При создании фотоприемных устройств УФ- и ИК-диапазонов используются кристаллы, изготовленные из разных материалов. Гибридизация разнородных подложек осуществляется методом перевернутого кристалла с помощью сформированных на каждом кристалле индиевых микроконтактов. Рассмотрены методы гибридизации кристаллов с разной формой индиевых микроконтактов. Исследовано влияние формы микроконтактов на надежность гибридизации кристаллов.
Crystals made of different materials are used in creation of the UV and IR photodetectors. Hybridization of heterogeneous substrates is carried out by using a flip-chip method by means of indium microcontacts to be formed on each crystal. Consideration is given to the methods of hybridization of crystals with different forms of indium microcontacts. Influence of a form of microcontacts on the reliability of crystal hybridization has been investigated.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 23608587
Для гибридизации кристаллов БИС считывания и МФЧЭ методом перевернутого монтажа обычно используются микроконтакты квадратной или круглой формы с плоскими вершинами. Однако из-за наличия на поверхности микроконтактов жесткой пленки оксида индия, препятствующей качественной сварке микроконтактов, прочность соединения кристаллов оказывается низкой. В работе рассмотрены некоторые методы улучшения качества сварки микроконтактов.
При сдавливании прямоугольные микроконтакты, сильно деформируясь, как бы разрезают друг друга, с последующим слипанием чистым индием не только горизонтальными плоскостями, но и боковыми сторонами. В этом случае давление, необходимое для разрушения оксидной пленки ниже, чем при использовании квадратных или круглых микроконтактов с плоскими вершинами. Показано, что при ориентации прямоугольных микроконтактов вдоль диагоналей ячеек увеличивается площадь стыковки, а, следовательно, и прочность соединения микроконтактов. Прямоугольные микроконтакты, объединенные в решетки, могут быть использованы для формирования опорных элементов на периферии кристаллов для устранения передавливания матричных микроконтактов.
Проведен ряд стыковок кристаллов БИС и МФЧЭ формата 384288 с шагом 28 мкм с микроконтактами прямоугольной формы. Представлены фотографии исходных индиевых микроконтактов до стыковки и после расстыковки, которые свидетельствуют о хорошей адгезии индия состыкованных микроконтактов двух кристаллов. Это позволяет получить высокую прочность соединения микроконтактов в широком диапазоне температур без использования дополнительных приемов улучшения качества холодной сварки.
При небольшой погрешности совмещения кристаллов с микроконтактами квадратной или круглой формы с плоскими вершинами возможно закорачивание микроконтактов одного кристалла микроконтактами другого кристалла. Использование для гибридизации микроконтактов прямоугольной формы позволяет исключить возможность появления подобных закороток при сохранении механической прочности соединения.
Рассмотрены геометрические соотношения между размерами микроконтактов, при которых выполняется условие отсутствия закороток микроконтактов двух кристаллов.
Список литературы
1. John M. Tracy. Патент US № 4067104A.
2. Акимов В. М., Климанов Е. А., Лисейкин В. П. и др. // Прикладная физика. 2003. № 2. С. 80.
3. Акимов В.М., Болтарь К.О., Васильева Л.А. и др. Способ изготовления индиевых столбиков Патент на изобретение № 2371808, 27.10.09.
4. Акимов В. М., Климанов Е. А., Лисейкин В. П. и др. // Прикладная физика. 2010. № 4. С. 99.
5. Болтарь К. О., Корнеева М. Д., Мезин Ю. С. и др. // Прикладная физика. 2011. № 1. С. 96.
6. Дирочка А. И., Климанов. Е. А., Мезин Ю. С. и др. // Успехи прикладной физики. 2013. Т. 1. № 1. С. 65.
7. Ефимов В. М., Валишева Н. А. / XXII международная науч.-техн. конф. по фотоэлектронике и приборам ночного видения (Москва, 22—25 мая 2012 г). Тезисы докладов. С. 308.
8. Ефимов В. М. Патент РФ № 2411610.
9. Курышев Г. Л., Ковчавцев А. П., Вайнер Б. Г. и др. // Автометрия. 1998. № 4. С. 5.
10. Клименко А. Г., Войнов В. Г., Новоселов А. Р. и др. // Автометрия. 1998. № 4. С. 105.
11. Новоселов А. Р., Косулина И. Г., Клименко А. Г. и др. // Автометрия. 2013. Т. 49. № 1. С. 111.
