В данной работе приведены результаты по осаждению и исследованию конденсата оксида цинка на монокристаллических подложках сапфира базисной ориентации, помещаемых на поверхность «горячей» мишени ZnO и на водоохлаждаемое основание магнетрона вблизи мишени (метод магнетронного распыления на постоянном токе). На подложках, расположенных на краю «горячей» мишени, формируется плотный массив нитевидных кристаллов (НК) ZnO, ориентированных перпендикулярно подложке. Конденсат ZnO на подложках, помещенных на магнетрон, представляет собой сплошную пленку с хорошо развитой поверхностью, по структурному совершенству заметно уступающей массиву НК ZnO. Данные факторы могут служить стимулом для дальнейшего изучения процессов формирования НК ZnO (без катализатора) на различных подложках, помещенных на поверхность «горячей» мишени ZnO в областях вне зоны эрозии мишени при изменении технологических параметров (состав рабочего газа и его давление, мощность и др.) в широких пределах. При масштабировании процесса распыления «горячих» мишеней станет возможным получение НК ZnO на подложках большей площади (десятки квадратных сантиметров), что важно для практических применений.
Results on a deposition of ZnO by dc-magnetron sputtering on (0001)-sapphire substrates placed on the surface of a “hot” ZnO target and on the water-cooled magnetron base near the target are shown. Formation of a well-oriented ZnO wiskers array on the substrate placed on the “hot” target was found. In the same time, in the case of growth on a substrate placed on the water-cooled magnetron base plate next to the sputtered target, formation of a continuous ZnO film with a well developed surface was observed. The crystal perfection of this film was worse than that of the whisker array grown on the substrate placed directly on the target. The sample grown on the surface of the “hot” target had a narrower and less wide band compared to the sample grown next to the target. The obtained results can serve as stimulus for further study of the processes of the uncatalyst formation of the well-oriented ZnO wiskers array on various substrates placed on the surface of a “hot” ZnO target near the target erosion zone with wide variations of technological parameters (working gas composition and pressure, power, etc.) and possible scaling of the process (up to tens of cm2).
Идентификаторы и классификаторы
В работе осуществлено получение плотного массива НК ZnO без использования катализатора на подложках сапфира базисной ориентации, помещенных на «горячую» мишень ZnO, методом магнетронного распыления на постоянном токе. Заметим, что проведение процесса распыления «горячей» керамической мишени ZnO и размещение подложек на ее поверхности с целью осаждения НК ZnO выполнены впервые. Магнетронные распылительные системы – легко масштабируемая технологя (подразумевающая переход на протяженные мишени больших размеров), что позволит использовать для осаждения НК ZnO подложки больших размеров (с площадью несколько десятков см2). Используя технику передачи механических движений в вакуумную систему, можно осуществить поднесение предварительно нагретой до соответствующей температуры подложки к мишени к моменту ее выхода в режим «горячего» распыления.
Предстоит еще выполнить серию экспериментов с использованием подложек различной природы, ориентации, степенью поверхностной модификации и регулированием технологических параметров (состав рабочего газа и его давление, мощность и др.) в широких пределах. Считаем, что продолжение работы в этом направлении имеет хорошие перспективы как с научной, так и с практической точки зрения.
Список литературы
1. Magnus Willander. Zinc Oxide Nanostructures: Advances and Applications. - CRC Press, 2014.
2. Caofeng P., Lin D., Guang Z., Simiao N., Ruomeng Y., Qing Y., Ying L., Zhong W. // Nature Photonics. 2013. Vol. 10. P. 1038.
3. Dechao Y., Yu Q., Qingyu J., Zhaoshuai G., Wenbin S., Jin X., Yang Z., Qiuxia F., Xiaoling S. //Appl. Phys. Lett. 2017. Vol. 110. P. 063901.
