Авторами исследовалась имплантация ионов бериллия в InP с последующим отжигом с целью ее использования для формирования охранного кольца в планарном лавинном фотодиоде (ЛФД) на основе структур n-InP/n-InGaAs/n+-InP. Проведен качественный анализ изменения профилей легирования в зависимости от температуры и времени отжига. Рассмотрены процессы, происходящие в InP при его легировании бериллием с последующим отжигом имплантированных слоев.
Consideration is given to implantation of beryllium in the InP structure. A consequent anneal of this structure has been made to form a guard ring in a planar avalanche photodiode on the base of the n-InP/n-InGaAs/n+-InP heteroepitaxial structure. A qualitative analysis of change of alloying profile has been presented in relation to a temperature and an anneal time.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 23420542
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.