Статья: Высокостабильные фоторезисторы диапазона 8—12 мкм из ГЭС КРТ МЛЭ (2015)

Читать онлайн

Разработаны фоторезисторы для диапазона спектра 8—12 мкм из гетероэпитаксиальных структур CdxHg1-xTe, полученных молекулярно-лучевой эпитаксией. Применение в качестве защитного покрытия поверхности чувствительных элементов собственного анодного окисла обеспечивает вместе с другими методами высокие чувствительность параметров фоторезисторов и их сохраняемость.

Consideration is given to stability of photoresistors developed for the 8-12 μm spectrum from CdxHg1-xTe hetero-structures which are received by molecular-beam epitaxial growth. Sheeting the sensitive element surface by own anode oxide provides together with others processes high sensitivity of photoresistors and their stability.

Ключевые фразы: гетероэпитаксиальные структуры, кадмий-ртуть-теллур, чувствительность фоторезисторов, стабильность параметров
Автор (ы): Филатов Александр Владимирович (Filatov A. V.), Сусов Евгений Васильевич, Акимова Наталия Михайловна, Карпов Владимир Владимирович, Шаевич Владимир Игоревич
Журнал: УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.383.49. Прочие фоторезисторы, например сверхвысокочувствительные (со сверхпроводимостью)
621.793.162. с помощью химических реакций. Эпитаксиальные пленки
eLIBRARY ID
23420541
Для цитирования:
ФИЛАТОВ А. В., СУСОВ Е. В., АКИМОВА Н. М., КАРПОВ В. В., ШАЕВИЧ В. И. ВЫСОКОСТАБИЛЬНЫЕ ФОТОРЕЗИСТОРЫ ДИАПАЗОНА 8—12 МКМ ИЗ ГЭС КРТ МЛЭ // УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ. 2015. ТОМ 3, №2
Текстовый фрагмент статьи