4. Haolei Q., Yewu W., Yanjun F., Lin G., Ren L., Jian S. // J. Appl. Phys. 2015. Vol. 117. P. 164308.
5. Shasti M., Dariani R. S. //J. Appl. Phys. 2017. Vol. 121. P. 064503.
6. Youfan H., Benjamin K., Yuanjie S., Simiao N., Ying L., Zhong W. // Nano Lett. 2013. No. 13. Р. 5026.
7. Huang M. H., Wu Y., Feick H., Tran N., Weber E., Yang P. // Adv. Mater. 2001. Vol. 13. P. 113.
8. Редькин А. Н., Рыжова М. В., Якимов Е. Е., Грузинцев А. Н. // Физика и техника полупроводников. 2013. Т. 47. № 2. С. 216. EDN: RCQWIT
9. Кайдашев В.Е., Кайдашев Е.М., Peres М., Monteiro T., Correia M.R., Sobolev N. A. // ЖТФ. 2009. Т.79. № 11. С. 45. EDN: RCTOGL
10. Sheng X., Zhong W. // Nano Res. 2011. Vol. 10. P. 1227.
11. Sunandan B., Joydeep D. // Sci. Technol. Adv. Mater. 2009. Vol. 10. P. 013001.
12. Anil Kumar G., Ramana Reddy M. V., Katta Narasimha Reddy. // Res. J. Physical Sci. 2013. Vol. 1. No. 6. P. 17.
13. In June Kim, In Soo Kim, Sang Kyun Kim, Se Young Choi // Jpn. J. Appl. Phys. 2009. Vol. 48. P. 08HJ03.
14. Sidelev D. V., Bleykher G. A., Krivobokov V. P., Koishybayeva Z. // Surface & Coatings Technology. 2016. Vol. 308. P. 168. EDN: YUURCB
15. Тумаркин А. В., Ходаченко Г. В., Казиев А. В., Щелканов И. А., Степанова Т. В. // Успехи прикладной физики. 2013. Т. 1. № 3. С. 276. EDN: QZMKPV
16. Bleykher G. A., Krivobokov V. P., Yurjeva A. V., Sadykova I. // Vacuum. 2016. Vol. 11. P. 124.
17. Lapshin A. E., Levitskii V. S., Shapovalov V. I., Komlev A. E., Shutova E. S., Myl’nikov I. L., Komlev A. A. // Glass Physics and Chemistry. 2016. Vol. 42. No. 4. Р. 359. EDN: WVPWDB
18. OmataT., Kita M., Okada H., Otsuka-Yao-Matsuo S. // Thin Solid Films. 2006. Vol. 503. Р. 22. EDN: KHSMLV
19. Исмаилов А. М., Гамматаев С. Л., Рабаданов М. Р., Алиев И. Ш., Эмирасланова Л. Л. // Прикладная физика. 2016. № 3. С. 33. EDN: WCKJQP
1. Magnus Willander, Zinc Oxide Nanostructures: Advances and Applications (CRC Press, 2014).
2. P. Caofeng, D. Lin, Z. Guang, N. Simiao, Y. Ruomeng, Y. Qing, L. Ying, and W. Zhong, Nature Photonics. 10, 1038 (2013).
3. Y. Dechao, Q. Yu, J. Qingyu, G. Zhaoshuai, S. Wenbin, X. Jin, Z. Yang, F. Qiuxia, and S. Xiaoling, Appl. Phys. Lett, 110, 063901 (2017).
4. Q. Haolei, W. Yewu, F. Yanjun, G. Lin, L. Ren, and S. Jian, J. Appl. Phys, 117, 164308 (2015).
5. M. Shasti, and R. S. Dariani, J. Appl. Phys, 121, 064503 (2017).
6. H. Youfan, K. Benjamin, S. Yuanjie, N. Simiao, L. Ying, and W. Zhong, Nano Lett, 13, 5026 (2013).
7. M.H. Huang, Y. Wu, H. Feick, N. Tran, E. Weber, P. Yang, Adv. Mater. 13, 113 (2001).
8. A.N. Redkin, M.V. Rizhova, E.E. Yakimov, A.N. Gruzintsev, Semiconductors 47 (2), 216 (2013).
9. V.E. Kajdashev, E.M. Kajdashev, М. Peres, T. Monteiro, M.R. Correia, and N.A. Sobolev, Tech. Phys. 79 (11), 45 (2009).
