При исследовании пространственной структуры источников мягкого рентгеновского излучения в плазме микропинчевого разряда наблюдается устойчивое формирование трубчатой области, излучающей в диапазоне L-спектра плазмообразующего элемента. Оценки показывают, что за формирование трубчатого источника мягкого рентгеновского излучения может отвечать аномальное скинирование тока в перетяжке вследствие быстрого возрастания напряженности поля, вызванного аномальным ростом сопротивления плазмы.
When studying the spatial structure of the soft X-ray radiation in the plasma discharge micropinch, there has been a steady formation of the tubular region, radiating to the L-band spectrum of the plasma-forming element. Estimates show that the formation of a tubular source of soft X-ray radiation may be explained by the anomalous skin effect of the current in the constriction due to the rapid increase in the field strength caused by an abnormal increase in the plasma resistance.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 23608584
Исследование пространственной структуры и динамики плазмы микропинчевого разряда, выполненные методами теневого фотографирования в ближнем УФ-диапазоне спектра, показали, что в первом сжатии радиус перетяжки столба достигаем величины 0,1 мм. При этом не обнаружено обстоятельств, которые могли бы свидетельствовать о неоднородности плазмы в поперечном сечении перетяжки.
В спектральном диапазоне длин волн собственного излучения плазмы < 1,5 нм область перетяжки в первом сжатии представляет собой вытянутое вдоль оси образование, длина которого может меняться в пределах от 0,2 до 0,8 мм, а поперечный размер — от 0,05 до 0,2 мм. Характер изображений позволяет полагать, что источник излучения имеет трубчатую структуру, причем толщина стенок этой структуры может составлять 0,02—0,07 мм интегрально за время существования источника излучения.
В спектральном диапазоне длин волн < 0,3 нм на основе определения ширины полутеневой области изображения источника излучения размер микропинча во втором сжатии оценивается величиной 5—10 мкм.
С уменьшением угла раствора конического электрода наблюдается увеличение продольного по отношению к оси разряда размера перетяжки в первом сжатии. При этом возрастает выход излучения в области L-спектра, отвечающего в основном первому сжатию, а также возрастает вклад в рентгеновский K-спектр излучения ионов Fe+17— Fe+19, которые появляются в разряде во втором сжатии. В то же время не наблюдается возрастания вклада излучения ионов более высоких кратностей, которые появляются в разряде на стадии развала микропинча и расширения плазменного канала. Вышеприведенные факты указывают на то, что формирование трубчатой структуры микропинча происходит в процессе сжатия, но не разлета плазмы в перетяжке.
Оценки свидетельствуют, что за формирование трубчатой структуры источников мягкого рентгеновского излучения в микропинчевом разряде может отвечать механизм аномального скинирования тока в результате аномального роста сопротивления плазмы перетяжки из-за раскачки в ней колебаний. Рост сопротивления плазмы в условиях практически постоянства силы протекающего по ней тока, в свою очередь, имеет следствием быстрое возрастание напряженности электрического поля на стадии перехода от первого ко второму сжатию.
Список литературы
1. Jakubowski L., Sadowski M., Zebrowski J. // Nucl. Fusion. 2001. V. 41. № 6. P. 755.
2. Русских А. Г., Бакшт Р. Б., Лабецкий А. Ю. и др. // Физика плазмы. 2001. Т. 27. № 7. С. 584.
3. Nardi V., Bortollotti A., Brzosko J.S., et al. // IEEE Trens. Plasma Sci. 1988. V. 3. No. 16. Р. 368.
4. Hirano K., Yamamoto T. // Phys. Fluids. 1988. V. 31. No. 9. Р. 2710.
5. Анциферов П. С., Кошелев К. Н., Крауз В. И. и др. // Физика плазмы. 1990. Т. 16. № 11. С. 1319.
6. Саркисов Г. С., Этлишер Б., Ателан С. и др. // Письма в ЖЭТФ. 1995. Т. 61. № 5–6. С. 471.
