Статья: Лавинный матричный фотомодуль формата 320×256 элементов на основе тройных соединений группы А3В5 с поглощающим слоем InGaAs и барьерным слоем InAlAs (2015)

Читать онлайн

Проведено исследование лавинного матричного фотомодуля формата 320×256 элементов на основе тройных соединений группы А3В5 с поглощающим слоем InGaAs на спектральный диапазон 0,9—1,7 мкм и барьерным слоем InAlAs. Матрица лавинных фотодиодов формата 320×256 элементов изготавливалась в nBp-наногетероструктуре по мезатехнологии. Измерены количество неработоспособных элементов, зависимость темнового тока от напряжения смещения и коэффициент лавинного усиления.

320256 ADP SWIR FPA based on A3B5 heterostructures with InGaAs absorber layer and InAlAs barrier layer have been investigated and analyzed. ADP photodiodes have been formed using mesatechnology in nB p nanoheterostructure. Critical characteristic of ADP photodiode have been measured including number of defect elements, dark current vs. voltage bias characteristic, multiplication coefficient.

Ключевые фразы: InGaAs, коротковолновый диапазон спектра, инфракрасный, наногетероструктуры, лавинный фотодиод, матрица фоточувствительных элементов, лавинный фотомодуль
Автор (ы): Яковлева Наталья Ивановна, Болтарь Константин Олегович, Седнев Михаил Васильевич, Лопухин Алексей Алексеевич, Коротаев Евгений Дмитриевич
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.383.4. Фотоэлементы с внутренним фотоэффектом. Фоторезисторы
eLIBRARY ID
22932610
Для цитирования:
ЯКОВЛЕВА Н. И., БОЛТАРЬ К., СЕДНЕВ М. В., ЛОПУХИН А. А., КОРОТАЕВ Е. Д. ЛАВИННЫЙ МАТРИЧНЫЙ ФОТОМОДУЛЬ ФОРМАТА 320×256 ЭЛЕМЕНТОВ НА ОСНОВЕ ТРОЙНЫХ СОЕДИНЕНИЙ ГРУППЫ А3В5 С ПОГЛОЩАЮЩИМ СЛОЕМ INGAAS И БАРЬЕРНЫМ СЛОЕМ INALAS // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2015. №1
Текстовый фрагмент статьи