Статья: Матричные планарные и мезаструктуры на основе гетероэпитаксиальных слоев InGaAs (2013)

Читать онлайн

Исследованы характеристики матричных фотоприемных устройств формата 320×256 элементов с шагом 30 мкм на основе InGaAs, чувствительных в спектральном диапазоне 0,9─1,7 мкм. Матрицы фоточувствительных элементов (МФЧЭ) изготавливались по планарной и мезатехнологии. Измерены распределения темнового тока и спектральные характеристики фоточувствительности МФЧЭ при комнатной температуре и температуре охлаждения минус 20 °C. Получены тепловизионные изображения в режиме реального времени

SWIR 320х256 FPAs based on p-i-n photodiodes in InGaAs heterostructures have been developed and investigated. The 1.7 μm InGaAs 2D arrays with 30 μm pitches were made by planar and mesa-technology from the lattice matched In0.53Ga0.47As/InP epi-wafers grown by MOCVD, sensitive to the wavelength range of 0.9–1.7μm. Low-dark current material systems were ideal for high sensitivity and low noise applications. Dark-current distributions were measured both at room and –20 °C operation temperatures. IR- images were taken to demonstrate the operability of developed FPA

Ключевые фразы: InGaAs, коротковолновый инфракрасный спектральный диапазон, гетероэпитаксиальные структуры, ГЭС, p─i─n-фотодиод, матрица фоточувствительных элементов, фотоприемное устройство, ФПУ
Автор (ы): Болтарь Константин Олегович (Boltar K.), Чинарева Инна Викторовна, Лопухин Алексей Алексеевич, Яковлева Наталья Ивановна
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
Для цитирования:
БОЛТАРЬ К., ЧИНАРЕВА И. В., ЛОПУХИН А. А., ЯКОВЛЕВА Н. И. МАТРИЧНЫЕ ПЛАНАРНЫЕ И МЕЗАСТРУКТУРЫ НА ОСНОВЕ ГЕТЕРОЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ INGAAS // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2013. №5
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.