Технологией мезатравления изготовлены матрицы фоточувствительных элементов на основе p–i–n-фотодиодов в гетероэпитаксиальных структурах InGaAs/InP, в том числе с широкозонным барьерным слоем AlInAs. Показана важная роль токов туннелирования в структурах InGaAs и уменьшение на два порядка токов диффузии и генерациирекомбинации для МФЧЭ с барьерным слоем InAlAs. Проведено приближение измеренных и теоретических ВАХ методом подгонки параметров, определена скорость поверхностной рекомбинации на границе слоя поглощения.
InGaAs is one of important material for the visible to SWIR range in producing of the mezaphotodiode FPA including devices with wideband barrier layer AlInAs. A dark current of the p–i–n junction diode under a reverse bias condition consists of the bulk and surface components. The major role of tunneling currents in InGaAs heterostructures was shown. It was obtained reducing of two orders in diffusion current (Jdif) and generation-recombination current (Jg-r) for the FPA with the InAlAs barrier layer. As a result of the fitting to the experimental results of volt-ampere characteristic, the surface recombination rate has been determined on the absorption n-layer interface.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 23608590