Статья: Влияние температуры осаждения индия на морфологию наноразмерных гетероструктур InAs/GaAs, полученных капельным методом в условиях МОС-гидридной эпитаксии (2015)

Читать онлайн

Исследовано влияние температуры разложения триметила индия на геометрию и морфологию массива квантовых точек InAs, выращиваемых капельным методом на поверхности подложки GaAs в условиях МОС-гидридной эпитаксии. Подтверждены теоретические расчеты по степени разложения триметила индия при температуре ниже 300 оС.

Influence of TMI decomposition temperature on geometry and morphology of InAs QD array grown by droplet MOCVD epitaxy was investigated. It was confirmed that theoretical calculations of TMI decomposition level versus temperature are in a good accordance with experiment.

Ключевые фразы: гетероструктуры inasgaas, квантовые точки, мос-гидридная эпитаксия, капельный метод
Автор (ы): Сурнина Мария Александровна, Сизов Александр Леонидович, Акчурин Рауф Хамзинович, Багаев Тимур Анатольевич
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
621.382. Электронные элементы, использующие свойства твердого тела. Полупроводниковая электроника
eLIBRARY ID
23330606
Для цитирования:
СУРНИНА М. А., СИЗОВ А. Л., АКЧУРИН Р. Х., БАГАЕВ Т. А. ВЛИЯНИЕ ТЕМПЕРАТУРЫ ОСАЖДЕНИЯ ИНДИЯ НА МОРФОЛОГИЮ НАНОРАЗМЕРНЫХ ГЕТЕРОСТРУКТУР INAS/GAAS, ПОЛУЧЕННЫХ КАПЕЛЬНЫМ МЕТОДОМ В УСЛОВИЯХ МОС-ГИДРИДНОЙ ЭПИТАКСИИ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2015. №2
Текстовый фрагмент статьи