Статья: Исследование морфологии поверхности полупроводниковых подложек InSb, предназначенных для ИК-фотоэлектроники (2014)

Читать онлайн

Методами атомно-силовой микроскопии, растровой электронной микроскопии и рефлектометрии проведены исследования морфологии поверхности полупроводниковых подложек из высоколегированного антимонида индия (InSb), предназначенных для эпитаксиального выращивания InSb. Изготовлены подложки на основе InSb с атомарно-гладкой поверхностью и малым количеством дефектов, пригодные для выращивания эпитаксиальных слоев InSb

The surface morphology of high-alloy InSb substrates have been investigated by high resolution microscopy methods including atomic force, scanning electron microscopy, raster electronic microscopy and reflectometery. The high-alloy InSb substrates with atomic smooth surfaces were intended for growth of InSb epitaxy layers.

Ключевые фразы: антимонид индия, InSb, средневолновый инфракрасный диапазон, MWIR, инфракрасный, ИК, микроскопия высокого разрешения, фотоприемное устройство, ФПУ
Автор (ы): Мирофянченко Андрей Евгеньевич (Mirofyanchenko A. E.), Коротаев Евгений Дмитриевич, Яковлева Наталья Ивановна
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.383.4. Фотоэлементы с внутренним фотоэффектом. Фоторезисторы
eLIBRARY ID
22020542
Для цитирования:
МИРОФЯНЧЕНКО А. Е., КОРОТАЕВ Е. Д., ЯКОВЛЕВА Н. И. ИССЛЕДОВАНИЕ МОРФОЛОГИИ ПОВЕРХНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПОДЛОЖЕК INSB, ПРЕДНАЗНАЧЕННЫХ ДЛЯ ИК-ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2014. №3
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.