Читать онлайн

Авторами исследовалась имплантация ионов бериллия в InP с последующим отжигом с целью ее использования для формирования охранного кольца в планарном лавинном фотодиоде (ЛФД) на основе структур n-InP/n-InGaAs/n+-InP. Проведен качественный анализ изменения профилей легирования в зависимости от температуры и времени отжига. Рассмотрены процессы, происходящие в InP при его легировании бериллием с последующим отжигом имплантированных слоев.

Consideration is given to implantation of beryllium in the InP structure. A consequent anneal of this structure has been made to form a guard ring in a planar avalanche photodiode on the base of the n-InP/n-InGaAs/n+-InP heteroepitaxial structure. A qualitative analysis of change of alloying profile has been presented in relation to a temperature and an anneal time.

Ключевые фразы: бериллий, ионная имплантация, фосфид индия, лавинные фотодиоды, отжиг имплантированных слоев, профиль легирования
Автор (ы): Будтолаева Анна Константиновна (Budtolaeva A. K.), Хакуашев Павел Евгеньевич, Чинарева Инна Викторовна
Журнал: УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
eLIBRARY ID
23420542
Для цитирования:
БУДТОЛАЕВА А. К., ХАКУАШЕВ П. Е., ЧИНАРЕВА И. В. ИССЛЕДОВАНИЕ ИМПЛАНТАЦИИ БЕРИЛЛИЯ В INP // УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ. 2015. ТОМ 3, №2
Текстовый фрагмент статьи