12. Новоселов А. Р., Кузьмин и др. Способ формирования контактного столба многоконтактного гибридного соединения. Патент РФ № 2392690.
13. Акимов В.М., Болтарь К.О., Васильева Л.А. и др. Способ гибридизации кристаллов БИС считывания и матрицы фоточувствительных элементов фотоприемных устройств. Патент на изобретение № 2537089, 30.10.14.
14. Акимов В. М., Болтарь К. О., Васильева Л. А. и др. / XXIII Международная научно-техническая конференция по фотоэлектронике и приборам ночного видения. (Москва, 28—30 мая 2012).Тезисы докладов. С. 518.
15. Акимов В. М., Болтарь К. О., Васильева Л. А., Демидов С. С. и др. // Прикладная физика. 2015. № 1. С. 51.
1. M. John, US Patent No. 4067104A.
2. V. M. Akimov, E. A. Klimanov, V. P. Liseikin, et al., Prikladnaya Fizika, No. 2, 80 (2003).
3. V. M. Akimov, K. O. Boltar, L. A. Vasilyeva, et al., RF Patent No. 371808, October 10, 2009.
4. V. M. Akimov, E. A. Klimanov, V. P. Liseikin, et al., Prikladnaya Fizika, No. 4, 99 (2010).
5. K. O. Boltar, M. D. Korneeva, Yu. S. Mezin, et al., Prikladnaya Fizika, No. 1, 96 (2011).
6. A. I. Dirochka, E. A. Klimanov, Yu. S. Mezin, et al., Uspekhi Prikladnou Fiziki 1, 65 (2013).
7. V. M. Efimov and N. A. Valisheva, in Proc. XXII Intern. Conf. Photoelectronics (Moscow, May 22—25, 2012). P. 308.
8. V. M. Efimov, RF Patent No. 2411610.
9. G. L. Kuryshev, A. P. Kovchavtsev, B. G. Vainer, et al., Optoelectron., Instrum. Data Process., No. 4, 5 (1998).
10. A. G. Klimenko, V. G. Voinov, A. R. Novoselov, et al., Optoelectron., Instrum. Data Process., No. 4, 105 (1998).
11. A. R. Novoselov, I. G. Kosulina, A. G. Klimenko, et al., Optoelectron., Instrum. Data Process., No. 1, 111 (2013).
12. A. R. Novoselov et al., RF Patent No. 2392690.
13. V. M. Akimov, K. O. Boltar, L. A. Vasilyeva, et al., RF Patent No. 2537089, October 10, 2014.
14. V. M. Akimov, K. O. Boltar, L. A. Vasilyeva, et al., in Proc. XXIII Intern. Conf. Photoelectron. (Moscow, May 28—30, 2012). P. 518.
15. V. M. Akimov, K. O. Boltar, L. A. Vasilyeva, et al., Prikladnaya Fizika, No. 1, 51 (2015).
Выпуск
Другие статьи выпуска
Предложены модели продольного инверсионного и поперечного, работающего на эффекте Эттингсгаузена, холодильников предназначенных для работы в области криогенных температур. Рассчитаны и проанализированы максимальные перепады температур, которые можно получить с помощью этих холодильников при наличии сильных токов. Указаны области их возможного применения.
Технологией мезатравления изготовлены матрицы фоточувствительных элементов на основе p–i–n-фотодиодов в гетероэпитаксиальных структурах InGaAs/InP, в том числе с широкозонным барьерным слоем AlInAs. Показана важная роль токов туннелирования в структурах InGaAs и уменьшение на два порядка токов диффузии и генерациирекомбинации для МФЧЭ с барьерным слоем InAlAs. Проведено приближение измеренных и теоретических ВАХ методом подгонки параметров, определена скорость поверхностной рекомбинации на границе слоя поглощения.
Рассмотрен метод разработки сканирующего ФПУ, предназначенного для работы в автономном режиме с повышенной безотказностью в течение заданного продолжительного интервала времени. ФПУ включает заданное число модулей на основе многорядной линейки с фоточувствительными элементами (ФЧЭ), имеющими меньшее среднее время безотказной работы, чем заданный временной интервал. Метод включает использование аналитической модели МФПУ и аналитической модели безотказности МФПУ.
