Статья: Фотоэлектрические характеристики МФПУ на основе эпитаксиальных слоев антимонида индия на высоколегированной подложке (2016)

Читать онлайн

Исследованы фотоэлектрические характеристики матричного фотоприемного устройства формата 320256 элементов с шагом 30 мкм с фоточувствительным элементом, изготовленным в эпитаксиальном слое антимонида индия на высоколегированной подложке. Среднее значение эквивалентной шуму разности температур при относительном отверстии диафрагмы 1:0,94 и времени накопления 1,46 мс составило 10,5 мК, количество дефектных элементов — 0,12 %, время корректируемости — более трех часов. Проведено сравнение данного МФПУ с аналогичными серийными МФПУ на основе объемного антимонида индия.

Features of the FPA 320256 InSb detectors created in an epitaxial layer on the high doping substrate have been investigated. The average noise equivalent temperature difference at the integration time of 1.46 ms is 10.5 мК, the number of defects is 0.12 % for FPA 320256 with a cold shield 1:0.94 aperture. Comparison of an epitaxial FPA with a similar serial FPA on the basis of the bulk InSb has been discussed.

Ключевые фразы: МФПУ, эпитаксиальный антимонид индия, фотоэлектрические характеристики
Автор (ы): Бурлаков Игорь Дмитриевич, Болтарь Константин Олегович, Власов Павел Валентинович, Лопухин Алексей Алексеевич, Торопов Александр Иванович, Журавлев Константин Сергеевич, Фадеев Владислав Викторович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.59. Проводники с особо высоким сопротивлением. Полупроводники
621.383.4. Фотоэлементы с внутренним фотоэффектом. Фоторезисторы
eLIBRARY ID
62131559
Для цитирования:
БУРЛАКОВ И. Д., БОЛТАРЬ К., ВЛАСОВ П. В., ЛОПУХИН А. А., ТОРОПОВ А. И., ЖУРАВЛЕВ К. С., ФАДЕЕВ В. В. ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ МФПУ НА ОСНОВЕ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ АНТИМОНИДА ИНДИЯ НА ВЫСОКОЛЕГИРОВАННОЙ ПОДЛОЖКЕ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2016. №3
Текстовый фрагмент статьи