Широкое применение низкотемпературной плазмы, как источника атомарного водорода, обусловливает актуальность исследования кинетики диссоциации при различных парциальных давлениях. Методом опорных пиний исследована скорость диссоциации аргон плюс вода и аргон плюс хлор. Установлено, что определяющую роль дезактивации поверхности играет присутствие примесей паров воды и хлора
The wide application of low temperature plasma, that is source of atomic hydrogen, makes the investigations of kinetics of dissociation under different partial pressures very important. The dissociation rates of Argon and water mixtures and Argon Chlorine mixtures were investigated. Was stated, that the considerable rolе in surface deactivation plays the presence of water and Chlorine steams
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.