Статья: Исследование кривизны поверхности гетероэпитаксиальных структур InP/InGaAs, Al2O3/AlxGa1-xN (2016)

Читать онлайн

В работе представлены результаты исследований кривизны поверхности пластин с гетероэпитаксиальными структурами (ГЭС) AlGaN и InGaAs, выращенными методами МОС гидридной и молекулярно-лучевой эпитаксии, а также матриц фотоприемников, изготовленных на основе выше обозначенных ГЭС. Показано, что в процессе роста функциональных слоев пластины изгибаются. Так пластины с функциональными слоями InGaAs на подложке InP имеют вогнутый вид. Тогда как пластины с функциональными слоями AlGaN на сапфировой подложке имеют выпуклый вид со стороны ГЭС. В процессах роста функциональных слоев AlхGa1-х N на сапфировой подложке возникают растягивающие напряжения. Для процессов роста функциональных слоев InхGa1-хAs на подложке из фосфида индия характерны растягивающие напряжения. Величина прогиба пластин зависит как от способа выращивания, так и от толщин функциональных слоев ГЭС. Величина прогиба структур диаметром 52 мм в зависимости от способа выращивания и толщин слоев лежит в пределах 7—60 мкм. Измерения профиля кривизны изготовленных матричных фоточувствительных элементов на основе InGaAs и AlGaN формата 320256 с шагом 30 мкм показали, что величина прогиба на матрицах hl не превышает 1,02,5 мкм. Величина прогиба на матрицах определяется исходной кривизной поверхности пластин.

Consideration is given to researches of a surface curvature for plates with the heteroepitaxial AlxGa1-xN layers on sapphire and heteroepitaxial InхGa1-хAs layers on indium phosphed. It is shown that cultivation of the heteroepitaxial AlxGa1-xN layers on sapphire leads to formation of stretching stresses, and the heteroepitaxial InхGa1-хAs layers on indium phosphed to compressing. It leads to a curvature of a surface of plates with heteroepitaxial layers InхGa1-хAs from 17 to 44 microns and from 7 to 60 microns of layers AlxGa1-xN.

Ключевые фразы: гетероэпитаксиальная структура, ГЭС, AlGaN, InGaAs, кривизна поверхности
Автор (ы): Шаронов Юрий Павлович, Макарова Элина Алексеевна, Седнев Михаил Васильевич, Ладугин Максим Анатольевич, Яроцкая Ирина Валентиновна
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
621.383. Фотоэлектроника
eLIBRARY ID
27634007
Для цитирования:
ШАРОНОВ Ю. П., МАКАРОВА Э. А., СЕДНЕВ М. В., ЛАДУГИН М. А., ЯРОЦКАЯ И. В. ИССЛЕДОВАНИЕ КРИВИЗНЫ ПОВЕРХНОСТИ ГЕТЕРОЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СТРУКТУР INP/INGAAS, AL2O3/ALXGA1-XN // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2016. №6
Текстовый фрагмент статьи