Статья: Электронно-лучевое испарение бора для ионно-плазменного синтеза покрытий в форвакуумной области давлений (2016)

Читать онлайн

Показана возможность получения ионов бора в плазме, создаваемой электронным пучком форвакуумного плазменного источника. Генерация ионов бора осуществлялась в результате электронно-лучевого испарении бора с последующей ионизацией атомов бора этим же пучком ускоренных электронов. Приведены результаты измерения состава пучковой плазмы, полученные с применением модифицированного квадрупольного масс-спектрометра RGA–100. Масс-спектры ионов плазмы при испарении бора демонстрируют появление однозарядных ионов бора, доля которых росла с увеличением плотности мощности пучка. Элементный состав покрытия, осажденного на титановую подложку, показывает присутствие доли атомов бора порядка 30—35 % ат. Постоянство элементного состава покрытия по его толщине свидетельствует о стабильности и равномерности процесса его нанесения. Фотография поверхности титанового образца с осажденным покрытием демонстрирует наличие гладкого сплошного поликристаллического слоя с плоской поверхностью. Результаты свидетельствует об успешном применении форвакуумного электронного источника для испарения бора и осаждения однородного борсодержащего покрытия.

The possibility of producing of boron ions in the plasma produced by the beam of fore-vacuum electron source is demonstrated experimentally. Boron ions were generated by electron beam evaporation of a boron powder from an electron beam heated crucible, followed by impact ionization boron beam of accelerated electrons. The results of studies of the composition of the plasma beam produced using a modified quadrupole the RGA-100 mass spectrometer are presented. Mass spectra of the plasma ions during evaporation of the boron demonstrate the appearance of singly charged boron ions, and the fraction of these ions increased with increasing beam power density. The elemental composition of the coating deposited on the titanium substrate shows the presence of boron atoms with the proportion of 30—35 % at. The constancy of the elemental composition of the coating through its thickness indicates the stability and uniformity of its application process. Photo of titanium sample surface-deposited coating demonstrates a smooth continuous polycrystalline layer with a flat surface. The results indicative the successful use of electronic forevacuum source for boron evaporation and deposition of uniform boron-containing coating.

Ключевые фразы: ионы бора, электронно-лучевое испарение, плазменный источник электронов, форвакуумная область давлений, масс-зарядовый состав ионов плазмы
Автор (ы): Юшков Юрий Георгиевич, Тюньков Андрей Владимирович, Золотухин Денис Борисович, Окс Ефим Михайлович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
533.9.082.74. Использование электромагнитных и электродинамических методов. СВЧ-методы
eLIBRARY ID
26694800
Для цитирования:
ЮШКОВ Ю. Г., ТЮНЬКОВ А. В., ЗОЛОТУХИН Д. Б., ОКС Е. ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЕ ИСПАРЕНИЕ БОРА ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО СИНТЕЗА ПОКРЫТИЙ В ФОРВАКУУМНОЙ ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2016. №4
Текстовый фрагмент статьи