Детально проанализировано, как влияет значение концентрации центров рекомбинации N на процесс генерации-рекомбинации Холла-Шокли-Рида. Рассмотрено слабое отклонение полупроводника от состояния термодинамического равновесия. Показано, что в концентрационных зависимостях времен жизни неравновесных электронов n(N) и дырок p(N), в целом падающих с увеличением N, при определенных условиях может быть и участок роста на несколько порядков. Проведено аналитическое решение задачи о свойствах функций n(N) и p(N) в их экстремальных точках. Проанализированы зависимости значений функций n(N), p(N) в их экстремальных точках и положений этих экстремумов от концентрации мелкой легирующей примеси ND, энергии рекомбинационного уровня Et, отношения вероятностей захвата дырки и электрона на него , энергии запрещенной зоны полупроводника Eg, а также от температуры T. Вне традиционного приближения квазинейтральности развита теория эффекта всплеска до нескольких порядков фотоэлектрического отклика полупроводников при увеличении концентрации рекомбинационных центров N в случае межзонной фотогенерации носителей слабым излучением. Решены задачи об эффективностях фотовозбуждения электронов и дырок и фотоЭДС Дембера. Показано, что искомые величины можно радикально повысить за счет увеличения N. Исследованы зависимости коэффициента фотоэлектрического усиления G от N и напряжения на образце V. Выяснено, что величина всплеска G(N) немонотонно зависит от величины V. Вычислено максимально возможное значение всплеска G(N). Установлено, что неквазинейтральное решение рассмотренных задач может кардинально отличаться от квазинейтрального. Дано подробное физическое толкование полученных результатов.
It is developed theory of recombination through impurity level traps and studed in detail two important aspects: 1. dependences of excess charge carriers’ lifetime and photoelectric gain on concentration N of recombination centers, 2. effectiveness of band-to-band photoexcitation of charge carriers and photo-emf in semiconductors at low-level illumination outside quasi-neutrality approximation. Systematic mathematical and detailed physical analysis of considered parameters are had done. The main reason of giant splash of photoresponse in semiconductors with increasing recombination centers concentration N is growth of charge carriers’ lifetime in orders of magnitude. This reason is also sufficient to provide increase, in order of magnitude and more, in efficiency of charge carriers’ photoexcitation with increasing N. Results of strict analytical calculations (i. e., outside commonly used local approximation of quasi-neutrality) show, that, photo-induced local space charge effects substantially on giant splash of semiconductor photoelectric response with increasing concentration of recombination centers.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 23608586
При увеличении концентрации глубокой примеси, т. е., рекомбинационных центров N, растет темп захвата ими неравновесных носителей. Тем не менее, как показано в данной работе на примере одиночного акцепторного уровня, за счет слабо неравновесного заполнения рекомбинационного уровня, это совсем не обязательно должно сопровождаться уменьшением времен жизни неравновесных электронов n и дырок p. Дело в том, что времена жизни определяются не только захватом неравновесных носителей на равновесные ловушки, но и тепловым выбросом электронов и дырок неравновесными центрами из связанного состояния в свободное, а также захватом равновесных носителей неравновесными ловушками. По этой причине времена жизни неравновесных носителей могут оказаться как больше, так и меньше времени их захвата на равновесные ловушки и быть сильно немонотонными функциями концентрации центров рекомбинации (рис. 1, б). В случае акцепторной рекомбинационной примеси, это реализуется, если, в грубом приближении, рекомбинационный уровень лежит ниже середины запрещенной зоны. Если же рекомбинационный уровень донорного типа, то он должен располагаться, в том же приближении, выше середины запрещенной зоны. Существенно, что отношение времен жизни в максимуме и минимуме функций n (N) и p (N) может составлять несколько порядков (рис. 1, б; рис. 3, б).
