Представлена методика и результаты исследования спектрального состава рентгеновского излучения из различных областей плазмы микропинчевого разряда на установке типа «низкоиндуктивная вакуумная искра». Измерены спектры рентгеновского излучения в диапазоне энергий квантов 1–30 кэВ из области плазменной точки, из области прианодной плазмы и анода плазмы микропинчевого разряда. Экспериментально установлено, что интенсивность рентгеновского излучения плазменной точки превышает интенсивность рентгеновского излучения из области прианодной плазмы и анода в исследуемом диапазоне энергий.
Consideration is given to the technique and results of the investigation of a spectral composition of the X-ray radiation from various regions of the micropinch plasma to be created in the “low-inductance vacuum spark” installation. The X-ray spectra were measured in the 1-30 kэB energy range from the region of the plasma point, from the region of the anode plasma and the anode of the plasma of the micropinch discharge. It was experimentally established that the intensity of the X-ray radiation of the plasma point exceeds the intensity of X-ray radiation from the region of the anode near the anode and the anode in the energy range under study.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 20583595
Экспериментально установлено, что интенсивность рентгеновского излучения плазменной точки превышает интенсивность рентгеновского излучения из области прианодной плазмы и анода в диапазоне энергий рентгеновских квантов h < 6 кэВ в более 10 раз для плазмы железа. С другой стороны, в диапазоне энергий рентгеновских квантов 6–30 кэВ интенсивность рентгеновского излучения для всех излучающих областей микропинчевого разряда практически одинакова.
Проведенные исследования экспериментально доказали, что согласно существующим моделям образования плазмы железа в микропинчевом разряде [1], существенный вклад в спектр рентгеновского излучения в диапазоне энергий h < 6 кэВ вносит плазменная точка (т. е. излучение многократно ионизированных ионов).
Список литературы
1. Вихрев В. В., Иванов В. В., Кошелев К. Н. // Физика плазмы. 1982. Т. 8. № 6. С. 1211.
2. Короп Е. Д., Мейерович Б. Э., Сидельников Ю. В., Сухоруков С. Т. // Успехи физических наук. 1979. Т. 129. Вып. 1. С. 87.
3. Долгов А. Н., Салахутдинов Г. Х. // Физика плазмы. 2003. Т. 29. № 9. С. 818.
4. Колтунов М. В., Лемешко Б. Д., Савелов А. С., Салахутдинов Г. Х., Юрков Д. И., Сидоров П. П. // Прикладная физика. 2010. № 4. С. 52.
5. Вовченко Е. Д., Григорьева И. Г., Макаров В. В., Савелов А. С., Салахутдинов Г. Х. // Физика плазмы. 2012. Т. 38. № 12. С. 1076.
6. Долгов А. Н., Ляпидевский В. К., Савелов А. С., Салахутдинов Г. Х. // Прикладная физика. 2007. № 1. С. 88.
7. Башутин О. А., Алхимова М. А., Вовченко Е. Д., Додулат Э. И., Савёлов А. С., Саранцев С. А. // Физика плазмы. 2013. Т. 39. № 11. С. 1006.
8. Долгов А. Н., Савелов А. С., Салахутдинов Г. Х. // Прикладная физика. 2008. № 5. С. 103.
9. Кушин В. В., Ляпидевский В. К., Пережогин В. Б. Ядерно-физические методы диагностики плазмы. – М.: МИФИ, 1985.
10. Баловнев А. В., Григорьева И. Г., Салахутдинов Г. Х. // ПТЭ. 2015. № 2. С. 89.
11. Баловнев А. В., Григорьева И. Г., Салахутдинов Г. Х. // ПТЭ. 2015. № 1. С. 100.
12. Киреченко Н. Н., Ляпидевский В. К., Пережогин В. К., Салахутдинов Г. Х., Самойлова Л. Б. // ПТЭ. 1992. № 3. С. 206.
