Статья: Исследование фотоэлектрической взаимосвязи элементов матричных ФП на основе гетероэпитаксиальных структур InGaAs (2015)

Читать онлайн

Представлены результаты исследований фотоэлектрической взаимосвязи элементов в матрицах ФЧЭ на основе различных гетероэпитаксиальных структур с поглощающим слоем InGaAs. Матрицы ФЧЭ изготовлены по разным технологиям: а — планарная, б — мезатехнология, в — мезапланарная на nB(Al0,48In0,52As)p-структурах. Показано, что в матрицах, изготовленных по мезапланарной технологии на nB(Al0,48In0,52As)p-структурах успешно сочетаются малые темновой ток и фотоэлектрическая взаимосвязь.

Consideration is given to photoelectric interrelation of elements in photodiode matrixes on the basis of various heteroepetaxy structures with InGaAs absorbing layer. Photodiode matrixes are made on different technologies: planar, mezatechnology, mezaplanar on nB (Al0.48In0.52As) p-structures. It is shown that the small dark current and photoelectric interrelation are successfully combined in matrixes made on mezaplanar technology on nB (Al0.48In0.52As) p-structures.

Ключевые фразы: фотоэлектрическая взаимосвязь, матричные фотоприемные устройства (мфпу), InGaAs, гетероэпитаксиальные структуры
Автор (ы): Седнев Михаил Васильевич (Sednev M. V.), Болтарь Константин Олегович, Иродов Никита Александрович, Демидов Станислав Стефанович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
621.383. Фотоэлектроника
eLIBRARY ID
23649674
Для цитирования:
СЕДНЕВ М. В., БОЛТАРЬ К., ИРОДОВ Н. А., ДЕМИДОВ С. С. ИССЛЕДОВАНИЕ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ ВЗАИМОСВЯЗИ ЭЛЕМЕНТОВ МАТРИЧНЫХ ФП НА ОСНОВЕ ГЕТЕРОЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СТРУКТУР INGAAS // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2015. №3
Текстовый фрагмент статьи