О наличии минимума и участка слабого роста (на 24 %) в экспериментальной зависимости времени жизни неравновесных носителей от концентрации рекомбинационных центров, которая увеличивалась вследствие облучения образца электронами высоких энергий, впервые сообщалось, по-видимому, в статье [25]. Значительно позже в работе [32] экспериментально наблюдался рост времени жизни за счет, по-видимому, увеличения N уже в несколько раз.
Возрастание на порядки времен жизни носителей при увеличении N является основной причиной эффекта гигантского всплеска фотоотклика полупроводников при увеличении концентрации рекомбинационных центров (рис. 1, а, 6 и 7). Эта причина является и достаточной для обеспечения возможности увеличения на порядок и более эффективности фотовозбуждения носителей за счет увеличения N (рис. 6).
В точке максимума ˆ N N ND времен жизни носителей и ее окрестности, где ND — концентрация мелкой легирующей примеси, равновесная концентрация носителей достигает малой величины. Поэтому увеличение фотоЭДС Дембера Vph на несколько порядков (рис. 7) обусловлено как сильно немонотонными зависимостями n (N) и p (N) (рис. 1, б), так и сильно немонотонной зависимостью темнового сопротивления образца от N [1—3, 8, 30, 31].
Однако возрастание на порядки времен жизни носителей при увеличении N (рис. 1, б) не является достаточной причиной для существования эффекта гигантского всплеска коэффициента фотоэлектрического усиления с ростом N (рис. 1, а). Дело в том, что G возрастает с увеличением времен жизни носителей, как это следует из работ [18, 19], если их амбиполярная подвижность (см. (74), (158), [2]) равна нулю, или если отсутствует рекомбинация на токовых контактах ( x 0 и x W, см. вставку на рис. 2, a). Реально же рекомбинация на них в той или иной степени всегда происходит [5, 9]. Поэтому в обычных условиях ( 0 ) увеличение времен жизни, начиная с некоторых их значений, не приводит к росту плотности фототока I ph [5, 18, 19]. Наиболее ярко насыщение I ph проявляется в случае сильной рекомбинации на контактах, когда (вытягивающие контакты [5, 18, 19]) фотоносители на них отсутствуют, т. е. выполняется условие (1). При рекомбинации через примесь функция (N) при тех же условиях, при которых возникают немонотонные зависимости n (N) и p (N), обращается в нуль при том же, с точностью до малых поправок, значении N Nˆ, при котором функции n (N) и p (N) достигают максимальных экстремумов ˆn и ˆ p (рис. 2, б, в). Поэтому I ph, а, следовательно, и G возрастают в меру увеличения n (N) и p (N). В этом состоят физические причины гигантского всплеска коэффициента усиления G при увеличении N (рис. 2, a).
Приведенные выше результаты строгих (без привлечения обычно используемого приближения локальной квазинейтральности) аналитических вычислений показывают, что на эффект гигантского всплеска фотоэлектрического отклика полупроводников при увеличении концентрации центров рекомбинации существенно влияет индуцированный оптическим излучением локальный пространственный заряд.
Строгие решения задач о числе фотовозбужденных электронов Nph и дырок Pph и фотоЭДС Дембера Vph могут принципиально отличаться от квазинейтрального решения ph N, ph P и Vph соответственно. Возможно, что Pph / Nph 1, даже если время жизни дырок p много меньше, чем электронов n (рис. 2, б). В то же время, в приближении квазинейтральности, имеем / ph P ph N = p / n 1 (рис. 2, б). В точке N Nˆ, в которой функции Nph (N), Pph (N) и Vph (N) достигают максимального значения, и в окрестности ˆN для “тонких″ образцов (при толщине вдоль света В. А. Холоднов 278 W 0,1 см) квазинейтральное решение может отличаться от неквазинейтрального на несколько порядков (рис. 8—11). Более того, и при W не всегда можно пренебрегать фотоиндуцированным объемным зарядом, т. е. не всегда можно решать задачу в квазинейтральном приближении. Это обусловлено тем, что в случае достаточно глубокого рекомбинационного уровня длина экранирования фотовозбужденного объемного заряда может оказаться порядка амбиполярной диффузионной длины носителей.