10. X. Sheng, and W. Zhong, Nano Res, 10, 1227 (2011).
11. B. Sunandan, and D. Joydeep, Sci. Technol. Adv. Mater., 10, 013001 (2009).
12. G. Anil Kumar, M.V. Ramana Reddy, and K. Narasimha Reddy, Res. J. Physical Sci. 1 (6), 17 (2013).
13. In June Kim, In Soo Kim, Sang Kyun Kim, and Se Young Choi, Jpn. J. Appl. Phys. 48, 08HJ03 (2009).
14. D. V. Sidelev, G. A. Bleykher, V. P. Krivobokov, and Z. Koishybayeva, Surface & Coatings Technology 308, 168 (2016).
15. A. V. Tumarkin, G. V. Hodachenko, A. V. Kaziev, I. A. Shchelkanov, and T. V. Stepanova, Usp. Prikl. Fiz. 3, 276 (2013).
16. G. A. Bleykher, V. P. Krivobokov, A. V. Yurjeva, and I. Sadykova, Vacuum 11, 124 (2016).
17. A. E. Lapshin, V. S. Levitskii, V. I. Shapovalov, A. E. Komlev, E. S. Shutova, I. L. Myl’nikov, and A. A. Komlev, Glass Physics and Chemistry 4, 359 (2016).
18. T. Omata, M. Kita, H. Okada, and S. Otsuka-Yao-Matsuo, Thin Solid Films, 503, 22 (2006).
19. A. M. Ismailov, S. L. Gammataev, M. R. Rabadanov, I. Sh. Aliev, and L. L. Ehmiraslanova, Prikl. Fiz., No. 3, 33 (2016).
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ОБЩАЯ ФИЗИКА
Виноградов С. В., Кононов М. А., Кононов В. М., Савранский В. В., Тишков В. В. Система контроля и управления ростом металлических плёнок на стеклянных призмах для использования в устройствах возбуждения поверхностных плазмонов 5
Шумов И. Д., Канашенко С. Л., Арчаков А. И., Иванов Ю. Д., Плешакова Т. О. Магнетронное напыление металлов на биологические объекты нанометрового размера на примере вируса табачной мозаики 10
Донягин А. М., Борисов В. В., Казинова О., Костромин C. А. Измерение магнитных характеристик элементов бустерного синхротрона комплекса NICA 16
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Баловнев А. В., Башутин О. А., Григорьева И. Г., Салахутдинов Г. Х. Исследование спектрального состава рентгеновского излучения из различных областей плазмы микропинчевого разряда 22
Неклюдова П. А., Кралькина Е. А., Вавилин К. В., Задириев И. И., Никонов А. М. Влияние внешнего магнитного поля на эффективность поглощения высокочастотной мощности в пространственно ограниченном индуктивном источнике плазмы 27
Лапицкий Д. С., Филинов В. С., Василяк Л. М., Сыроватка Р. А., Депутатова Л. В., Владимиров В. И., Печеркин В. Я. Расчет термодинамических величин заряженных структур микрочастиц в электродинамических ловушках 32
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Будтолаев А. К., Кравченко Н. В., Хакуашев П. Е., Чинарева И. В. Методики расчета и контроля разностной дозы примеси в лавинных InGaAs/InP структурах 37
Гасанов О. М., Адгезалова Х. А., Гусейнов Дж. И., Дашдемиров А. О. Влияние атомов Gd на фоточувствительность монокристалла SnS 42
Голицын А. А., Цивинский М. Ю. Алгоритм сглаживания увеличенного изображения в тракте видеообработки цифрового прибора наблюдения 46
Ложников В. Е. Оптическая система установки измерения параметров фотоприемного устройства в гетеродинном режиме на длине волны 10,6 мкм 51
МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ
Калмыков Р. М., Кармоков А. М. Влияние изотермического отжига на электропроводность и термо-ЭДС PbTe, легированного CdSe 55
Буташин А. В., Муслимов А. Э., Колымагин А. Б., Бизяев Д. А., Хайбулин Р. И., Просеков П. А., Каневский В. М. Структура и магнитные свойства наноразмерных пленок ферритов кобальта и никеля на сапфировых подложках 60
