В статье обсуждается методика пассивации и защиты поверхности In1-xGaxAs1-yPy с помощью обработки в плазме СF4 и N2 и осаждения пленки Si3N4 плазмохимическим методом при температурах не более 200 оС. Разработанная технология обеспечивает получение и стабилизацию плотности темнового тока при U = 10 B на уровне 10-5—10-6 А/см-2, а также плотность микропор 0—20 см-2 при диэлектрической прочности 107 В/см.
The article considers the method of In1-xGaxAs1-yPy surface passivation and protection by its treatment in CF4 and N2 plasma and Si3N4 film deposition using the plasma-chemical method at temperatures not exceeding 200 оC. The technology developed provides for obtaining and stabilization of dark current density at U = 10 V at the level of 10-5—10-6 A/cm-2, as well as 0—20 cm-2 density of microvoids with 107 V/cm dielectric strength.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 22932603
Разработана технология пассивации и защиты поверхности меза-ФД на основе гетероструктур In1-xGaxAs1-yPy/InP, включающая обработку поверхности в плазме CF4, отжиг в вакууме, обработку в плазме N2 с последующим осаждением пленки Si3N4 при температуре не более 200 оС плазмохимическим методом. Технология обеспечивает получение и стабилизацию плотности темнового тока при U = 10 B на уровне 10-5—10-6 А/см-2.
Одновременно разработана методика получения пленки Si3N4 на поверхности In1-xGaxAs1-yPy с плотностью микропор 0—20 см-2 при диэлектрической прочности 107 В/см, перспективной для использования в качестве маскирующего покрытия при изготовлении ФД на основе указанных структур.
Список литературы
1. Андреев Д. С., Гришина Т. Н., Залетаев Н. Б. и др. // Прикладная физика. 2012. № 4. С. 86.
2. Болтарь К. О., Лопухин А. А., Чинарева И. В. и др. // Прикладная физика. 2013. № 5. С. 10.
3. Андреев Д. С., Болтарь К. О., Власов П. В. и др. // Прикладная физика. 2014. № 1. С. 47.
4. Kuhara Y., Terauchi H., Nishizawa H. // Journal of Lightwave Technology. 1986. V. LT-4. No. 7. P. 933.
5. Susa N., Kanbe H., Ando H., Ohmachi Y. // Japanese Journal of Applied Physics. 1980. V. 19. No. 11. P. L675.
6. Burrus C., Dentai A., Lee T. // Electronics Letters. 1979. V. 15. No. 20. P. 655.
7. Antell G. // Electronics Letters. 1984. V. 20. No. 22. P. 919.
8. Пичугин И. Г., Таиров Ю. М. Технология полупроводниковых приборов. — М.: Высшая школа. 1984.
9. Chang R. // J. Vac. Sci. Technol. 1983. V. B1. No. 4. P. 935.
10. Андреев В. М., Гореленок А. Т., Жингарев М. З. и др. // Физика и техника полупроводников. 1985. Т. 19. № 4. С. 668.
11. Андреев Д. С., Будтолаева А. К., Огнева О. В и др. // Прикладная физика. 2014. № 3. С. 79.
12. Андреев Д. С., Гришина Т. Н., Мищенкова Т. Н. и др. // Прикладная физика. 2014. № 4. С. 90.
13. Данилин Б. С. // Электронная техника. Сер. Материалы. 1983. № 9 (182) С. 3.
14. Абрамов А. А., Киселева Т. В., Прокофьев А. В. и др. // Вопросы оборонной техники. 1987. Сер. 11. № 3 (109). С. 46.
15. Агаларзаде П. С., Петрин А. И., Изидинов С. О. Основы конструирования и технологии обработки поверхности p–n-перехода. — М.: Сов. радио. 1978.
16. Bayraktaroglu B. // Japanese Journal of Applied Physics. 1981. V. 52. No. 5. P. 3515.
17. Абрамов А. А., Борискина Л. В., Бояринцев П. К. и др. // Вопросы оборонной техники. 1985. Сер. 11. № 4. С. 24.
