Представлена и численно исследована модель релаксации фотопроводимости пористого кремния, в которой учитывается рекомбинация фотоносителей на поверхности цилиндрических пор при синусоидально модулированном потоке света. Методом конечных элементов рассчитана частотная зависимость фотопроводимости пористого кремния и зависимость частоты модуляции света, при которой переменная составляющая фотопроводимости уменьшается вдвое при увеличении скорости поверхностной рекомбинации, а также при изменении радиуса пор и среднего расстояния между ними.
The model of relaxation of photoconductivity of porous silicon, in which recombination of photocarriers is taken into account on the surface of cylindrical pores at the sinusoidally modulated beam of light, is presented and numerically investigated. By the fi nite elements method it is calculated frequency dependence of photoconductivity of porous silicon and dependence of the frequency modulation of light in which the variable component of the photoconductivity decreases by half on the surface recombination velocity, as well as on the radius of pores and average distance between them.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.