Статья: Влияние плазмохимической обработки на электрические свойства фотодиодов на основе гетероструктур InGaAsP/InP (2014)

Читать онлайн

Исследовано воздействие на поверхность p-n-переходов на основе гетероструктур InGaAs/InP, изготовленных по мезатехнологии, плазмы хладона-14. В ходе экспериментов варьировались составы газовой смеси, температура и время плазмохимической обработки. Оценивался уровень темнового тока p-n-перехода, а также состояние приповерхностного слоя p-n-перехода (структурное совершенство, оптические параметры, состав) до и после обработки.

Influence of plasma-chemical processing on the electrical features of InGaAsP/InP photodiodes has been investigated in this work.

Ключевые фразы: InGaAs, мезаструктура, темновой ток, плазмохимическая обработка, пассивация поверхности
Автор (ы): Андреев Дмитрий Сергеевич (Andreev D. S.), Будтолаева Анна Константиновна, Огнева Ольга Викторовна, Чинарева Инна Викторовна
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
Для цитирования:
АНДРЕЕВ Д. С., БУДТОЛАЕВА А. К., ОГНЕВА О. В., ЧИНАРЕВА И. В. ВЛИЯНИЕ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ НА ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ФОТОДИОДОВ НА ОСНОВЕ ГЕТЕРОСТРУКТУР INGAASP/INP // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2014. №3
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.