13. Долгов А. Н., Ляпидевский В. К., Прохорович Д. Е., Савелов А. С., Салахутдинов Г. Х. // Физика плазмы. 2005. Т. 31. № 2. С. 192.
14. Balovnev A. V., Vovchenko E. D., Grigoryeva I. G., Dodulad E. I., Savelov A. S., Salakhutdinov G. Kh. // Physics Procedia. 2015. Vol. 71. P. 146.
15. Баловнев А. В., Вовченко Е. Д., Григорьева И. Г., Додулад Э. И., Клячин Н. А., Савелов А. С., Салахутдинов Г. Х. Препринт НИЯУ МИФИ, 2016. № 001-2016.
1. V. V. Vikhrev, V. V. Ivanov, and K. N. Koshelev, Plasma Phys. Rep. 8 (6), 1211 (1982).
2. E. D. Korop, B. E. Meierovich, Yu. V. Sidelnikov, and S. T. Sukhorukov, Phys. Usp. 22, 727 (1979).
3. A. N. Dolgov and G. Kh. Salakhutdinov, Plasma Phys. Rep. 29 (9), 818 (2003).
4. M. V. Koltunov, B. D. Lemeshko, A. S. Savelov, G. Kh. Salakhutdinov, D. I. Yurkov, P. P. Sidorov, Plasma Phys. Rep. 37 (13), 1215 (2011).
5. E. D. Vovchenko, I. G. Grigorieva, V. V. Makarov, A. S. Savelov, and G. Kh. Salakhutdinov, Plasma Phys. Rep. 38 (12), 991 (2012).
6. A. N. Dolgov, V. K. Lyapidevskii, A. S. Savelov, and G. Kh. Salakhutdinov, Prikl. Fiz., No. 1, 88 (2007).
7. O. A. Bashutin, M. A. Alhimova, E. D. Vovchenko, E. I. Dodulat, A. S. Savjolov, and S. A. Sarantsev, Plasma Phys. Rep. 39 (11), 1006 (2013).
8. A. N. Dolgov, A. S. Savelov, and G. Kh. Salakhutdinov, Prikl. Fiz., No. 5, 103 (2008).
9. V. V. Kushin, V. K. Lyapidevskii, and V. B. Perezhogin, Nuclear-Physical Methods of Plasma Diagnostics (Mos. Inzh. Fiz. Inst., Moscow, 1985) [in Russian].
10. A. V. Balovnev, I. G. Grigoryeva, and G. Kh. Salakhutdinov, Instrum. Exp. Tech. 58 (2), 252 (2015).
11. A. V. Balovnev, I. G. Grigoryeva, and G. Kh. Salakhutdinov, Instrum. Exp. Tech. 58 (1), 98 (2015).
12. N. N. Kirichenko, V. K. Lyapidevskii, V. B. Perezhogin, G. Kh. Salakhutdinov, and L. B. Samoylova, Instrum. Exp. Tech., No. 3, 206 (1992).
13. A. N. Dolgov, V. K. Lyapidevskii, D. E. Prohorovich, A. S. Savelov, and G. Kh. Salakhutdinov, J. Plasma Phys. Rep. 31 (2), 192 (2005).
14. A. V. Balovnev, E. D. Vovchenko, I. G. Grigoryeva, E. I. Dodulad, A. S. Savelov, and G. Kh. Salakhutdinov, Physics Procedia. 71, 146 (2015).
15. A. V. Balovnev, E. D. Vovchenko, I. G. Grigoryeva, E. I. Dodulad, N. A. Klyachen, A. S. Savelov, and G. Kh. Salakhutdinov, Preprint of National Research Nuclear University MEPhI № 001-2016, (Moscow: National Research Nuclear University MEPhI, 2016) [in Russian].
