Архив статей

ДИССОЦИАЦИЯ МОЛЕКУЛ ВОДОРОДА В ПРИСУТСТВИИ ЭЛЕКТРООТРИЦАТЕЛЬНЫХ ПРИМЕСЕЙ (1995)

Широкое применение низкотемпературной плазмы, как источника атомарного водорода, обусловливает актуальность исследования кинетики диссоциации при различных парциальных давлениях. Методом опорных пиний исследована скорость диссоциации аргон плюс вода и аргон плюс хлор. Установлено, что определяющую роль дезактивации поверхности играет присутствие примесей паров воды и хлора

ПЛАЗМЕННАЯ ПОЛИМЕРИЗАЦИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ ГЕКСАМЕТИЛДИСИЛОКСАНА (1995)

Исследован процесс осаждения плазменно-полимеризованных пленок на основе гексаметилдисилоксана в ВЧ-разряде. Методом лазерной интерферометрии измерены скорости осаждения полимера на различных подложках. Изучены ИК-спектры, элементный состав и гидрофильные свойства получаемых пленок

ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ СИНТЕЗ УЛЬТРАДИСПЕРСНЫХ ПОРОШКОВ SiC И Si3N4 И ИХ СПЕКАНИЕ (1995)

Представлены экспериментальные результаты плазмохимического процесса синтеза ультрадисперсного порошка SiC вместе с последними результатами усовершенствованного, ранее описанного [1] процесса синтеза порошка Si3N4. Обсуждены результаты изучения спекания полученных плазмохимических (ПХ) порошков. Показано, что SiC- и Si3N4-керамику высокого качества можно получить на базе композитных SiC и Si3N4 порошков, представляющих собой смесь ультрадисперсных ПХ-порошков с соответствующими грубыми, низкого качества коммерческим SiC- и Si3N4-порошками с добавкой 10 % (Y2O3 + Al2O3)-порошка

ПЛАЗМОХИМИЧЕСКАЯ МОДИФИКАЦИЯ ПОВЕРХНОСТИ ПОЛИМЕРНЫХ МАТЕРИАЛОВ (1995)

Рассмотрены физико-химические процессы, происходящие при воздействии плазмы тлеющего разряда на поверхности полимерных материалов: травление, окисление, сшивание, разрыв связей с образованием полярных групп, образование полярных групп при взаимодействии с компонентами газовой фазы и прививка тонких полимерных слоев. Показано, что воздействие плазмы приводит к улучшению контактных свойств полимеров, в частности, смачивания и адгезии

НЕРАВНОВЕСНАЯ ПЛАЗМА ХЛОРА - ХИМИЯ И ПРИМЕНЕНИЕ (1995)

Приведены экспериментальные и расчетные данные по параметрам и количественному составу нейтральной и заряженной компонент хлорной плазмы, а также по скоростям термического и плазмохимического травления металлов и полупроводников. Рассмотрены механизмы влияния добавок аргона на скорость травления и возможности эмиссионной спектроскопии для контроля процесса травления. Предложены пути обезвреживания хлора в отходящих газах плазмохимических установок

2-й МЕЖДУНАРОДНЫЙ СИМПОЗИУМ ПО ТЕОРЕТИЧЕСКОЙ И ПРИКЛАДНОЙ ПЛАЗМОХИМИИ (ISTAPC-95) (1995)

Дан краткий обзор представленных на симпозиум работ. 2-й Международный симпозиум по теоретической и прикладной плазмо-химии проводился в г. Плесе с 22 по 26 мая 1995 г. Председатель Оргкомитета — д-р физ.-мат. наук Л. С. Полак (ИНХС РАН). Симпозиум организован Ивановской государственной химико-технологической академией (ИГХТА) при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований, Министерства науки и технической политики РФ, Государственного комитета РФ по высшему образованию, Научного Совета РАН по химии высоких энергий, Института нефтехимического синтеза РАН, Академии инженерных наук РФ, Московского физического общества