При вытягивающих контактах всплеск G(N) при увеличении N немонотонно зависит от приложенного к образцу напряжения V (рис. 3, a). Этот эффект не связан с разогревом носителей или решетки, а также с инжекцией заряда из токовых контактов. Он обусловлен увеличением эффективного амбиполярного коэффициента диффузии D (коэффициента перед второй производной в уравнении (81), определяющем распределение фотоносителей) с увеличением V, что приводит к росту гибели фотоносителей за счет их диффузии к контактам и последующей рекомбинации на них. В свою очередь, увеличение D ~ V 2 вызвано фотоиндуцированным локальным объемным зарядом. Существенно, что при оптимальном напряжении Vop (рис. 2, г) значение G может составлять несколько порядков (рис. 2, в) при больших концентрациях рекомбинационных центров.
В работе [33] показано, что при трех зарядовых состояниях рекомбинационной примеси N (двухуровневое приближение) также может иметь место сильное возрастание n(N) и p(N) при увеличении N, причем зависимости n(N) и p(N) могут иметь по 2 минимума и максимума. По сравнению со случаем одноуровневой рекомбинационной примеси в случае двухуровневой рекомбинационной примеси максимум G(N), как это показано в работе [34], может достигаться при меньших концентрациях N и иметь большее значение. Коэффициент фотоэлектрического усиления G слева от положения максимума функции G(N) в двухуровневой ситуации больше, чем в одноуровневой. Это обусловлено малым значением амбиполярной подвижности носителей в двухуровневой ситуации. В работе [35] показано, что эффект сильного роста времен жизни носителей с ростом в некотором диапазоне значений концентрации рекомбинационной примеси может реализоваться и при наличии побочной (фоновой) глубокой примеси. Могут возникнуть даже два максимума.
Рассмотренные выше закономерности реализуются при сколь угодно низких уровнях возбуждения и проявляются тем ярче, чем больше ширина запрещенной зоны полупроводника.
Дальнейшее развитие теории эффекта гигантского всплеска фотоэлектрического отклика полупроводников на слабое оптическое излучение при увеличении концентрации центров рекомбинации связано с обобщением граничных условий на поверхностях и токовых контактах полупроводника, конечно, с учетом неоднородности фотогенерации носителей вдоль линий тока и флуктуационных процессов. Особый интерес вызывает исследование нестационарных (частотных и переходных) характеристик.
Из физической сути рассмотренных явлений следует, что аналогичные эффекты могут наблюдаться и в других средах с характером рекомбинации диссоциативного и ион-ионного типа, к примеру, в многокомпонентной плазме [36].
Основу данной работы составили публикации [20, 23, 37—47].
Список литературы
1. Милнс А. Примеси с глубокими уровнями в полупроводниках. — М.: Мир, 1977.
2. Смит Р. Полупроводники. — М.: Мир, 1982.
3. Зи С. М. Физика полупроводниковых приборов. Кн. 1. — М.: Мир, 1984.
4. Bube R. H. Photoelectronic properties of semiconductors — Cam.Univ.Pr, Cambridge, 1992.
5. Rogalski A. et al. Infrared Photon Detectors. — Bellingham-Washington USA: SPIE Opt. Engin. Press, 1995.
6. Colinge J. P., Colinge C. A. Physics of Semiconductor devices. — New York–Boston–Dordrecht–London–Moscow: Kluwer Academic Publishers, 2002.
7. Lutz G. Semiconductor Radiation Detectors. — Berlin-Heidelberg–New York: Springer – Verlag, 2007.
8. Sze S. M. and Kwok K. Ng. Physics of Semiconductors Devices – Wiley, 2007.
9. Rogalski A. Infrared Detectors. — Boca Raton–London–New York: CRC Press, Taylor & Francis Group, 2011.
10. Holl R. N. // Physical Review. 1952. V. 87. No. 2. P. 387.
11. Shockley W., Read W. T. // Physical Review. 1952. V. 87. No. 5. P. 835.
12. Блекмор Дж. С. Статистика электронов в полупроводниках. — М.: Мир, 1964.