18. Capasso F., Williams G. // Journal of Electrochemical Society. 1982. V. 129. No. 4. P. 821.
19. Cardona M., Shaklee K., Pollak F. // Physical Revue. 1967. V. 154. No. 3. P. 696.
1. D. S. Andreev, T. N. Grishina, N. B. Zaletaev, et al., Prikladnaya Fizika, No. 4, 86 (2012).
2. K. O. Boltar, A. A. Lopukhin, I. V. Chinareva, et al., Prikladnaya Fizika, No. 5, 10 (2013).
3. D. S. Andreev, K. O. Boltar, P. V. Vlasov, et al., Prikladnaya Fizika, No. 1, 47 (2014).
4. Y. Kuhara, H. Terauchi, and H. Nishizawa, Journal of Lightwave Technology LT-4, 933 (1986).
5. N. Susa, H. Kanbe, H. Ando, et al., Japanese Journal of Applied Physics 19, L675 (1980).
6. C. Burrus, A. Dentai, and T. Lee, Electronics Letters 15, 655 (1979).
7. G. Antell, Electronics Letters 20, 919 (1984).
8. I. G. Pichugin and Yu. M. Tairov, Technology of Semiconductor Devices (Vysshaya Shkola, Moscow, 1984) [in Russian].
9. R. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B1, 935 (1983).
10. V. M. Andreev, A. T. Gorelenok, M. Z. Zhigarev, et al., Semiconductors 19, 668 (1985).
11. D. S. Andreev, A. K. Budtolaeva, O. V. Ogneva, et al., Prikladnaya Fizika, No. 3, 79 (2014)..
12. D. S. Andreev, T. N. Grishina, T. N. Mishchenkova, et al., Prikladnaya Fizika, No. 4, 90 (2014).
13. B. S. Danilin, Elektronnaya Technika. Ser. Materials, No. 9 (182), 3 (1983).
14. A. A. Abramov, T. V. Kiseleva, A. V. Prokof’ev, et al., Voprosy Oboron. Tekhn., Ser. 11, No. 3 (109). 46 (1987).
15. P. S. Agalaparzade, A. I. Petrin, and S. O. Izidinov, Foundation of Designing and Technology for Treatment of Surface of the p–n-Junction (Sov. Radio, Moscow, 1978) [in Russian].
16. B. Bayraktaroglu, Japanese Journal of Applied Physics 52, 3515 (1981).
17. A. A. Abramov, L. V. Boriskina, P. K. Boyarintsev, et al., Voprosy Oboron. Tekhn., Ser. 11, No. 4, 46 (1985).
18. F. Capasso and G. Williams, Journal of Electrochemical Society 129, 821 (1982).
19. M. Cardona, K. Shaklee, and F. Pollak, Physical Revue 154, 696 (1967).
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ОБЩАЯ ФИЗИКА
Серегина Е. В., Степович М. А., Макаренков А. М., Филиппов М. Н., Платошин Е. В. О возможности использования тригоно-метрических выражений в виде рекурсивных функций для решения диффузионного уравнения с разрывными коэффициентами 5
Виноградов С. В., Кононов М. А., Кононов В. М. Атомно-силовая микроскопия поверхностноcти нанокристаллов галогентдов серебра сенсибилизированных красителем 11
Мануковская Д. В., Сидоров Н. В., Палатников М. Н., Сюй А. В. Применение фрактального анализа для исследования картин фотоиндуцированного рассеяния света в кристаллах ниобата лития 14
Крылов В. И., Хомяков В. В. О тормозном излучении электронов, проходящих через многослойную структуру кулоновых центров и ускоряемых слабым однородным электрическим полем 18
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Майоров С. А., Голятина Р. И., Коданова С. К., Рамазанов Т. С., Бастыкова Н. Х. О свойствах плазменно-пылевых структур в He–Ar высокочастотном разряде 24
Лебедев Ю. А., Крашевская Г. В., Гоголева М. А. Пространственное распределение параметров электронной компоненты азотной плазмы электродного микроволнового разряда при пониженных давлениях 30
ЭЛЕКТРОННЫЕ, ИОННЫЕ И ЛАЗЕРНЫЕ ПУЧКИ
Климов А. С., Бурдовицин В. А., Гришков А. А., Окс Е. М., Зенин А. А., Юшков Ю. Г. Формирование ленточного электронного пучка форвакуумным плазменным источником электронов 35
Баловнев А. В., Визгалов И. В., Салахутдинов Г. Х. Диагностика аномальной электрон-электронной эмиссии в автоколебательном режиме пучково-плазменного разряда при помощи метода фильтров и термолюминесцентных детекторов 40
