Статья: Влияние диффузии серы из подложки InP гетероэпитаксиальной структуры InGaAs/InP нa параметры pin-фотодиодов (2014)

Читать онлайн

Работа посвящена актуальной проблеме минимизации удельной емкости pin-фотодиодов на основе гетероэпитаксиальной структуры InGaAs/InP, выращенных МОС-гидридной эпитаксией. Проанализированы профили концентрации атомов серы, полученные методом масс-спектроскопии вторичных электронов (ВИМС), и рассчитаны по C-V-характеристикам профили концентрации неосновных носителей заряда в структуре pin-фотодиодов. Исследованы и выявлены причины появления повышенной емкости InGaAs/InP pin-фотодиодов, связанные с аномальной диффузией серы из подложки InP и разработаны меры по их устранению. В результате значительно повышен процент годных по емкости фотодиодов.

Problems of minimization for the pin-photodiode specific capacity are investigated in this work.

Ключевые фразы: ёмкость, гетероэпитаксиальная структура, диффузия, профиль, концентрация, вакансии
Автор (ы): Андреев Дмитрий Сергеевич (Andreev D. S.), Будтолаева Анна Константиновна, Хакуашев Павел Евгеньевич, Чинарева Инна Викторовна
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
Для цитирования:
АНДРЕЕВ Д. С., БУДТОЛАЕВА А. К., ХАКУАШЕВ П. Е., ЧИНАРЕВА И. В. ВЛИЯНИЕ ДИФФУЗИИ СЕРЫ ИЗ ПОДЛОЖКИ INP ГЕТЕРОЭПИТАКСИАЛЬНОЙ СТРУКТУРЫ INGAAS/INP НA ПАРАМЕТРЫ PIN-ФОТОДИОДОВ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2014. №3
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.