Лазерное плазмохимическое травление материалов электронной техники на примере алмаза и сапфира (2021)
В работе рассмотрены вопросы лазерного плазмохимического травления материалов электронной техники на примере разделения пластин алмаза и сапфира на кристаллы. В основе разработанного метода лежит физическое явление – оптический пробой в специально подобранных газовых средах, в которых поджигается плазма и производится плазмохимическое травление материалов подложек (пластин) с образованием летучих продуктов химических реакций и их эвакуацией с помощью вакуумной системы. Работы проводились в диапазоне рабочих давлений 110-3–110-1 Торр. В качестве рабочих сред использовались фторидные системы: (SF6 + O2; CClF3 + O2; F2 и т. д.), чистый кислород (О2) и водород (Н2). Обе системы – фторидная и кислородная «работают» хорошо для алмаза. Водородная система предпочтительна для сапфира.
The work addresses the issues of laser plasma etching of electronic materials on the example of the separation of diamond and sapphire plates into crystals. The developed method is based on a physical phenomenon – an optical breakdown in specially selected gas environments in which plasma is set on fire and plasma etching of sub-base materials (plates) with the formation of volatile products of chemical reactions and their evacuation by vacuum system.
The work was carried out in the range of working pressures of 110-3–110-1 Torr. Fluoride systems were used as work environments: (SF6/O2; CClF3/O2; F2, etc.) and pure oxygen (O2). Both the system – fluoride and oxygen “work” well. The oxygen system is preferable for eco-nomic and environmental reasons.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- УДК
- 533. Механика газов. Аэродинамика. Физика плазмы
53.02. Общие законы физических явлений
53.04. Действия явлений, эффекты
53.06. Использование явлений в практических целях - Префикс DOI
- 10.51368/1996-0948-2021-1-12-16
- eLIBRARY ID
- 44833476