Архив статей

Формирование ленточного электронного пучка форвакуумным плазменным источником электронов (2015)
Выпуск: №1 (2015)
Авторы: Климов А. С., Бурдовицин В., Гришков А. А., Окс Е., Зенин А. А., Юшков Ю. Г.

Представлены результаты численного анализа и экспериментальных исследований по формированию форвакуумным плазменным источником электронов непрерывного ленточного пучка. Определена оптимальная геометрия электродов ускоряющей системы электронного источника, обеспечившая формирование слаборасходящегося ленточного электронного пучка в отсутствие продольного магнитного поля и специальной фокусирующей системы. Результаты численного моделирования подтверждаются данными эксперимента.

Сохранить в закладках
Электронно-лучевое испарение керамики в форвакуумном диапазоне давлений (2016)
Выпуск: №3 (2016)
Авторы: Климов А. С., Зенин А. А., Окс Е., Шандриков М. В., Юшков Ю. Г.

С использованием форвакуумного плазменного источника электронов осуществлен процесс электронно-лучевого испарения алюмооксидной керамики в диапазоне давлений 5—15 Па. При плотности мощности электронного пучка 103 Вт/см2 скорость испарения керамики составляла 4 г/ч. Полученные результаты открывают возможность эффективного нанесения керамических покрытий на основе электронно-пучковых методов.

Сохранить в закладках
Генерация однородной эмиссионной плазмы в разрядной системе с протяженным полым катодом форвакуумного плазменного источника ленточного пучка электронов (2018)
Выпуск: №2 (2018)
Авторы: Климов А. С., Зенин А. А., Окс Е.

Для разрядной системы с протяженным полым катодом, используемой в форвакуумном плазменном источнике ленточного электронного пучка, исследовано влияния геометрии катодной полости и рода плазмообразующего газа на однородность распределение концентрации плазмы в области эмиссионной границы. Показано, что наибольшее влияние на однородность распределения концентрации эмиссионной плазмы оказывает геометрические параметры разрядного промежутка электронного источника. При оптимальной геометрии разрядной системы определен диапазон токов разряда, давления и рода газа, обеспечивающие неоднородность распределения концентрации плазмы не более 20 % от среднего значения.

Сохранить в закладках
Исследование процесса протекания тока через композит на основе Al2O3‒ZrO2 при электронно-лучевом облучении в среднем вакууме (2022)
Выпуск: № 4 (2022)
Авторы: Климов А. С., Бакеев И. Ю., Зенин А. А.

Представлены результаты экспериментального исследования протекания тока через композит Al2O3–ZrO2 с варьируемым составом компонентов от 0 до 100 масс. % в процессе электронно-лучевого воздействия. Электронный пучок формировался форва-куумным плазменным электронным источником на основе тлеющего разряда с полым катодом. Показано, что при нагреве поверхности композита выше 1000 оС заметно возрастает величина протекающего через него тока, достигая величины 1,7 мА.

Величина протекающего тока определяется температурой поверхности, электрофизическим свойствами керамических материалов и соотношением долей каждого компонента. С ростом содержания Al2O3 в композите величина протекающего тока заметно снижается. По температурной зависимости протекающего тока определена энергия активации проводимости Al2O3 и ZrO2, а также их смеси.

Сохранить в закладках