Статья: Исследование параметров плазмы индуктивного ВЧ-источника плазмы диаметром 46 см. Часть I. Параметры плазмы в области скин-слоя (2013)

Читать онлайн

В работе представлены результаты экспериментального исследования эффективной температуры и концентрации электронов в области скин-слоя индуктивного ВЧ-разряда в инертных газах. Диапазон рассмотренных давлений 0.3─1000 мТорр. Результаты измерений проявили немонотонную зависимость параметров плазмы от давления. Показано, что при давлениях, соответствующих минимуму электронной температуры, частота упругих столкновений в аргоне и криптоне ниже, чем в гелии, вследствие эффекта Рамзауэра.

The experimental investigations of the effective electron temperature and the electron density in the skin layer of the inductive RF discharge in inert gases are represented in this paper. The range of pressure was 0.3–1000 mTorr. The results of research demonstrated non-monotonic plasma parameters dependence on pressure. It was shown that the elastic collision frequency in argon and krypton was lower than in helium at the pressures corresponding to the electron temperature minimum due to the Ramsauer effect.

Ключевые фразы: индуктивный, емкостной, высокочастотный, разряд, плазма, электронная температура, концентрация
Автор (ы): Александров Андрей Фёдорович (Aleksandrov A. F.), Вавилин Константин Викторович, Кралькина Елена Александровна, Неклюдова Полина Алексеевна, Павлов Владимир Борисович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
537.525.99. Прочие виды разрядов в газах при пониженном давлении
Для цитирования:
АЛЕКСАНДРОВ А. Ф., ВАВИЛИН К. В., КРАЛЬКИНА Е. А., НЕКЛЮДОВА П. А., ПАВЛОВ В. Б. ИССЛЕДОВАНИЕ ПАРАМЕТРОВ ПЛАЗМЫ ИНДУКТИВНОГО ВЧ-ИСТОЧНИКА ПЛАЗМЫ ДИАМЕТРОМ 46 СМ. ЧАСТЬ I. ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ В ОБЛАСТИ СКИН-СЛОЯ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2013. №5
Текстовый фрагмент статьи
Моя история просмотров (10)
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.