Статья: Матрицы p-i-n-фотодиодов из AlGaN ультрафиолетового диапазона спектра (2013)

Читать онлайн

Исследованы матрицы чувствительных элементов на основе p–i–n-фотодиодов из AlGaN формата 320×256 элементов с шагом 30 мкм и размером фоточувствительной площадки 20×20 мкм2 для подтверждения возможности создания матричных ультрафиолетовых фотоприемных устройств. Качество p–i–n-фотодиодов оценивалось по измерению вольтамперных характеристик. Темновые токи, измеренные между разделенными элементами в мезаструктуре, составили менее 10–13 A, а сопротивление более 1012 Ом·см

The UV 320x256 AlGaN FPAs on the basis of p-i-n photodiodes with 30 μm pitch and 20х20 μm area have been formed and investigated to approve the capability of UV imager creation. Performance of UV p-i-n photodiodes has been estimated by measuring the current-voltage characteristics. The dark currents of mesa structure elements were less than 10–13 A and resistance were more than 1012 Ohm. cm.

Ключевые фразы: AlGaN, GaN, ультрафиолетовый спектральный диапазон, гетероэпитаксиальные структуры, p–i–n-фотодиод, матрица фоточувствительных элементов, матричное фотоприемное устройство, МФПУ
Автор (ы): Болтарь Константин Олегович (Boltar K.), Бурлаков Игорь Дмитриевич, Филачев Анатолий Михайлович, Сало Владимир Васильевич, Яковлева Наталья Ивановна
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.383. Фотоэлектроника
Для цитирования:
БОЛТАРЬ К., БУРЛАКОВ И. Д., ФИЛАЧЕВ А. М., САЛО В. В., ЯКОВЛЕВА Н. И. МАТРИЦЫ P-I-N-ФОТОДИОДОВ ИЗ ALGAN УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ДИАПАЗОНА СПЕКТРА // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2013. №6
Текстовый фрагмент статьи
Моя история просмотров (10)
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.