Исследованы матрицы чувствительных элементов на основе p–i–n-фотодиодов из AlGaN формата 320×256 элементов с шагом 30 мкм и размером фоточувствительной площадки 20×20 мкм2 для подтверждения возможности создания матричных ультрафиолетовых фотоприемных устройств. Качество p–i–n-фотодиодов оценивалось по измерению вольтамперных характеристик. Темновые токи, измеренные между разделенными элементами в мезаструктуре, составили менее 10–13 A, а сопротивление более 1012 Ом·см
The UV 320x256 AlGaN FPAs on the basis of p-i-n photodiodes with 30 μm pitch and 20х20 μm area have been formed and investigated to approve the capability of UV imager creation. Performance of UV p-i-n photodiodes has been estimated by measuring the current-voltage characteristics. The dark currents of mesa structure elements were less than 10–13 A and resistance were more than 1012 Ohm. cm.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.