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Вишняков А. В., Стучинский В. А., Брунев Д. В., Зверев А. В., Дворецкий С. А. Использование двумерной модели для описания диффузии носителей заряда в фоточувствительном слое матричных фотоприемников на основе HgCdTe 44
Акимов В. М., Болтарь К. О., Васильева Л. А., Демидов С. С., Иродов Н. А., Климанов Е. А. Модифицированная топология индиевых микроконтактов 51 Андреев Д. С., Будтолаев А. К., Огнева О. В., Тришенков М. А., Чинарева И. В. Пассивация и защита поверхности фотодиодов на основе In1-xGaxAs1-yPy/InP пленкой нитрида кремния 56
Боровков П. М., Казарин Л. Н., Кравченко Н. В., Потапов А. В., Тришенков М. А. Особенности схемотехники импульсных пороговых ФПУ c малым временем восстановления чувствительности после воздействия импульса перегрузки 61 Демидов В. И., Колесова А. А., Кононов М. Е., Лобачев А. В., Полесский А. В., Семенченко Н. А., Хамидуллин К. А. Исследование влияния динамического диапазона фотоприемных устройств на точность измерения функций рассеяния точки оптических систем 66
Оганесян Н. Н., Самвелов А. В., Сысоев Д. А., Минаев Д. В. Исследование зависимостей основных характеристик матричного фотоприёмного устройства от давления криоагента микрокриогенной системы 72
Болтарь К. О., Кашуба А. С., Седнев М. В., Шаронов Ю. П. Исследование релаксационных процессов в гетероэпитаксиальных структурах КРТ 76
Варганова В. С., Кравченко Н. В., Патрин В. М., Тришенков М. А., Хакуашев П. Е., Чинарева И. В. Особенности спектральной характеристики ультрафиолетовых GaP-фотодиодов на основе барьера Шоттки 80
Никонов А. В., Куляхтина Н. М., Болтарь К. О., Яковлева Н. И. Модель показателя преломления эпитаксиальных слоёв InP и InGaAsP 83
Яковлева Н. И., Болтарь К. О., Седнев М. В., Лопухин А. А., Коротаев Е. Д. Лавинный матричный фотомодуль формата 320×256 элементов на основе тройных соединений группы А3В5 с поглощающим слоем InGaAs и барьерным слоем InAlAs 87
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Бадертдинов Э. Р., Денисов И. Г., Козлов А. В. Особенности построения телевизионного канала в совмещенных теплотелевизионных системах 92
Мелкумян Б. В. Применение резонаторного датчика ускорения 96
ИНФОРМАЦИЯ
Резолюция Всероссийского форума технологического лидерства России «ТЕХНОДОКТРИНА™-2014» 101
Сводный перечень статей, опубликованных в журнале в 2014 г. 103
Правила для авторов журнала 108
Бланк-заказ для подписки на 2015 г. 110
C O N T E N T S
GENERAL PHYSICS
E. V. Seregina, M. A. Stepovich, A. M. Makarenkov, M. N. Filippov, and E. V. Platoshin About the possibility of using the trigono-metric expressions in the form of recursive functions for solving the diffusion equation with discontinuous coefficients 5
S. V. Vinogradov, M. A. Kononov, and V. M. Kononov Atomic-force microscopy of silver iodide nanocrystals under surface optical sensitization 11
D. V. Manukovskaya, N. V. Sidorov, М. N. Palatnikov, and А. V. Syuy Use of the fractal analysis for research of photoinduced light scattering pictures in lithium niobate crystals 14
V. I. Krylov and V. V. Khomyakov About bremsstrahlung of electrons passing through the multilayer structure of Coulomb centers and accelerated by a small homogeneous electric field 18
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
S. A. Maiorov, R. I. Golyatina, S. K. Kodanova, T. S. Ramazanov, and N. Kh. Bastykova Properties of plasma–dust structures in the He–Ar RF discharge 24
Yu. A. Lebedev, G. V. Krashevskaya, and M. A. Gogoleva Spatial distribution of the electron component parameters in nitrogen plasma of a microwave electrode discharge at reduced pressure 30
ELECTRON, ION, AND LASER BEAMS
A. S. Klimov, V. A. Burdovitsin, A. A. Grishkov, E. M. Oks, A. A. Zenin, and Yu. G. Yushkov Ribbon electron beam formation by a forevacuum plasma electron source 35
