Разработаны фоторезисторы для диапазона спектра 8—12 мкм из гетероэпитаксиальных структур CdxHg1-xTe, полученных молекулярно-лучевой эпитаксией. Применение в качестве защитного покрытия поверхности чувствительных элементов собственного анодного окисла обеспечивает вместе с другими методами высокие чувствительность параметров фоторезисторов и их сохраняемость.
Consideration is given to stability of photoresistors developed for the 8-12 μm spectrum from CdxHg1-xTe hetero-structures which are received by molecular-beam epitaxial growth. Sheeting the sensitive element surface by own anode oxide provides together with others processes high sensitivity of photoresistors and their stability.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.