Архив статей

Эпитаксиальные структуры для лавинных фотодиодов на основе InGaAs/InP (2016)
Выпуск: №1 (2016)
Авторы: Будтолаев Андрей Константинович, Хакуашев Павел Евгеньевич, Чинарева Инна Викторовна, Горлачук Павел Владимирович, Ладугин Максим Анатольевич, Мармалюк Александр Анатольевич, Рябоштан Юрий Леонидович, Яроцкая Ирина Валентиновна

В настоящей работе приведены экспериментальные исследования влияния режимов МОСгидридной эпитаксии на структурные и электрофизические свойства гетероструктур InGaAs/InP. Выбранные режимы использовались для выращивания приборных структур, на которых изготовлены планарные лавинные фотодиоды. По результатам измерения их фотоэлектрических характеристик был сделан вывод о возможности использования разработанных структур для изготовления планарных лавинных фотодиодов.

Сохранить в закладках