A. V. Balovnev, I. V. Vizgalov, and G. H. Salahutdinov Abnormal electron-electron emission diagnostics in autooscillation regime of a beam plasma discharge by the filter method and termoluminescent detectors 40
PHOTOELECTRONICS
A. V. Vishnyakov, V. A. Stuchinsky, D. V. Brunev, A. V. Zverev, and S. A. Dvoretsky Two-dimensional diffusion model as applied to the analysis of the diffusion process of charge carriers in the photosensitive film of HgCdTe IR FPA detectors 44
V. M. Akimov, K. O. Boltar, L. A. Vasileva, N. A. Demidov, N. A. Irodov, and E. A. Klimanov Modified topology of indium microcon-tacts 51
D. S. Andreev, A. K. Budtolaev, O. V. Ogneva, M. A. Trishenkov, and I. V. Chinareva Passivation and protection of a surface of photodiodes based on In1-xGaxAs1-yPy /InP by the silicon-nitride film 56
P. M. Borovkov, L. N. Kazarin, N. V. Kravchenko, A. V. Potapov, and M. A. Trishenkov Features of a circuit technology for pulse threshold photodetectors with rapid sensitivity recovery after the influence of an overloading pulse 61
V. I. Demidov, A. A. Kolesova, M. E. Kononov, A. V. Lobachyov, A. V. Polesskiy, N. A. Semenchenko, and K. A. Khamidullin Re-search of influence of the photodetectors’ dynamic range on the measurement accuracy of the optical system’s point spread function 66
N. N. Oganesyan, A. V. Samvelov, D. A. Sysoev, and D. V. Minaev The study of the dependence of main characteristics of matrix photodetectors on cryoagent pressure of microcryogenic system 72
K. O. Boltar, A. S. Kashuba, M. V. Sednev, and Yu. P. Sharonov Investigation of the relaxation processes in heteroepitaxial HgCdTe structures 76
V. S. Varganova, N. V. Kravchenko, V. M. Patryn, M. A. Trishenkov, P. E. Khakuashev, and I. V. Chinareva Features of spectral characteristics of ultraviolet GaP photodiodes using Schottky barrier 80
A. V. Nikonov, N. M. Kulyahtina, K. O. Boltar, and N. I. Iakovleva Refractive index of InP and InGaAsP epitaxial layers 83
N. I. Iakovleva, K. O. Boltar, М. V. Sednev, A. A. Lopuxin, and E. D. Korotaev 320256 ADP FPA based on A3B5 heterostructures with InGaAs absorber layer and InAlAs barrier layer 87
PHYSICAL APPARATUS AND ITS ELEMENTS
E. R. Badertinov, I. G. Denisov, and A. V. Kozlov Design features of a television channel in the infrared-visible optical systems 92
B. V. Melkoumian Using the resonator sensor of acceleration 96
INFORMATION
Resolution of All-Russian Forum on Technological Leadership of Russia - TECHNODOCTRINA™-2014 101
Summary list of articles published in 2014. 103
Rules for authors 108 Subscription 110
Другие статьи выпуска
Обсуждаются приложения явлений динамического изменения моды компонент стоячих волн излучения при ускоренном движении их фазовой структуры. Предложен новый акселерометр на основе автономного резонаторного датчика (АРД, ардатчика) без движущихся частей и без кольцевых резонаторов, размещённый неподвижно на объекте.
В данной статье рассматриваются технические вопросы, возникающие при совмещении телевизионного канала (в диапазоне 0,4—0,7 мкм) с тепловизионным (в диапазоне 3,0—5,0 мкм). Предложены решения в построении оптической схемы, электронной системы и программного обеспечения. Рассмотрены проблемы и предложены их решения по юстировке каналов, и временной синхронизации.
Проведено исследование лавинного матричного фотомодуля формата 320×256 элементов на основе тройных соединений группы А3В5 с поглощающим слоем InGaAs на спектральный диапазон 0,9—1,7 мкм и барьерным слоем InAlAs. Матрица лавинных фотодиодов формата 320×256 элементов изготавливалась в nBp-наногетероструктуре по мезатехнологии. Измерены количество неработоспособных элементов, зависимость темнового тока от напряжения смещения и коэффициент лавинного усиления.