Панькин Н. А., Смоланов Н. А., Мишкин В. П. Микроструктура и фазовый состав (Zr, N)-конденсата, полученного вблизи эмитирующего катода 66
Исмаилов А. М., Гамматаев С. Л., Асваров А. Ш., Гираев К. М., Алиев И. Ш., Рабаданов М. Х. Формирование нитевидных кристаллов оксида цинка на подложках сапфира, помещенных на мишень при «горячем» распылении 73
Седнев М. В., Атрашков А. С. Применение вакуумных методов напыления при формировании топологии элементов микросхем 78
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Никифорова М. Ю. Чувствительный элемент датчика мощности дозы гамма-излучения 83
Самвелов А. В., Минаев Д. В., Кошелев П. А., Баранов И. В., Баранов А. Ю., Пахомов О. В. Исследование микрокриогенной системы Стирлинга в расширенном диапазоне температур криостатирования 89
Краснов А. А., Семенов А. М. Исследование свойств нераспыляемых геттеров на базе титантантала 94
ПЕРСОНАЛИИ
Юбилей А. С. Бугаева 102
ИНФОРМАЦИЯ
Правила для авторов 103
Подписка на электронную версию журнала 106
C O N T E N T S
GENERAL PHYSICS
S. V. Vinogradov, M. A. Kononov, V. M. Kononov, V. V. Savransky, and V. V. Tishkov Thin film growth control and manage system for glass prism preparation for surface plasmon applications 5
I. D. Shumov, S. L. Kanashenko, A. I. Archakov, Yu. D. Ivanov, and Т. О. Pleshakova Magnetron sputtering of melals on biological objects of nanometer size using the example of tobacco mosaic virus 10
A. M. Donyagin, V. V. Borisov, O. Kazinova, and S. A. Kostromin Measurements of magnetic field parameters of the NICA booster dipole magnet 16
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
A. V. Balovnev, O. A. Bashutin, I. G. Grigoryeva, and G. Kh. Salakhutdinov Investigation of the X-ray spectrum in various plasma regions of a micropinch discharge 22
P. A. Nekliudova, E. A. Kralkina, K. V. Vavilin, I. I. Zadiriyev, and A. M. Nikonov Effect of an external magnetic field on the efficien-cy of absorption of high-frequency power in a spatially limited inductive plasma source 27
D. S. Lapitsky, V. S. Filinov, L. M. Vasilyak, R. A. Syrovatka, L. V. Deputatova, V. I. Vladimirov, and V. Ya. Pecherkin Calculation of thermodynamic properties of a structure of charged microparticles in electrodynamic traps 32
PHOTOELECTRONICS
A. K. Budtolaev, N. V. Kravchenko, P. E. Khakuashev, and I. V. Chinareva Methods of calculation and control of the impurity differ-ence dose in avalanche InGaAs/InP structures 37
O. M. Gasanov, H. A. Adgezalova, Dzh. I. Guseynov, and A. O. Dashdemir Influence of Gd atoms on photosensitivity of the SnS single crystal 42
A. A. Golitsyn and M. Y. Tsivinsky The algorithm for smoothing the enlarged image in the video processing path of the digital surveil-lance device 46
V. E. Lozhnikov Optical system for measurements of the photodetector devices parameters in the heterodyne mode at a wavelength of 10.6 µm 51
MATERIALS SCIENCE
R. M. Kalmykov and A. M. Karmokov Influence of isothermal annealing on electrical conductivity and thermoelectric power of PbTe doped CdSe 55
A. V. Butashin, A. E. Muslimov, A. B. Kolymagin, D. A. Bizyaev, R. I. Khaibullin, P. A. Prosekov, and V. M. Kanevski Structure and magnetic properties of the Co, Ni ferrite films formed on sapphire substrates 60
N. A. Pankin, N. A. Smolanov, and V. P. Mishkin Microstructure and phase composition of (Zr, N)-condensate obtained near the emitting cathode 66