13. Рывкин С. М. Фотоэлектрические явления в полупроводниках. — М.: Физматгиз, 1963.
14. Блекмор Дж. Физика твердого тела. — М.: Мир, 1988.
15. Downey P. M., Martin R. J., Nahory К. B., et al. // Appl. Phys. Lett. 1985. V. 46. P. 396.
16. Schaelin A., Loepfe R., Melchior H., et al. // Mater. Sci. Engin. B. 1989. V. 2. P. 81.
17. Bulberg I., Naidis R. // Phys. Rev. B. 1998. V. 57. No. 12. P. 6783.
18. Rittner E. S. Electron Processes in Photoconductors / Photoconductivity Conference. — New York, 1956. P. 215-268.
19. Shacham-Diamand Y. J., Kidron I. // Infr. Phys. 1981. V. 21. No. 2. P. 105.
20. Drugova A. A., Kholodnov V. A. / Proceedings of International Semiconductor Device Research Symposium, Charlottesville, Virginia (USA). Vol. 1. Р. 197—200, Dec. 5–8, 1995.
21. Фотоприемники видимого и ИК-диапазонов. Под ред. Р. Дж. Киеса. — М.: Радио и связь, 1985.
22. Beneking H. // IEEE Trans.on Elec. Devic., 1982. V. ED-29. No. 9. P. 1420.
23. Холоднов В. А. // Письма в ЖЭТФ. 1998. Т. 67. № 9. С. 655.
24. Oсипов В. В., Холоднов В. A. // ФТП. 1970. Т. 4. № 12. С. 2241.
25. Wertheim G. K. // Physical Review. 1958. V. 109. No. 4. P. 1086.
26. Техника оптической связи: фотоприемники. Под ред. У. Тсанга. — М.: Мир, 1988.
27. Киреев П. С. Физика полупроводников. — M.: Высшая школа, 1969.
28. Moсс T. Оптические свойства полупроводников. — М.: ИЛ, 1962.
29. Пикус Г. Е. Основы теории полупроводниковых приборов. — М.: Наука, 1965.
30. Аут И., Генцов Д., Герман К. Фотоэлектрические явления. — М.: Мир, 1980.
31. Бонч-Бруевич В. Л., Калашников С. Г. Физика полупроводников. — М.: Наука,1990.
32. Башелеишвили З. В., Гарнык В. С., Горин С. Н. и др. // ФТП. 1984. Т. 18. С. 1714.
33. Серебренников П. С., Холоднов В. А. // Письма в ЖТФ. 1997. Т. 23. № 7. С. 39.
34. Kholodnov V. A., Serebrennicov P. S. // Proceedings of SPIE. 2003. V. 5126. P. 352.
35. Серебренников П. С., Холоднов В. А. // Письма в ЖТФ. 1997. Т. 23. № 24. С. 58.
36. Райзер Ю. П. Физика газового разряда. — М.: Наука, 1992.
37. Drugova A. A., Kholodnov V. A. // Solid-St. Electron. 1995. V. 38. No. 6. P. 1247.
38. Холоднов В. А. // ФТП. 1996. Т. 30. № 6. С. 1011.
39. Холоднов В. А. / XV Международная научно-техническая конференция по фотоэлектронике, электронным и ионно-плазменным технологиям (1998, Москва, Россия), Тез. докл. С. 14.
40. Холоднов В. А. / Международная конференция “Прикладная оптика-98”, Тезисы докладов. С. 88, (1998, Санкт-Петербург, Россия).