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ОБЩАЯ ФИЗИКА
Виноградов С. В., Кононов М. А., Кононов В. М., Савранский В. В., Тишков В. В. Система контроля и управления ростом металлических плёнок на стеклянных призмах для использования в устройствах возбуждения поверхностных плазмонов 5
Шумов И. Д., Канашенко С. Л., Арчаков А. И., Иванов Ю. Д., Плешакова Т. О. Магнетронное напыление металлов на биологические объекты нанометрового размера на примере вируса табачной мозаики 10
Донягин А. М., Борисов В. В., Казинова О., Костромин C. А. Измерение магнитных характеристик элементов бустерного синхротрона комплекса NICA 16
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Баловнев А. В., Башутин О. А., Григорьева И. Г., Салахутдинов Г. Х. Исследование спектрального состава рентгеновского излучения из различных областей плазмы микропинчевого разряда 22
Неклюдова П. А., Кралькина Е. А., Вавилин К. В., Задириев И. И., Никонов А. М. Влияние внешнего магнитного поля на эффективность поглощения высокочастотной мощности в пространственно ограниченном индуктивном источнике плазмы 27
Лапицкий Д. С., Филинов В. С., Василяк Л. М., Сыроватка Р. А., Депутатова Л. В., Владимиров В. И., Печеркин В. Я. Расчет термодинамических величин заряженных структур микрочастиц в электродинамических ловушках 32
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Будтолаев А. К., Кравченко Н. В., Хакуашев П. Е., Чинарева И. В. Методики расчета и контроля разностной дозы примеси в лавинных InGaAs/InP структурах 37
Гасанов О. М., Адгезалова Х. А., Гусейнов Дж. И., Дашдемиров А. О. Влияние атомов Gd на фоточувствительность монокристалла SnS 42
Голицын А. А., Цивинский М. Ю. Алгоритм сглаживания увеличенного изображения в тракте видеообработки цифрового прибора наблюдения 46
Ложников В. Е. Оптическая система установки измерения параметров фотоприемного устройства в гетеродинном режиме на длине волны 10,6 мкм 51
МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ
Калмыков Р. М., Кармоков А. М. Влияние изотермического отжига на электропроводность и термо-ЭДС PbTe, легированного CdSe 55
Буташин А. В., Муслимов А. Э., Колымагин А. Б., Бизяев Д. А., Хайбулин Р. И., Просеков П. А., Каневский В. М. Структура и магнитные свойства наноразмерных пленок ферритов кобальта и никеля на сапфировых подложках 60
Панькин Н. А., Смоланов Н. А., Мишкин В. П. Микроструктура и фазовый состав (Zr, N)-конденсата, полученного вблизи эмитирующего катода 66
Исмаилов А. М., Гамматаев С. Л., Асваров А. Ш., Гираев К. М., Алиев И. Ш., Рабаданов М. Х. Формирование нитевидных кристаллов оксида цинка на подложках сапфира, помещенных на мишень при «горячем» распылении 73
Седнев М. В., Атрашков А. С. Применение вакуумных методов напыления при формировании топологии элементов микросхем 78
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Никифорова М. Ю. Чувствительный элемент датчика мощности дозы гамма-излучения 83
Самвелов А. В., Минаев Д. В., Кошелев П. А., Баранов И. В., Баранов А. Ю., Пахомов О. В. Исследование микрокриогенной системы Стирлинга в расширенном диапазоне температур криостатирования 89
Краснов А. А., Семенов А. М. Исследование свойств нераспыляемых геттеров на базе титантантала 94
ПЕРСОНАЛИИ
Юбилей А. С. Бугаева 102
ИНФОРМАЦИЯ
Правила для авторов 103
Подписка на электронную версию журнала 106
C O N T E N T S
GENERAL PHYSICS
S. V. Vinogradov, M. A. Kononov, V. M. Kononov, V. V. Savransky, and V. V. Tishkov Thin film growth control and manage system for glass prism preparation for surface plasmon applications 5
