Исследованы матричные ультрафиолетовые фотоприемные модули (УФМ) формата 320х256 элементов на основе гетероэпитаксиальных структур AlxGa1-xN (ГЭС AlGaN), чувствительные в видимо-слепом и солнечно-слепом диапазонах УФ диапазона. ГЭС AlGaN выращивались методами мосгидридной эпитаксии (МОС) и молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) на сапфировых подложках. Качество p-i-n-фотодиодов оценивалось по измерению вольт-амперных характеристик
UV visible-blind and solar-blind 320х256 FPAs based on the AlxGa1-xN heterostructures have been developed and investigated. AlxGa1-xN heterostructures were grown by both MOCVD and MBE methods on sapphire substrates. The readout circuit (ROIC) on the basis of the capacitive transimpedance amplifi er (CTIA) was used to integrate and read AlGaN p-i-n photodiodes currents. The dark current of AlGaN p-i-n photodiodes in mesa-structure with pitch 30 μm was less then 10–13 A and differential resistance was more then 3.1013 Ohm
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.