Рассмотрены физико-химические процессы, происходящие при воздействии плазмы тлеющего разряда на поверхности полимерных материалов: травление, окисление, сшивание, разрыв связей с образованием полярных групп, образование полярных групп при взаимодействии с компонентами газовой фазы и прививка тонких полимерных слоев. Показано, что воздействие плазмы приводит к улучшению контактных свойств полимеров, в частности, смачивания и адгезии
This article is dealt with some physical chemical processes under the glow discharge action on the polymer surfaces. They are etching, oxidation, networking, interrupting of chemical bonds with the polar groups formation, the formation of polar groups by the interaction with gas phase components and the grafting of thin polymer films. It is shown that the glow discharge action leads to the improvement of polymer contact properties as wettability and adhesion
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
Выпуск
Другие статьи выпуска
Получены оценки для напряженностей электрических полей, возникающих у планет благодаря перераспределению в них электронов, обусловленному неоднородностью внутренних механических напряжений. Показано, что основные черты электрического поля ясной погоды, электротеллурического поля и поля теллурических токов определяются приливными воздействиями на Землю, без предположения о наличии у нее электрического заряда
Анализируются понятия твердости как свойства материалов и метода твердости как способа механических испытаний. Получены диаграммы вдавливания индентора в упругой и упругопластической областях деформирования материалов при ступенчатом и непрерывном нагружении индентора. Дано обоснование связи характеристик твердости при вдавливании индентора с напряжениями при растяжении образца. Предложены методы оперативной оценки механических свойств материалов по характеристикам твердости. Разработаны переносные приборы для испытаний материалов непосредственно в изделиях и оценке механических свойств без их разрушения
Из бесконечной системы, равномерно распределенных неподвижных одинаковых частиц, выделена подсистема частица-поле. Поле заряженных частиц определяется только электромагнитным взаимодействием зарядов. Движение частицы, обусловленное ее спином, происходит в шаровом слое, так что центр ее массы неподвижен. Внешняя поверхность слоя связана со сферическим потенциалом, складывающимся из дискретных излучений поля частицей и дискретных поглощений ею поля всех других зарядов. Излучение и поглощение происходят мгновенно и совпадают по времени в каждой точке поворота. Трехмерность задачи поворотом координат приводится к случаю одномерного движения частицы в потенциальном ящике. Для решения задачи уравнения для спина и дискретных уровней энергии дополнены уравнением, связывающим энергию, ширину потенциального ящика с квадратом заряда. В результате этого для основного состояния получены средние радиусы, значения потенциала на сферической поверхности и частоты электромагнитного поля электрического заряда для протона и электрона
Дан краткий обзор теоретических работ по линейной теории неустойчивости ленточного релятивистского электронного пучка в плоском резонаторе. Эта неустойчивость известна как вынужденное излучение монотронного типа и до последнего времени было хорошо исследовано для релятивистских пучков. Дается обобщение этой теории на случай релятивистских пучков, которое связано с учетом всех волн плазма-пучковой системы, как нарастающих, так и затухающих. В отличие от нерелятивистских пучков, для которых роль затухающих волн пренебрежимо мала, для релятивистских пучков их учет оказывается существенным и приводит к значительному увеличению эффективности вынужденного излучения. В результате релятивистский монотрон представляется как конкурентоспособный прибор релятивистской СВЧ-злектроники
Рассмотрено развитие запертой моды без каких-либо неустойчивостей в результате одновременного воздействия резонансных возмущений магнитного поля и неоднородного охлаждения. Такой механизм объясняет многие явления в разрядах на токамаке
Представлены аналитические выражения для вероятности отрыва (ионизации) и присоединения (прилипания, рекомбинации) электрона в переменном электрическом поле, создаваемом излучением. Показано, что механизм каждого из возможных переходов электрона между состояниями из дискретного и непрерывного спектров энергии по сути один и тот же, являясь многоквантовым туннельным переходом между состояниями электрона различной физической природы. В силу различия начальных и конечных состояний во взаимно противоположных процессах рассматриваемых переходов электрона их вероятность характеризуется матричными элементами разных частей гамильтониана. Это обстоятельство служит указанием на существование необратимости в явлениях, связанных с формированием ионизованной среды
Получены экспериментальные распределения эффективной концентрации заряженных центров вблизи металлургической границы гетероперерехода n-GaAIAs/p-GaAs после длительной наработки при пропускании прямого тока Обнаружены существенные изменения в распределении концентрации и показана взаимосвязь с изменениями характеристик и параметров излучателей
Представлено состояние и направление отечественных исследований и разработок в области фокусировки и распространения в атмосфере лазерного излучения. В рассмотрение наряду с основными физическими процессами, определяющими эффективность фокусировки мощного излучения, включены также перспективные фокусирующие элементы и устройства, реализованные на базе достижений линейной, нелинейной и адаптивной оптики
Широкое применение низкотемпературной плазмы, как источника атомарного водорода, обусловливает актуальность исследования кинетики диссоциации при различных парциальных давлениях. Методом опорных пиний исследована скорость диссоциации аргон плюс вода и аргон плюс хлор. Установлено, что определяющую роль дезактивации поверхности играет присутствие примесей паров воды и хлора
Исследован процесс осаждения плазменно-полимеризованных пленок на основе гексаметилдисилоксана в ВЧ-разряде. Методом лазерной интерферометрии измерены скорости осаждения полимера на различных подложках. Изучены ИК-спектры, элементный состав и гидрофильные свойства получаемых пленок
Представлены экспериментальные результаты плазмохимического процесса синтеза ультрадисперсного порошка SiC вместе с последними результатами усовершенствованного, ранее описанного [1] процесса синтеза порошка Si3N4. Обсуждены результаты изучения спекания полученных плазмохимических (ПХ) порошков. Показано, что SiC- и Si3N4-керамику высокого качества можно получить на базе композитных SiC и Si3N4 порошков, представляющих собой смесь ультрадисперсных ПХ-порошков с соответствующими грубыми, низкого качества коммерческим SiC- и Si3N4-порошками с добавкой 10 % (Y2O3 + Al2O3)-порошка
Приведены экспериментальные и расчетные данные по параметрам и количественному составу нейтральной и заряженной компонент хлорной плазмы, а также по скоростям термического и плазмохимического травления металлов и полупроводников. Рассмотрены механизмы влияния добавок аргона на скорость травления и возможности эмиссионной спектроскопии для контроля процесса травления. Предложены пути обезвреживания хлора в отходящих газах плазмохимических установок
Дан краткий обзор представленных на симпозиум работ. 2-й Международный симпозиум по теоретической и прикладной плазмо-химии проводился в г. Плесе с 22 по 26 мая 1995 г. Председатель Оргкомитета — д-р физ.-мат. наук Л. С. Полак (ИНХС РАН). Симпозиум организован Ивановской государственной химико-технологической академией (ИГХТА) при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований, Министерства науки и технической политики РФ, Государственного комитета РФ по высшему образованию, Научного Совета РАН по химии высоких энергий, Института нефтехимического синтеза РАН, Академии инженерных наук РФ, Московского физического общества
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400