Проведен анализ матричных фотоприемных устройств формата 320х256 элементов на основе гетероэпитаксиальных структур AlxGa1-xN (ГЭС InGaAs) с p─i─n-фотодиодами, работающих в режиме лавинного усиления. Гетероэпитаксиальные структуры (ГЭС) с фоточувствительным слоем InGaAs i-типа проводимости выращивались методами мосгидридной эпитаксии (МОСГЭ) на подложках InP. Качество p─i─n-фотодиодов, работающих в режиме лавинного усиления, оценивалось по измерению вольт-амперных характеристик. Лавинное усиление начиналось при напряжениях минус 15 В, определен коэффициент лавинного усиления для архитектуры прибора с общей областью поглощения и усиления.
SWIR ADP 320х256 FPAs based on p-i-n photodiodes in InGaAs heterostructures have been developed and investigated. The typical InGaAs/InP PIN heterostructures are formed by Metal Organic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE) on n +-type InP substrates. The InGaAs/InP PIN photodiodes performance have been estimated by measuring current-voltage characteristics. APD arrays are designed using a mesa- passivated avalanche photodiode device array of p-i-n junctions in heterostructure with common absorption and multiplication regions. The optimal operating point for managing avalanche application depended on various factors has been started at 15 V bias and the multiplication coefficient was of 2-4.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 21502916
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.