I. D. Shumov, S. L. Kanashenko, A. I. Archakov, Yu. D. Ivanov, and Т. О. Pleshakova Magnetron sputtering of melals on biological objects of nanometer size using the example of tobacco mosaic virus 10
A. M. Donyagin, V. V. Borisov, O. Kazinova, and S. A. Kostromin Measurements of magnetic field parameters of the NICA booster dipole magnet 16
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
A. V. Balovnev, O. A. Bashutin, I. G. Grigoryeva, and G. Kh. Salakhutdinov Investigation of the X-ray spectrum in various plasma regions of a micropinch discharge 22
P. A. Nekliudova, E. A. Kralkina, K. V. Vavilin, I. I. Zadiriyev, and A. M. Nikonov Effect of an external magnetic field on the efficien-cy of absorption of high-frequency power in a spatially limited inductive plasma source 27
D. S. Lapitsky, V. S. Filinov, L. M. Vasilyak, R. A. Syrovatka, L. V. Deputatova, V. I. Vladimirov, and V. Ya. Pecherkin Calculation of thermodynamic properties of a structure of charged microparticles in electrodynamic traps 32
PHOTOELECTRONICS
A. K. Budtolaev, N. V. Kravchenko, P. E. Khakuashev, and I. V. Chinareva Methods of calculation and control of the impurity differ-ence dose in avalanche InGaAs/InP structures 37
O. M. Gasanov, H. A. Adgezalova, Dzh. I. Guseynov, and A. O. Dashdemir Influence of Gd atoms on photosensitivity of the SnS single crystal 42
A. A. Golitsyn and M. Y. Tsivinsky The algorithm for smoothing the enlarged image in the video processing path of the digital surveil-lance device 46
V. E. Lozhnikov Optical system for measurements of the photodetector devices parameters in the heterodyne mode at a wavelength of 10.6 µm 51
MATERIALS SCIENCE
R. M. Kalmykov and A. M. Karmokov Influence of isothermal annealing on electrical conductivity and thermoelectric power of PbTe doped CdSe 55
A. V. Butashin, A. E. Muslimov, A. B. Kolymagin, D. A. Bizyaev, R. I. Khaibullin, P. A. Prosekov, and V. M. Kanevski Structure and magnetic properties of the Co, Ni ferrite films formed on sapphire substrates 60
N. A. Pankin, N. A. Smolanov, and V. P. Mishkin Microstructure and phase composition of (Zr, N)-condensate obtained near the emitting cathode 66
A. M. Ismailov, S. L. Gammataev, A. Sh. Asvarov, K. M. Giraev, I. Sh. Aliev, and M. Xh. Rabadanov Formation of filamentary zinc oxide crystals on sapphire substrates placed on the target during hot sputtering 73
M. V. Sednev and A. S. Atrashkov Application of vacuum methods of sputtering in the formation of the topology of the elements of microcircuits 78
PHYSICAL APPARATUS AND ITS ELEMENTS
M. U. Nikiforova Gamma radiation sensor 83
A. V. Samvelov, D. V. Minaev, P. A. Koshelev, I. V. Baranov, A. J. Baranov, and O. V. Pahomov Investigation of the microcryogenic Stirling system in the extended cryostat temperature range 89
A. A. Krasnov and A. M. Semenov Investigation of properties of the non-evaporable titanium-tantalum getters 94
PERSONALIA
Anniversary A. S. Bugaev 102
INFORMATION
Rules for authors 103
Subscription to an electronic version of the journal 106
Другие статьи выпуска
В данной работе рассмотрены физико-технологические особенности вакуумных методов напыления при формировании топологии элементов микросхем. Проведенные исследования показали, что профили границ пленок при напылении через отверстия в маске резистивным испарением (навеска SiO, In), магнетронным (мишень ZnS) и ионно-лучевым (мишень SiO2) зависят как от метода напыления, так и от технологических параметров масок.