Аналитическая модель безотказности МФПУ использовалась для определения необходимого числа ФЧЭ в канале сканирующего ФПУ, зависящего от известного среднего времени безотказной работы одного ФЧЭ. В этом случае обеспечивается высокая вероятность безотказной работы каналов, модулей и ФПУ в течение заданного интервала времени. Аналитическая модель МФПУ применялась для расчёта и анализа фотоэлектрических параметров разрабатываемого устройства.
Совместное использование указанных аналитических моделей позволяет достаточно быстро и корректно определять конструктивные, эксплуатационные и фотоэлектрические параметры любого многоканального ФПУ с заданными надежностными параметрами. В качестве примера рассматривается разработка ИК ФПУ на спектральный диапазон (10,5—12,6) мкм с 1024 каналами, с гамма-процентной наработкой до 10 лет при вероятности безотказной работы не менее 0,99.
Детально проанализировано, как влияет значение концентрации центров рекомбинации N на процесс генерации-рекомбинации Холла-Шокли-Рида. Рассмотрено слабое отклонение полупроводника от состояния термодинамического равновесия. Показано, что в концентрационных зависимостях времен жизни неравновесных электронов n(N) и дырок p(N), в целом падающих с увеличением N, при определенных условиях может быть и участок роста на несколько порядков. Проведено аналитическое решение задачи о свойствах функций n(N) и p(N) в их экстремальных точках. Проанализированы зависимости значений функций n(N), p(N) в их экстремальных точках и положений этих экстремумов от концентрации мелкой легирующей примеси ND, энергии рекомбинационного уровня Et, отношения вероятностей захвата дырки и электрона на него , энергии запрещенной зоны полупроводника Eg, а также от температуры T. Вне традиционного приближения квазинейтральности развита теория эффекта всплеска до нескольких порядков фотоэлектрического отклика полупроводников при увеличении концентрации рекомбинационных центров N в случае межзонной фотогенерации носителей слабым излучением. Решены задачи об эффективностях фотовозбуждения электронов и дырок и фотоЭДС Дембера. Показано, что искомые величины можно радикально повысить за счет увеличения N. Исследованы зависимости коэффициента фотоэлектрического усиления G от N и напряжения на образце V. Выяснено, что величина всплеска G(N) немонотонно зависит от величины V. Вычислено максимально возможное значение всплеска G(N). Установлено, что неквазинейтральное решение рассмотренных задач может кардинально отличаться от квазинейтрального. Дано подробное физическое толкование полученных результатов.
Проведен анализ динамических условий устойчивости электрической дуги в канале плазмотрона. Показано, что из известных трех динамических условий устойчивости независимыми являются два. Предложен критерий, позволяющий определить область значений параметров схемы питания плазмотрона, в которой учет динамических свойств дуги становится необходимым.
При исследовании пространственной структуры источников мягкого рентгеновского излучения в плазме микропинчевого разряда наблюдается устойчивое формирование трубчатой области, излучающей в диапазоне L-спектра плазмообразующего элемента. Оценки показывают, что за формирование трубчатого источника мягкого рентгеновского излучения может отвечать аномальное скинирование тока в перетяжке вследствие быстрого возрастания напряженности поля, вызванного аномальным ростом сопротивления плазмы.
Рассмотрена нанофокусировка поверхностной плазмонной волны на вершине наноострия с учетом поглощения в металле. Граница металла вблизи вершины приближается поверхностью параболоида вращения. Приведены расчеты распределений поля на вершинах нанострий из хорошо проводящих металлов в оптическом диапазоне. Найдены параметры, влияющие на нанофокусировку.
Сформулированы основы кумулятивной 3D-кристаллодинамики положительно заряженных плазмоидов, в которых локализованный ферми-газ формирует e-мембрану и ионные решётки. Ряд явлений в таких фрактализованных плазмоидах имеет аналоги в твердых телах и металлах. Аналитически: 1) рассчитаны коэффициенты объёмного сжатия кристаллов IV группы элементов; 2) исследованы поляризационный эффект, открытый автором, и эффект Казимира. Аналитически выявлены области их относительного доминирования.
Рассмотрены вопросы формирования электрических флуктуаций в твердых телах, вызванных дефектами структуры. Проанализированы деградационные процессы в твердых материалах. Установлена связь спектральных свойств шума в полупроводниках, вызванного ловушками, с характеристиками деградационных процессов. Вычислено выражение для спектра шума в полупроводниках, обусловленного ловушками, с флуктуирующим числом ловушек.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400