Архив статей

ПАРАМЕТРЫ, КИНЕТИКА, ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ И МАТЕМАТИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ НЕРАВНОВЕСНОЙ ПЛАЗМЫ СВОБОДНО ЛОКАЛИЗОВАННОГО СВЧ-РАЗРЯДА В ВОЗДУХЕ (1994)

С использованием традиционных и специальных диагностических методов проведено систематическое исследование параметров и кинетики неравновесной плазмы микроволнового разряда в молекулярных газах в условиях свободного пространства при различных давлениях, длинах волн и режимах излучения. Показано, что имеется возможность контроля геометрических размеров, скорости их распространения, электронной концентрации и нагрева нейтральной компоненты путем выбора соответствующих параметров разряда. Полученные данные приводят к выводу, что для высоких значений приведенного электрического поля тушение электронно­возбужденных уровней молекул является одним из главных механизмов нагрева газа при импульсном разряде в воздух

Математическое моделирование индуктивного ВЧ-разряда, помещенного во внешнее магнитное поле, посредством программы КАРАТ (2015)

В работе представлены результаты математического моделирования PIC-методом пространственного распределения параметров плазмы и ВЧ-полей в индуктивном ВЧ-разряде, помещенном во внешнее магнитное поле. Показано, что с ростом величины внешнего магнитного поля происходит смещение максимальных значений плотности плазмы по радиусу к стенкам источника плазмы, а по оси разряда — от антенны в центральные части разряда. Закономерности изменения плотности плазмы коррелируют с изменениями пространственного распределения ВЧ-поля.

Исследование параметров плазмы «геликонного» разряда в макете ВЧ гибридной плазменной системы (2015)

В работе представлены результаты экспериментального исследования параметров плазмы «геликонного» разряда в макете ВЧ гибридной плазменной системы, оснащенном соленоидальной антенной. Показано, что с ростом величины внешнего магнитного поля происходит формирование плазменного «столба» и смещение максимальных значений ионного тока по оси разряда в сторону нижнего фланцу макета. Изменение конфигурации магнитного поля позволяет управлять формой плазменного столба.