В данной работе приведены результаты по осаждению и исследованию конденсата оксида цинка на монокристаллических подложках сапфира базисной ориентации, помещаемых на поверхность «горячей» мишени ZnO и на водоохлаждаемое основание магнетрона вблизи мишени (метод магнетронного распыления на постоянном токе). На подложках, расположенных на краю «горячей» мишени, формируется плотный массив нитевидных кристаллов (НК) ZnO, ориентированных перпендикулярно подложке. Конденсат ZnO на подложках, помещенных на магнетрон, представляет собой сплошную пленку с хорошо развитой поверхностью, по структурному совершенству заметно уступающей массиву НК ZnO. Данные факторы могут служить стимулом для дальнейшего изучения процессов формирования НК ZnO (без катализатора) на различных подложках, помещенных на поверхность «горячей» мишени ZnO в областях вне зоны эрозии мишени при изменении технологических параметров (состав рабочего газа и его давление, мощность и др.) в широких пределах. При масштабировании процесса распыления «горячих» мишеней станет возможным получение НК ZnO на подложках большей площади (десятки квадратных сантиметров), что важно для практических применений.
Методами растровой электронной микроскопии и рентгеновской дифрактометрии исследована микроструктура и фазовый состав (Zr, N)-конденсата, осажденного вблизи циркониевого катода. Обнаружено присутствие макрочастиц как результат конденсации капельной фракции ионно-плазменного потока. Их число увеличивается в направлении распространения плазменного потока. Форма частиц изменяется от сферы до диска с периферическим кольцевым валиком. Рентгенографические исследования показали присутствие кристаллографических фаз α-циркония и нитрида циркония. Их преимущественная ориентация роста определяется давлением реакционного газа и местом конденсации в вакуумной камере. Предложены возможные механизмы формирования микроструктуры и фазового состава.
Методами рентгеновской дифракции и магнитометрии изучено строение пленок, полученных отжигом на воздухе предварительно нанесенных чередующихся слоев металлов Co, Fe и Ni, Fe на (0001)-поверхность сапфировых пластин. Показано, что слои ферритов кобальта и никеля толщиной 30 нм обладают коэрцитивной силой порядка 1200 Э и 800 Э соответственно. Методами магнитной силовой микроскопии продемонстрирована возможность формирования магнитной доменной структуры в пленках феррита никеля и кобальта.
Исследованы температурные зависимости удельной электропроводности и коэффициента термо-ЭДС твердых растворов системы PbTe–CdSe на основе PbTe (до 3 мол. % CdSe) и из экспериментальных данных рассчитаны термоэлектрические мощности образцов. Полученные зависимости показывают, что эти коэффициенты имеют максимальное значение при концентрации CdSe 3 мол. % в интервале температур 420–450 К. Последовательный отжиг исследованных образцов на воздухе в течение 10 часов при температуре Т = 750 К приводит к увеличению удельной электропроводности, незначительному уменьшению коэффициента термо-ЭДС и существенному росту термоэлектрической мощности, что важно для приборов, работающих в средней области температур.
Предложена оптическая схема установки измерения ФПУ на длину волны 10,6 мкм в гетеродинном режиме. Проведен анализ параметров и свойств оптических элементов, фокусирующих лазерное излучение в пятно малых размеров. Выбран тип и материал линз, антиотражающее покрытие, рассчитаны характеристики оптических элементов измерительной установки.
Обосновывается необходимость реализации в цифровых приборах наблюдения и прицелах алгоритма сглаживания изображения при его электронном увеличении. Приводятся примеры, поясняющие преимущества сглаженного изображения по сравнению с пикселизованным. Эффективность увеличения изображения методом интерполяции подтверждена экспериментально.
Исследованы спектры фотопроводимости монокристаллов (SnS)1-x(GdS)x (x = 0,001; 0,002) при температурах (80 К, 200 К, 300 К. Было установлено, что добавка Gd увеличивает фоточувствительность бинарного соединения SnS на порядок, а также расширяет спектральную область фоточувствительности в длинноволновую область. Результаты расчета основных фотоэлектрических параметров монокристаллов (SnS)1-x(GdS)x показывают, что они являются перспективным материалом для изготовления оптоэлектронных ключей и фотоприемников в области ближнего инфракрасного диапазона (0,6–1,3 мкм).