7. Долгов А. Н., Земченкова Н. В., Клячин Н. А. и др. // Физика плазмы. 2010. Т. 36. № 9. С. 826.
8. Веретенников В. А., Полухин С. Н., Семёнов О. Г. и др. // Физика плазмы. 1981. Т. 7. № 6. С. 1199.
9. Долгов А. Н., Ляпидевский В. К., Прохорович Д. Е. и др. // Физика плазмы. 2005. Т. 31. № 2. С. 192.
10. Бойко В. А., Пикуз С. А., Фаенов А. Я. // ПТЭ. 1980. № 2. С. 5.
11. Вихрев В. В., Иванов В. В., Кошелев К. Н. // Физика плазмы. 1982. Т. 8. № 6. С. 1211.
12. Takasugi K., Suzuki H., Moriyamu K., et al. // Jap. J. Appl. Phys. Pt. 1. 1996. V. 35. No. 7. Р. 4051.
13. Bernal L., Bruzzone H. // Plasma Phys. and Contr. Fusion. 2002. V. 44. No. 2. Р. 223.
14. Веретенников В. А., Долгов А. Н., Крохин О. Н. и др. // Физика плазмы. 1985. Т. 11. № 8. С. 1107.
15. Долгов А. Н. // Физика плазмы. 2005. Т. 31. № 8. С. 733.
16. Долгов А. Н. // Физика плазмы. 2005. Т. 31. № 6. С. 539.
17. Захаров С. М., Иваненков Г. В., Коломенский А. А. и др. // Физика плазмы. 1983. Т. 9. № 3. С. 469.
18. Захаров С. М., Ивананков Г. В., Коломенский А. А. и др. // Письма в ЖТФ. 1984. Т. 10. Вып. 18. С. 1145.
19. Долгов А. Н., Салахутдинов Г. Х. // Физика плазмы. 2003. Т. 29. № 9. С. 818.
20. Долгов А. Н., Вихрев В. В. // Физика плазмы. 2005. Т. 31. № 3. С. 230.
21. Романовский М. К. Введение в физику высокотемпературной плазмы. Ч. 1. — М.: МИФИ, 1968.
22. Райзер Ю. П. Основы современной физики газоразрядных процессов. — М.: Наука, 1980.
23. Шерозия Г. А. Точечные источники пучков заряженных и нейтральных частиц для лазерных спектрометров // Дисс. … докт. физ.-мат. наук. — М., 1989.
24. Вихрев В. В., Иванов В. В., Кошелев К. Н. Динамика плазмы в микропинче / Препринт ИАЭ-3359/6. — М., 1980.
25. Веретенников В. А., Грибков В. А., Кононов Э. Я. и др. // Физика плазмы. 1981. Т. 7. № 2. С. 455.