A. M. Ismailov, S. L. Gammataev, A. Sh. Asvarov, K. M. Giraev, I. Sh. Aliev, and M. Xh. Rabadanov Formation of filamentary zinc oxide crystals on sapphire substrates placed on the target during hot sputtering 73
M. V. Sednev and A. S. Atrashkov Application of vacuum methods of sputtering in the formation of the topology of the elements of microcircuits 78
PHYSICAL APPARATUS AND ITS ELEMENTS
M. U. Nikiforova Gamma radiation sensor 83
A. V. Samvelov, D. V. Minaev, P. A. Koshelev, I. V. Baranov, A. J. Baranov, and O. V. Pahomov Investigation of the microcryogenic Stirling system in the extended cryostat temperature range 89
A. A. Krasnov and A. M. Semenov Investigation of properties of the non-evaporable titanium-tantalum getters 94
PERSONALIA
Anniversary A. S. Bugaev 102
INFORMATION
Rules for authors 103
Subscription to an electronic version of the journal 106
Другие статьи выпуска
В условиях низкой молекулярной проводимости вакуумных камер ряда электрофизических установок и интенсивной десорбции молекул газа с их стенок под действием фотонностимулированной десорбции для достижения динамического давления на уровне 10-9 Торр необходима дополнительная система распределенной откачки. В настоящее время для этого используют нераспыляемые геттерные покрытия, нанесенные на внутреннюю стенку вакуумной камеры. Наилучшими параметрами обладает геттерное покрытие Ti-Zr-V, которое запатентовано в CERN и которое хорошо себя зарекомендовало во многих ускорительных комплексах, например, таких как LHC, BEPC-II, MAX-IV, KEK. Это покрытие может быть активировано при температуре 180 ºС в течение 24 часов и при этом иметь хорошую повторяемость в газопоглощающих характеристиках. В данной статье даны результаты активационных и газопоглощающих свойств для различных геттеров на базе титан-тантала, напыленных на внутреннюю стенку вакуумной камеры круглого сечения диаметром 100 мм и изготовленную из нержавеющей стали марки 316 L. Одновременно приводится сравнение с геттером Ti-Zr-V по этим характеристикам. Определение химического состава покрытия геттера проводилось на станции «РФА-СИ» на ВЭПП-3 в ИЯФ СО РАН на образцах, установленных во время напыления на торце камеры.
Проведены исследования работы микрокриогенной системы (МКС) Стирлинга с различными добавочными тепловыми нагрузками для возможности расширения диапазона области применения МКС данного типа, например, для организации теплоотвода от термоэлектрического охладителя (ТЭО) и иных применений. Результаты исследований показали, что максимальной холодопроизводительности при стабилизации температуры охлаждения на уровне 200 К для интегральной МКС Стирлинга данного типа можно добиться давлением криоагента не менее 4,5 МПа. При этом система развивает холодопроизводительность около 3 Вт, что даёт возможность организовать теплоотвод от «тёплой» зоны термоэлектрического охладителя с потребляемой мощностью 7–10 Вт.
Приведены результаты экспериментального исследования влияния гамма-излучения на вольтамперные характеристики кремниевых p–i–n-диодов BPW34 фирмы Osram для их применения в качестве чувствительных элементов датчиков мощности поглощенной дозы в составе устройств управления автоматизированных систем. Получены статические характеристики p–i–n-диодов при воздействии гамма-излучения. Определен диапазон обратных напряжений, соответствующих наибольшей чувствительности p–i–n-диодных первичных преобразователей. Получено аналитическое выражение статической характеристики p–i–n-диодов при максимальной чувствительности к гамма-излучению.
