Архив статей

Особенности спектральной характеристики ультрафиолетовых GaP-фотодиодов на основе барьера Шоттки (2015)
Выпуск: №1 (2015)
Авторы: Варганова Виолетта Станиславовна, Кравченко Николай Владимирович, Патрин Владимир Михайлович, Хакуашев Павел Евгеньевич, Чинарева Инна Викторовна, Тришенков Михаил Алексеевич

Исследована спектральная характеристика фотоприемного устройства (ФПУ) на основе ультрафиолетового фотодиода Шоттки из GaP. Показаны два механизма формирования спектральной характеристики: в области 0,28—0,54 мкм — собственное поглощение, в области более 0,54 мкм — поглощение на барьере Шоттки. В первой области спектральной чувствительности ФПУ может работать как пороговый фотоприемник. Во второй области спектральной чувствительности ФПУ способно работать как обнаружитель мощных оптических сигналов.

Сохранить в закладках
Особенности схемотехники импульсных пороговых ФПУ c малым временем восстановления чувствительности после воздействия импульса перегрузки (2015)
Выпуск: №1 (2015)
Авторы: Боровков Павел Михайлович, Казарин Лев Николаевич, Кравченко Николай Владимирович, Потапов Анатолий Васильевич, Тришенков Михаил Алексеевич

Данная работа посвящена рассмотрению и практической реализации различных схемных решений быстродействующих фотоприемных устройств, основанных на использовании в качестве фоточувствительного элемента фотодиодов, оптимизированных для приема на спектральный диапазон 0,85—1,067 мкм. При этом длительность входных оптических сигналов может изменяться в широком диапазоне от 5 до 400 нс, с уровнями регистрируемых энергий от 110-16 до 210-9 Дж.

Сохранить в закладках
Методики расчета и контроля разностной дозы примеси в лавинных InGaAs/InP структурах (2017)
Выпуск: №4 (2017)
Авторы: Будтолаев Андрей Константинович, Кравченко Николай Владимирович, Хакуашев Павел Евгеньевич, Чинарева Инна Викторовна

В данной статье приводятся методики расчета разностной дозы примеси Qа и ее контроля при планарной технологии изготовления лавинных фотодиодов (ЛФД) на основе гетероэпитаксиальных структур InGaAs/InP. Разработанные методики контроля разностной дозы в лавинных InGaAs/InP структурах использовались на различных этапах изготовления ЛФД. Показана необходимость более жесткого контроля доз концентрации производителем эпитаксиальных структур, согласования методик их измерения, коррекции диффузионных процессов под конкретные дозы примесей.

Сохранить в закладках