Чинарева Инна Викторовна, Тришенков Михаил Алексеевич
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.383. Фотоэлектроника
eLIBRARY ID
23330604
Для цитирования:
АНДРЕЕВ Д. С., ХАКУАШЕВ П. Е., ЧИНАРЕВА И. В., ТРИШЕНКОВ М. А. ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ГЛУБИНЫ ДИФФУЗИИ НА ПАРАМЕТРЫ МАТРИЧНЫХ ФОТОДИОДОВ НА ОСНОВЕ INGAAS/INP // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2015. №2
Текстовый фрагмент статьи