В данной работе рассмотрены физико-технологические особенности вакуумных методов напыления при формировании топологии элементов микросхем. Проведенные исследования показали, что профили границ пленок при напылении через отверстия в маске резистивным испарением (навеска SiO, In), магнетронным (мишень ZnS) и ионно-лучевым (мишень SiO2) зависят как от метода напыления, так и от технологических параметров масок.
Методами растровой электронной микроскопии и рентгеновской дифрактометрии исследована микроструктура и фазовый состав (Zr, N)-конденсата, осажденного вблизи циркониевого катода. Обнаружено присутствие макрочастиц как результат конденсации капельной фракции ионно-плазменного потока. Их число увеличивается в направлении распространения плазменного потока. Форма частиц изменяется от сферы до диска с периферическим кольцевым валиком. Рентгенографические исследования показали присутствие кристаллографических фаз α-циркония и нитрида циркония. Их преимущественная ориентация роста определяется давлением реакционного газа и местом конденсации в вакуумной камере. Предложены возможные механизмы формирования микроструктуры и фазового состава.
Методами рентгеновской дифракции и магнитометрии изучено строение пленок, полученных отжигом на воздухе предварительно нанесенных чередующихся слоев металлов Co, Fe и Ni, Fe на (0001)-поверхность сапфировых пластин. Показано, что слои ферритов кобальта и никеля толщиной 30 нм обладают коэрцитивной силой порядка 1200 Э и 800 Э соответственно. Методами магнитной силовой микроскопии продемонстрирована возможность формирования магнитной доменной структуры в пленках феррита никеля и кобальта.
Исследованы температурные зависимости удельной электропроводности и коэффициента термо-ЭДС твердых растворов системы PbTe–CdSe на основе PbTe (до 3 мол. % CdSe) и из экспериментальных данных рассчитаны термоэлектрические мощности образцов. Полученные зависимости показывают, что эти коэффициенты имеют максимальное значение при концентрации CdSe 3 мол. % в интервале температур 420–450 К. Последовательный отжиг исследованных образцов на воздухе в течение 10 часов при температуре Т = 750 К приводит к увеличению удельной электропроводности, незначительному уменьшению коэффициента термо-ЭДС и существенному росту термоэлектрической мощности, что важно для приборов, работающих в средней области температур.
Предложена оптическая схема установки измерения ФПУ на длину волны 10,6 мкм в гетеродинном режиме. Проведен анализ параметров и свойств оптических элементов, фокусирующих лазерное излучение в пятно малых размеров. Выбран тип и материал линз, антиотражающее покрытие, рассчитаны характеристики оптических элементов измерительной установки.
Обосновывается необходимость реализации в цифровых приборах наблюдения и прицелах алгоритма сглаживания изображения при его электронном увеличении. Приводятся примеры, поясняющие преимущества сглаженного изображения по сравнению с пикселизованным. Эффективность увеличения изображения методом интерполяции подтверждена экспериментально.
Исследованы спектры фотопроводимости монокристаллов (SnS)1-x(GdS)x (x = 0,001; 0,002) при температурах (80 К, 200 К, 300 К. Было установлено, что добавка Gd увеличивает фоточувствительность бинарного соединения SnS на порядок, а также расширяет спектральную область фоточувствительности в длинноволновую область. Результаты расчета основных фотоэлектрических параметров монокристаллов (SnS)1-x(GdS)x показывают, что они являются перспективным материалом для изготовления оптоэлектронных ключей и фотоприемников в области ближнего инфракрасного диапазона (0,6–1,3 мкм).
В данной статье приводятся методики расчета разностной дозы примеси Qа и ее контроля при планарной технологии изготовления лавинных фотодиодов (ЛФД) на основе гетероэпитаксиальных структур InGaAs/InP. Разработанные методики контроля разностной дозы в лавинных InGaAs/InP структурах использовались на различных этапах изготовления ЛФД. Показана необходимость более жесткого контроля доз концентрации производителем эпитаксиальных структур, согласования методик их измерения, коррекции диффузионных процессов под конкретные дозы примесей.