В данной статье приводятся методики расчета разностной дозы примеси Qа и ее контроля при планарной технологии изготовления лавинных фотодиодов (ЛФД) на основе гетероэпитаксиальных структур InGaAs/InP. Разработанные методики контроля разностной дозы в лавинных InGaAs/InP структурах использовались на различных этапах изготовления ЛФД. Показана необходимость более жесткого контроля доз концентрации производителем эпитаксиальных структур, согласования методик их измерения, коррекции диффузионных процессов под конкретные дозы примесей.
В рамках статистической теории жидкого состояния вещества с помощью метода броуновской динамики рассчитаны термодинамические величины сильнонеидеальной кулоновской структуры микрочастиц, которая удерживалась линейной ловушкой Пауля в воздухе при атмосферном давлении. Для расчета использовался кулоновский потенциал межчастичного взаимодействия и полученные в расчете парные коррелятивные функции кулоновской структуры. Рассчитаны средний параметр межчастичного взаимодействия (параметр неидеальности Γ), внутренняя энергия кулоновской структуры и ее давление на ловушку. Обнаружено, что с ростом размеров частиц и их зарядов данные величины в среднем уменьшаются за счет увеличения равновесных средних межчастичных расстояний в электродинамической ловушке. В процессе выхода на стационарное состояние также происходит уменьшение энергии и давления за счет увеличения среднего межчастичного расстояния при частичном упорядочивании частиц кулоновской системы.
В работе представлены результаты измерений эквивалентного сопротивления плазмы в высокочастотном индуктивном источнике плазмы диаметром 46 см при изменении величины индукции внешнего магнитного поля от 0 до 50 Гс, выполненные на рабочих частотах 2, 4 и 13,56 МГц и фиксированной мощности ВЧ-генератора в диапазоне 100–500 Вт. Эксперименты проводились с использованием аргона в диапазоне давлений 0,1–30 мТорр. При наложении внешнего магнитного поля были обнаружены области резонансного поглощения ВЧмощности, соответствующие условиям резонансного возбуждения связанных между собой геликонов и косых ленгмюровских волн. Показано, что наложение на разряд внешнего магнитного поля, соответствующего областям резонансного поглощения ВЧ-мощности при рабочих частотах более 2 МГц, позволяет оптимизировать поглощение ВЧ-мощности плазмой. Эффект увеличивается с ростом рабочей частоты.
В ОИЯИ (Дубна) начаты серийные испытания дипольных и квадрупольных магнитов бустерного синхротрона комплекса NICA. Ускоритель состоит из магнитов типа «Нуклотрон», в которых используются сверхпроводящая обмотка и железное ярмо. В процессе сборки и испытаний каждого модуля магнитно-криостатной системы бустера предполагается проведение измерений характеристик поля каждого магнита. В работе описана измерительная система, приводятся результаты магнитных измерений дипольных магнитов бустера NICA по статистике на май 2017 г.
В работе предложен способ металлизации частиц вируса табачной мозаики (ВТМ) с целью повышения четкости изображений, получаемых при их исследовании методом электронной микроскопии. Металлизация проводилась методом магнетронного напыления вольфрама с использованием аргоновой плазмы в разряде постоянного тока. Полученные с помощью электронной и атомно-силовой микроскопии значения диаметра частиц ВТМ хорошо согласуются с литературными данными. Предложенный способ может быть использован при исследовании других типов вирусных частиц методом электронной микроскопии.
Предложена система контроля толщины напыляемых металлических плёнок на стеклянные призмы. Показано, что с её помощью можно контролировать толщину тонких (5–100 нм) металлических плёнок на призмах для возбуждения поверхностного плазмонного резонанса. Относительная простота схемы устройства определяется тем, что для возбуждения используется расходящийся пучок монохроматического лазерного излучения, который формируется выпуклым сферическим зеркалом. Система также позволяет автоматически регистрировать и сохранять результаты изменения параметров в течение всего процесса напыления. В основе конструкции лежит эффект нарушенного полного внутреннего отражения, реализуемый в схеме Кречмана.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400