1. L. Jakubowski, M. Sadowski, and J. Zebrowski, Nucl. Fusion 41, 755 (2001).
2. A. G. Russkikh, R. B. Baksht, A. Yu. Labetsky, et al., Plasma Phys. Rep. 27, 584 (2001).
3. V. Nardi, A. Bortollotti, J. S. Brzosko, et al., IEEE Trens. Plasma Sci. 3, 368 (1988).
4. K. Hirano and T. Yamamoto, Phys. Fluids 31, 2710 (1988).
5. P. S. Antsiferov, K. N. Koshelev, V. I. Krauz, et al., Plasma Phys. Rep. 16, 1319 (1990).
6. G. S. Sarkisov, B. Etlisher, S. Atelan, et al., JETP Lett. 61, 471 (1995).
7. A. N. Dolgov, N. V. Zemchenkova, N. A. Klyachin, et al., Plasma Phys. Rep. 36, 826. (2010).
8. V. A. Veretennikov, S. N. Polukhin, O. G. Semenov, et al., Plasma Phys. Rep. 7, 1199 (1981).
9. A. N. Dolgov, V. K. Lyapidevsky, D. E. Prokhorovich, et al., Plasma Phys. Rep. 31, 192 (2005).
10. V. A. Boiko, S. A. Pikuz, and A. Ya. Faenov, Instrum. Exp. Tech., No. 2, 5 (1980).
11. V. V. Vikhrev, V. V. Ivanov, and K. N. Koshelev, Plasma Phys, Rep. 8, 1211 (1982).
12. K. Takasugi, H. Suzuki, K. Moriyamu, et al., Jap. J. Appl. Phys. Pt. 1. 35, 4051 (1996).
13. L. Bernal and H. Bruzzone, Plasma Phys. and Contr. Fusion. 44, 223 (2002).
14. V. A. Veretennikov, A. N. Dolgov, O. N. Krokhinm et al., Plasma Phys. Rep. 11, 1107 (1985).
15. A. N. Dolgov, Plasma Phys. Rep. 31, 733 (2005).
16. A. N. Dolgov, Plasma Phys. Rep. 31, 539 (2005).
17. S. M. Zakharov, G. V. Ivanenkov, A. A. Kolomenskym et al., Plasma Phys. Rep. 9, 469 (1983).
18. S. M. Zakharov, G. V. Ivanenkov, A. A. Kolomenskym et al., Tech. Phys. Lett. 10, 1145 (1984).
19. A. N. Dolgov and G. Kh. Salakhutdinov, Plasma Phys. Rep. 29, 818 (2003).
20. A. N. Dolgov and V. V. Vikhrev, Plasma Phys, Rep. 31, 230 (2005).
21. M. K. Romanovsky, Introduction to Physics of High Temperature Plasma. Part I. (MIFI, Moscow, 1968) [in Russian].
22. Yu. P. Raizer, Foundation of Modern Physics of Gas-Discharge Processes (Nauka, Moscow, 1980) [in Russian].
23. G. A. Sheroziya, Doctoral Dissertation in Mathematics and Physics (Moscow, 1989).
24. V. V. Vikhrev, V. V. Ivanov, and K. N. Koshelev, Dynamics of Plasma in Micropinch (Preprint IAE-3359/6, Moscow, 1980) [in Russian].
25. V. A. Veretennikov, V. A. Gribkov, E. A. Kononov, et al., Plasma Phys. Rep. 7, 455 (1981).
Выпуск
Другие статьи выпуска
Предложены модели продольного инверсионного и поперечного, работающего на эффекте Эттингсгаузена, холодильников предназначенных для работы в области криогенных температур. Рассчитаны и проанализированы максимальные перепады температур, которые можно получить с помощью этих холодильников при наличии сильных токов. Указаны области их возможного применения.
Технологией мезатравления изготовлены матрицы фоточувствительных элементов на основе p–i–n-фотодиодов в гетероэпитаксиальных структурах InGaAs/InP, в том числе с широкозонным барьерным слоем AlInAs. Показана важная роль токов туннелирования в структурах InGaAs и уменьшение на два порядка токов диффузии и генерациирекомбинации для МФЧЭ с барьерным слоем InAlAs. Проведено приближение измеренных и теоретических ВАХ методом подгонки параметров, определена скорость поверхностной рекомбинации на границе слоя поглощения.
Рассмотрен метод разработки сканирующего ФПУ, предназначенного для работы в автономном режиме с повышенной безотказностью в течение заданного продолжительного интервала времени. ФПУ включает заданное число модулей на основе многорядной линейки с фоточувствительными элементами (ФЧЭ), имеющими меньшее среднее время безотказной работы, чем заданный временной интервал. Метод включает использование аналитической модели МФПУ и аналитической модели безотказности МФПУ.
Аналитическая модель безотказности МФПУ использовалась для определения необходимого числа ФЧЭ в канале сканирующего ФПУ, зависящего от известного среднего времени безотказной работы одного ФЧЭ. В этом случае обеспечивается высокая вероятность безотказной работы каналов, модулей и ФПУ в течение заданного интервала времени. Аналитическая модель МФПУ применялась для расчёта и анализа фотоэлектрических параметров разрабатываемого устройства.