ЭНЕРГЕТИКА И СТРУКТУРА ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ СВАРНЫХ И ПАЯНЫХ СОЕДИНЕНИЙ (1995)

На основе анализа экспериментальных факторов сделана попытка сравнения различных методов сварки по величине удельной работы формирования сварных и паяных швов без учета металлургических особенностей процессов. Основная идея, позволяющая сделать такое сравнение, состоит в том, что в структуре процесса соединения (сварки, пайки) материалов выделяются силовая и тепловая составляющие, соотношение которых определяет уровень удельной мощности в контакте соединяемых материалов

ПРИНЦИПЫ ДЕЛЕНИЯ ВЧ-РАЗРЯДОВ НА ЕМКОСТНЫЕ И ИНДУКТИВНЫЕ (1995)

Обсуждаются новые естественные принципы деления высокочастотных (ВЧ) разрядов на емкостные и индуктивные, основанные на характере электромагнитного поля в плазме разряда. Если поле в плазме с высокой степенью точности является потенциальным и его вихревая часть мала, то разряд следует считать емкостным. Если же поле в плазме, напротив, почти чисто вихревое, то такой разряд является индуктивным. При этом следует различать разряды объемные и поверхностные, резонансные и нерезонансные, в зависимости от того, возбуждающие разряд ВЧ-поля совпадают с резонансными частотами объемных и поверхностных волн плазменных образований или далеки от них, проникают или не проникают в объем плазмы и каков характер сканирования таких полей

МОДУЛЯЦИОННАЯ МЕТОДИКА ИЗМЕРЕНИЯ НЕЛИНЕЙНЫХ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ И МАГНИТНЫХ СВОЙСТВ YBa2Cu307-d (1995)

С помощью модуляционной методики измерены амплитуды гармоник намагниченности и напряжения поликристаллических образцов YBa2Cu307-d. Экспериментально обнаружено существование двух систем слабых связей - меж- и внутригранульной, что приводит к усложнению формы вольтамперной характеристики

ИСТЕКАЮЩИЕ В АМТОСФЕРУ ДОЗВУКОВЫЕ ПЛАЗМЕННЫЕ СТРУИ, ОБРАЗУЕМЫЕ КАПИЛЛЯРНЫМ РАЗРЯДОМ (1995)

С использованием различных методов диагностики параметров плазмы экспериментально и теоретически исследуются процессы истечения в атмосферу дозвуковых плазменных струй, образуемых капиллярным разрядом диаметром ~ 1 мм при токах - 100 А. Многие особенности изучаемого явления, долгое время не находившие обоснования, и в ранних работах были названы аномальными, объяснены в рамках физики плазмы и гидродинамики. Показано, что высокий уровень концентрации электронов в центральной области струи определяется термоэмиссией в плазме с конденсированной дисперсной фазой

ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ДИОДНЫЕ ЛАЗЕРЫ (1995)

Обзор содержит краткую информацию об основных научных и производственных центрах России, ведущих исследования и разработки в области полупроводниковых инжекционных лазеров. Представлены современные направления фундаментальных и прикладных работ, в частности в области создания инжекционных лазеров на основе наноструктур и квантовых ям, а также лазеров с напряженными гетерослоями. Рассмотрен ряд работ, направленных на получение генерации в новых спектральных диапазонах, повышение мощности в одномодовом режиме, создание линеек инжекционных лазеров для накачки твердотельных активных сред и получение ультракоротких импульсов света. Приведена справочная информация о номенклатуре выпускаемых промышленностью инжекционных лазеров (ИЛ), излучающих оптических модулей и мощных светоизлучающих диодов

НОВЫЕ ОПТИЧЕСКИЕ СТАНДАРТЫ ЧАСТОТЫ (1995)
Выпуск: №1 (1995)
Авторы: Байков И. С.

В Лаборатории стандартов частоты ОКРФ ФИ РАН (г. Троицк, Моск. обл.) разрабатывается новое поколение оптических стандартов частоты (ОСЧ) с точностью до 10-15. Сделан принципиально важный шаг в решении этой проблемы на базе инжекционных лазеров