Статья: Ионно-пучковые методики ускорительного комплекса HVEE-500 НИИЯФ МГУ (2013)

Читать онлайн

Приведено описание введенного в эксплуатацию экспериментального комплекса HVEE- 500 НИИЯФ МГУ, позволяющего исследовать поверхности и тонкие пленки с разрешением по глубине вплоть до 1─2 монослоев. В комплексе предусмотрена возможность проведения in situ экспериментов по взаимодействию ионных пучков с покрытиями и исследования их с применением ионно-пучковых методик. Имплантация ионов от 1 до 250 атомной единицы массы проводится в мишени с размерами до 150х150 мм с однородностью дозы по этой площади не хуже 99%.

Description of commissioned experimental complex HVEE-500 SINP MSU, allowing to explore the surface and thin fi lms with a resolution by the depth of up to 1–2 monolayers. The complex provides for the possibility of in situ experiments on the interaction of ion beams with coatings and study them with the use of ion beam techniques. Implantation of ions from 1 to 250 atomic mass units is performed in the target dimensions up 150х150 mm with homogeneity dose of this area no less 99%.

Ключевые фразы: ионная имплантация, резерфордовское обратное рассеяние, спектроскопия рассеяния ионов средних энергий, модификация и анализ поверхности
Автор (ы): Шемухин Андрей Александрович (SHemuhin A. A.), Черных Павел Николаевич, Черныш Владимир Савельевич, Балакшин Юрий Викторович, Назаров Антон Викторович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
539.534.9. Действие пучков ионов
Для цитирования:
ШЕМУХИН А. А., ЧЕРНЫХ П. Н., ЧЕРНЫШ В. С., БАЛАКШИН Ю. В., НАЗАРОВ А. В. ИОННО-ПУЧКОВЫЕ МЕТОДИКИ УСКОРИТЕЛЬНОГО КОМПЛЕКСА HVEE-500 НИИЯФ МГУ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2013. №5
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.