В рамках статистической теории жидкого состояния вещества с помощью метода броуновской динамики рассчитаны термодинамические величины сильнонеидеальной кулоновской структуры микрочастиц, которая удерживалась линейной ловушкой Пауля в воздухе при атмосферном давлении. Для расчета использовался кулоновский потенциал межчастичного взаимодействия и полученные в расчете парные коррелятивные функции кулоновской структуры. Рассчитаны средний параметр межчастичного взаимодействия (параметр неидеальности Γ), внутренняя энергия кулоновской структуры и ее давление на ловушку. Обнаружено, что с ростом размеров частиц и их зарядов данные величины в среднем уменьшаются за счет увеличения равновесных средних межчастичных расстояний в электродинамической ловушке. В процессе выхода на стационарное состояние также происходит уменьшение энергии и давления за счет увеличения среднего межчастичного расстояния при частичном упорядочивании частиц кулоновской системы.
В работе представлены результаты измерений эквивалентного сопротивления плазмы в высокочастотном индуктивном источнике плазмы диаметром 46 см при изменении величины индукции внешнего магнитного поля от 0 до 50 Гс, выполненные на рабочих частотах 2, 4 и 13,56 МГц и фиксированной мощности ВЧ-генератора в диапазоне 100–500 Вт. Эксперименты проводились с использованием аргона в диапазоне давлений 0,1–30 мТорр. При наложении внешнего магнитного поля были обнаружены области резонансного поглощения ВЧмощности, соответствующие условиям резонансного возбуждения связанных между собой геликонов и косых ленгмюровских волн. Показано, что наложение на разряд внешнего магнитного поля, соответствующего областям резонансного поглощения ВЧ-мощности при рабочих частотах более 2 МГц, позволяет оптимизировать поглощение ВЧ-мощности плазмой. Эффект увеличивается с ростом рабочей частоты.
Представлена методика и результаты исследования спектрального состава рентгеновского излучения из различных областей плазмы микропинчевого разряда на установке типа «низкоиндуктивная вакуумная искра». Измерены спектры рентгеновского излучения в диапазоне энергий квантов 1–30 кэВ из области плазменной точки, из области прианодной плазмы и анода плазмы микропинчевого разряда. Экспериментально установлено, что интенсивность рентгеновского излучения плазменной точки превышает интенсивность рентгеновского излучения из области прианодной плазмы и анода в исследуемом диапазоне энергий.
В ОИЯИ (Дубна) начаты серийные испытания дипольных и квадрупольных магнитов бустерного синхротрона комплекса NICA. Ускоритель состоит из магнитов типа «Нуклотрон», в которых используются сверхпроводящая обмотка и железное ярмо. В процессе сборки и испытаний каждого модуля магнитно-криостатной системы бустера предполагается проведение измерений характеристик поля каждого магнита. В работе описана измерительная система, приводятся результаты магнитных измерений дипольных магнитов бустера NICA по статистике на май 2017 г.
В работе предложен способ металлизации частиц вируса табачной мозаики (ВТМ) с целью повышения четкости изображений, получаемых при их исследовании методом электронной микроскопии. Металлизация проводилась методом магнетронного напыления вольфрама с использованием аргоновой плазмы в разряде постоянного тока. Полученные с помощью электронной и атомно-силовой микроскопии значения диаметра частиц ВТМ хорошо согласуются с литературными данными. Предложенный способ может быть использован при исследовании других типов вирусных частиц методом электронной микроскопии.
Предложена система контроля толщины напыляемых металлических плёнок на стеклянные призмы. Показано, что с её помощью можно контролировать толщину тонких (5–100 нм) металлических плёнок на призмах для возбуждения поверхностного плазмонного резонанса. Относительная простота схемы устройства определяется тем, что для возбуждения используется расходящийся пучок монохроматического лазерного излучения, который формируется выпуклым сферическим зеркалом. Система также позволяет автоматически регистрировать и сохранять результаты изменения параметров в течение всего процесса напыления. В основе конструкции лежит эффект нарушенного полного внутреннего отражения, реализуемый в схеме Кречмана.
Статистика статьи
Статистика просмотров за 2026 год.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400