41. Kholodnov V. A. // Proceedings of SPIE. 1999. V. 3819. P. 98.
42. Kholodnov V. A., Drugova A. A. // Proceedings of SPIE. 2000. V. 4340. P. 186.
43. Холоднов В. А., Другова А. А. // Письма в ЖТФ. 2002. Т. 28. № 17. С. 16.
44. Холоднов В. А., Другова А. А. / VI Российская конференция по физике полупроводников, Тезисы докладов. С. 204 (Санкт-Петербург, Россия, октябрь 2003).
45. Kholodnov V. A., Drugova A. A. / Proceedings of SPIE. 2003. V. 5126. P. 367.
46. Холоднов В. А., Другова А. А. / XIX Международная научно-техническая конференция по фотоэлектронике и приборам ночного видения, Тезисы докл. C. 190. (Москва, Россия, май 2006).
47. Kholodnov V. A., Drugova A. A., Kurochkin N. E. / The 25th International Conference on the Physics of Semiconductors, Abstracts, Part I. P. 239 (Оsaka, Japan, September 17–22, 2000).
1. A. G. Milns, Deep Impurities in Semiconductors (New York–London–Sydney–Toronto: John Wiley and Sons, 1973).
2. R. A. Smith, Semiconductors (London–New York–Melbourne: Cambridge University Press, 1978).
3. S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices (New York–Chichester–Brisbane–Toronto–Singapore: John Wiley and Sons, 1981).
4. R. H. Bube, Photoelectronic Properties of Semiconductors (Cam. Univ. Pr, Cambridge, 1992).
5. A. Rogalski et al., Infrared Photon Detectors (Bellingham–Washington USA: SPIE Opt. Engin. Press, 1995).
6. J. P. Colinge and C. A. Colinge, Physics of Semiconductor Devices (New York–Boston–Dordrecht–London–Moscow: Kluwer Academic Publishers, 2002).
7. G. Lutz, Semiconductor Radiation Detectors (Berlin–Heidelberg–New York: Springer – Verlag, 2007).
8. S. M. Sze and K. Ng Kwok, Physics of Semiconductors Devices (Wiley, 2007).
9. A. Rogalski, Infrared Detectors (Boca Raton–London–New York: CRC Press, Taylor & Francis Group, 2011).
10. R. N. Holl, Physical Review. 87, 387 (1952).
11. W. Shockley and W. T. Read, Physical Review 87, 835 (1952).
12. J. S. Blackmore, Semiconductor Statistics (Oxford–London–New York–Paris: Pergamon Press, 1962).
13. S. M. Ryvkin, Photoelectric Effects in Semiconductors (New York: Consultants Bureau, 1964).
14. J. S. Blackmore, Solid State Physics (London–New York–New Rochielle–Melbourne–Sydney: Cambridge University Press, 1985).
15. P. M. Downey, R.J. Martin, К.B. Nahory, et al., Appl. Phys. Lett. 46, 396 (1985).
16. Schaelin A., Loepfe R., Melchior H., et al. // Mater. Sci. Engin. B. 1989. V. 2. P. 81.
17. Bulberg I., Naidis R. // Phys. Rev. B. 1998. V. 57. No. 12. P. 6783.
18. E. S. Rittner, in Proc. Photoconductivity Conference (New York, 1956). P. 215.
19. Y. J. Shacham-Diamand and I. Kidron, Infr. Phys. 21, 105 (1981).
20. A. A. Drugova and V. A. Kholodnov, in Proceedings of International Semiconductor Device Research Symposium (Charlottesville, Virginia, USA, Dec. 5–8, 1995), Vol. 1, pp. 197—200.
21. Optical and Infrared Detectors. Ed. by R. J. Keyes, (Berlin–Heidelberg–New York: Springer–Verlag, 1977).
22. H. Beneking, IEEE Trans. Elec. Devic., ED-29, 1420 (1982).
23. V. A. Kholodnov, JETP Lett. 67, 685.
24. V. V. Osipov and V. A. Kholodnov, Sov. Phys. Semicond. 4, 1932 (1970).
25. G. K. Wertheim, Physical Review 109, 1086 (1958).
26. W. T. Tsang (ed.), Lightwave Communication Technology: Photodetectors, Semiconductors and Semimetals. Ed. by R. K. Willardson and A. C. Beer, Vol. 22, Part D, 1985.