Совместное использование указанных аналитических моделей позволяет достаточно быстро и корректно определять конструктивные, эксплуатационные и фотоэлектрические параметры любого многоканального ФПУ с заданными надежностными параметрами. В качестве примера рассматривается разработка ИК ФПУ на спектральный диапазон (10,5—12,6) мкм с 1024 каналами, с гамма-процентной наработкой до 10 лет при вероятности безотказной работы не менее 0,99.
При создании фотоприемных устройств УФ- и ИК-диапазонов используются кристаллы, изготовленные из разных материалов. Гибридизация разнородных подложек осуществляется методом перевернутого кристалла с помощью сформированных на каждом кристалле индиевых микроконтактов. Рассмотрены методы гибридизации кристаллов с разной формой индиевых микроконтактов. Исследовано влияние формы микроконтактов на надежность гибридизации кристаллов.
Детально проанализировано, как влияет значение концентрации центров рекомбинации N на процесс генерации-рекомбинации Холла-Шокли-Рида. Рассмотрено слабое отклонение полупроводника от состояния термодинамического равновесия. Показано, что в концентрационных зависимостях времен жизни неравновесных электронов n(N) и дырок p(N), в целом падающих с увеличением N, при определенных условиях может быть и участок роста на несколько порядков. Проведено аналитическое решение задачи о свойствах функций n(N) и p(N) в их экстремальных точках. Проанализированы зависимости значений функций n(N), p(N) в их экстремальных точках и положений этих экстремумов от концентрации мелкой легирующей примеси ND, энергии рекомбинационного уровня Et, отношения вероятностей захвата дырки и электрона на него , энергии запрещенной зоны полупроводника Eg, а также от температуры T. Вне традиционного приближения квазинейтральности развита теория эффекта всплеска до нескольких порядков фотоэлектрического отклика полупроводников при увеличении концентрации рекомбинационных центров N в случае межзонной фотогенерации носителей слабым излучением. Решены задачи об эффективностях фотовозбуждения электронов и дырок и фотоЭДС Дембера. Показано, что искомые величины можно радикально повысить за счет увеличения N. Исследованы зависимости коэффициента фотоэлектрического усиления G от N и напряжения на образце V. Выяснено, что величина всплеска G(N) немонотонно зависит от величины V. Вычислено максимально возможное значение всплеска G(N). Установлено, что неквазинейтральное решение рассмотренных задач может кардинально отличаться от квазинейтрального. Дано подробное физическое толкование полученных результатов.
Проведен анализ динамических условий устойчивости электрической дуги в канале плазмотрона. Показано, что из известных трех динамических условий устойчивости независимыми являются два. Предложен критерий, позволяющий определить область значений параметров схемы питания плазмотрона, в которой учет динамических свойств дуги становится необходимым.
Рассмотрена нанофокусировка поверхностной плазмонной волны на вершине наноострия с учетом поглощения в металле. Граница металла вблизи вершины приближается поверхностью параболоида вращения. Приведены расчеты распределений поля на вершинах нанострий из хорошо проводящих металлов в оптическом диапазоне. Найдены параметры, влияющие на нанофокусировку.
Сформулированы основы кумулятивной 3D-кристаллодинамики положительно заряженных плазмоидов, в которых локализованный ферми-газ формирует e-мембрану и ионные решётки. Ряд явлений в таких фрактализованных плазмоидах имеет аналоги в твердых телах и металлах. Аналитически: 1) рассчитаны коэффициенты объёмного сжатия кристаллов IV группы элементов; 2) исследованы поляризационный эффект, открытый автором, и эффект Казимира. Аналитически выявлены области их относительного доминирования.
Рассмотрены вопросы формирования электрических флуктуаций в твердых телах, вызванных дефектами структуры. Проанализированы деградационные процессы в твердых материалах. Установлена связь спектральных свойств шума в полупроводниках, вызванного ловушками, с характеристиками деградационных процессов. Вычислено выражение для спектра шума в полупроводниках, обусловленного ловушками, с флуктуирующим числом ловушек.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400