27. P. S. Kireyev, Physics of Semiconductors (Moscow: Higher School, 1969) [in Russian].
28. T. S. Moss, Optical Properties of Semiconductors (London, Butterwoth, 1959).
29. G. E. Pikus, Foundations of the Semiconductor Devices Theory (Moscow: Nauka, 1965) [in Russian].
30. J. Auth, D. Genzow, and K. H. Herrmann, Photoelektrische Erscheinungen (Berlin: Akademie-Verlag, 1977) [in German].
31. V. L. Bonch-Bruevich and S. G. Kalashnikov, Semiconductor Physics (Moscow: Nauka, 1990) [in Russian].
32. Z. V. Basheleishvili, V. S. Garnyk, S. N. Gorin, et al., Sov. Phys. Semicond. 18, .1074 (1984).
33 V. A. Kholodnov and P. S. Serebrennikov, Tech. Phys. Lett. 23, 268 (1997).
34. V. A. Kholodnov and P. S. Serebrennicov, Proceedings of SPIE 5126, 352 (2003).
35 V. A. Kholodnov and P. S. Serebrennikov, Tech. Phys. Lett. 23, 969 (1997).
36. Yu. P. Rayzer, Physics of Gas Discharge (Moscow: Nauka, 1992) [in Russian].
37. A. A. Drugova and V. A. Kholodnov, Solid-St. Electron., 38, 1247 (1995).
38. V. A. Kholodnov, Semiconductors 30, 538 (1996).
39. V. A. Kholodnov, in Proc. XV International Scientific and Engineering Conference on Photoelectronics and Night Vision Devices, (October, 1998, Moscow, Russia). P. 14.
40 V. A. Kholodnov, in Abstracts of International Conference “Applied Optics-98”, (Sanct-Peterburg, 16–18 December 1998). P. 88.
41. V. A. Kholodnov, Proceedings of SPIE 3819, 98 (199).
42. V. A. Kholodnov and A. A. Drugova, Proceedings of SPIE 4340, 186 (2000).
43. V. A. Kholodnov and A. A. Drugova, Tech. Phys. Lett. 28, 714 (2002).
44. V. A. Kholodnov and A. A. Drugova, in Proc. VI Russian Conference. on Semiconductor Physics, (October, 2003, Sanct-Peterburg, Russia). P. 204.
45. V. A. Kholodnov and A. A. Drugova, Proceedings of SPIE 5126, 367 (2003).
46. V. A. Kholodnov and A. A. Drugova, in Proc. XIX International Scientific and Engineering Conference on Photoelectronics and Night Vision Devices, (May, 2006, Moscow, Russia). P. 190.
47. V. A. Kholodnov, A. A. Drugova, and N. E. Kurochkin, in Proc. 25th International Conference on the Physics of Semiconductors (Оsaka, Japan, September 17–22, 2000). Abstracts, Part I, p. 239.
Выпуск
Другие статьи выпуска
Предложены модели продольного инверсионного и поперечного, работающего на эффекте Эттингсгаузена, холодильников предназначенных для работы в области криогенных температур. Рассчитаны и проанализированы максимальные перепады температур, которые можно получить с помощью этих холодильников при наличии сильных токов. Указаны области их возможного применения.
Технологией мезатравления изготовлены матрицы фоточувствительных элементов на основе p–i–n-фотодиодов в гетероэпитаксиальных структурах InGaAs/InP, в том числе с широкозонным барьерным слоем AlInAs. Показана важная роль токов туннелирования в структурах InGaAs и уменьшение на два порядка токов диффузии и генерациирекомбинации для МФЧЭ с барьерным слоем InAlAs. Проведено приближение измеренных и теоретических ВАХ методом подгонки параметров, определена скорость поверхностной рекомбинации на границе слоя поглощения.
Рассмотрен метод разработки сканирующего ФПУ, предназначенного для работы в автономном режиме с повышенной безотказностью в течение заданного продолжительного интервала времени. ФПУ включает заданное число модулей на основе многорядной линейки с фоточувствительными элементами (ФЧЭ), имеющими меньшее среднее время безотказной работы, чем заданный временной интервал. Метод включает использование аналитической модели МФПУ и аналитической модели безотказности МФПУ.
Аналитическая модель безотказности МФПУ использовалась для определения необходимого числа ФЧЭ в канале сканирующего ФПУ, зависящего от известного среднего времени безотказной работы одного ФЧЭ. В этом случае обеспечивается высокая вероятность безотказной работы каналов, модулей и ФПУ в течение заданного интервала времени. Аналитическая модель МФПУ применялась для расчёта и анализа фотоэлектрических параметров разрабатываемого устройства.
Совместное использование указанных аналитических моделей позволяет достаточно быстро и корректно определять конструктивные, эксплуатационные и фотоэлектрические параметры любого многоканального ФПУ с заданными надежностными параметрами. В качестве примера рассматривается разработка ИК ФПУ на спектральный диапазон (10,5—12,6) мкм с 1024 каналами, с гамма-процентной наработкой до 10 лет при вероятности безотказной работы не менее 0,99.
При создании фотоприемных устройств УФ- и ИК-диапазонов используются кристаллы, изготовленные из разных материалов. Гибридизация разнородных подложек осуществляется методом перевернутого кристалла с помощью сформированных на каждом кристалле индиевых микроконтактов. Рассмотрены методы гибридизации кристаллов с разной формой индиевых микроконтактов. Исследовано влияние формы микроконтактов на надежность гибридизации кристаллов.
Проведен анализ динамических условий устойчивости электрической дуги в канале плазмотрона. Показано, что из известных трех динамических условий устойчивости независимыми являются два. Предложен критерий, позволяющий определить область значений параметров схемы питания плазмотрона, в которой учет динамических свойств дуги становится необходимым.
При исследовании пространственной структуры источников мягкого рентгеновского излучения в плазме микропинчевого разряда наблюдается устойчивое формирование трубчатой области, излучающей в диапазоне L-спектра плазмообразующего элемента. Оценки показывают, что за формирование трубчатого источника мягкого рентгеновского излучения может отвечать аномальное скинирование тока в перетяжке вследствие быстрого возрастания напряженности поля, вызванного аномальным ростом сопротивления плазмы.
Рассмотрена нанофокусировка поверхностной плазмонной волны на вершине наноострия с учетом поглощения в металле. Граница металла вблизи вершины приближается поверхностью параболоида вращения. Приведены расчеты распределений поля на вершинах нанострий из хорошо проводящих металлов в оптическом диапазоне. Найдены параметры, влияющие на нанофокусировку.
Сформулированы основы кумулятивной 3D-кристаллодинамики положительно заряженных плазмоидов, в которых локализованный ферми-газ формирует e-мембрану и ионные решётки. Ряд явлений в таких фрактализованных плазмоидах имеет аналоги в твердых телах и металлах. Аналитически: 1) рассчитаны коэффициенты объёмного сжатия кристаллов IV группы элементов; 2) исследованы поляризационный эффект, открытый автором, и эффект Казимира. Аналитически выявлены области их относительного доминирования.
Рассмотрены вопросы формирования электрических флуктуаций в твердых телах, вызванных дефектами структуры. Проанализированы деградационные процессы в твердых материалах. Установлена связь спектральных свойств шума в полупроводниках, вызванного ловушками, с характеристиками деградационных процессов. Вычислено выражение для спектра шума в полупроводниках, обусловленного ловушками, с флуктуирующим числом ловушек.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400