Проведено исследование показателя преломления бинарных соединений InP и четверных растворов InGaAsP. Проведен анализ критических точек в зоне Бриллюэна для полупроводниковых сплавов группы A3B5 со структурой цинковой обманки. Построена модель показателя преломления на широком диапазоне длин волн.
Исследована спектральная характеристика фотоприемного устройства (ФПУ) на основе ультрафиолетового фотодиода Шоттки из GaP. Показаны два механизма формирования спектральной характеристики: в области 0,28—0,54 мкм — собственное поглощение, в области более 0,54 мкм — поглощение на барьере Шоттки. В первой области спектральной чувствительности ФПУ может работать как пороговый фотоприемник. Во второй области спектральной чувствительности ФПУ способно работать как обнаружитель мощных оптических сигналов.
Проведены исследования по определению влияния различных технологий обработки поверхности КРТ на скорость поверхностной рекомбинации и, как следствие, на измеряемый параметр времени жизни неосновных носителей заряда. В качестве метода для определения параметра времени жизни был выбран неразрушающий метод бесконтактного измерения времени жизни по релаксационным кривым фотопроводимости, что позволило проводить исследования на реальных структурах, используемых в производстве матричных фотоприемных устройств.
Проведены исследования зависимостей основных характеристик матричного фотоприёмного устройства от давления криоагента микрокриогенной системы. Исследования позволяют определить давление криоагента микрокриогенной системы, при котором основные характеристики матричного фотоприёмного устройства соответствуют техническим требованиям.
Приведены результаты теоретических и экспериментальных исследований по влиянию динамического диапазона на точность измерения функции рассеяния точки (ФРТ) оптических систем. Показано, что для корректного измерения ФРТ и расчета на ее основе пятна рассеяния по заданному уровню концентрации энергии необходимо использование фотоприемных устройств ФПУ, обеспечивающих реальный динамический диапазон при оцифровке не менее 14 бит.
Данная работа посвящена рассмотрению и практической реализации различных схемных решений быстродействующих фотоприемных устройств, основанных на использовании в качестве фоточувствительного элемента фотодиодов, оптимизированных для приема на спектральный диапазон 0,85—1,067 мкм. При этом длительность входных оптических сигналов может изменяться в широком диапазоне от 5 до 400 нс, с уровнями регистрируемых энергий от 110-16 до 210-9 Дж.
При гибридизации кристаллов БИС считывания и матрицы фоточувствительных элементов (МФЧЭ) методом перевернутого монтажа используются индиевые микроконтакты, создаваемые на обоих кристаллах. В статье рассмотрена модифицированная топология индиевых микроконтактов, позволяющая повысить надежность гибридизации кристаллов. Проведены первые стыковки индиевых микроконтактов предложенной топологии, представлены фотографии расстыкованных образцов.
Предложена двумерная диффузионная модель для анализа диффузии фотогенерированных носителей заряда в фоточувствительном слое матричных ИК-фотоприемников на основе материала HgCdTe с фотодиодной матрицей, выполненной по планарной технологии без изоляции пикселей канавками. Дан анализ погрешностей модели при описании результатов экспериментов по сканированию локального пятна засветки выбранным фотодиодом матрицы. Показано, что предложенная модель дает хорошее описание результатов сканирования при реалистичном значении локальной длины диффузии носителей заряда в области под фотодиодами матрицы.
В работе впервые проведена рентгеновская диагностика автоколебательного вторичноэмиссионного разряда. В качестве основного инструмента рентгеновской диагностики использовался спектрометр на основе термолюминесцентных детекторов. Проведенные исследования указывают на наличие в обратном потоке группы электронов с энергией, значительно (на порядок) превышающей ее возможный прирост при однократном прохождении осциллирующего коллекторного напряжения.
Представлены результаты численного анализа и экспериментальных исследований по формированию форвакуумным плазменным источником электронов непрерывного ленточного пучка. Определена оптимальная геометрия электродов ускоряющей системы электронного источника, обеспечившая формирование слаборасходящегося ленточного электронного пучка в отсутствие продольного магнитного поля и специальной фокусирующей системы. Результаты численного моделирования подтверждаются данными эксперимента.
Метод двойного электрического зонда использован для измерения пространственных распределений концентрации заряженных частиц, температуры электронов и постоянного потенциала в электродном микроволновом разряде в азоте при давлении 1 Торр. Показано, что вблизи электрода/антенны концентрация заряженных частиц превышает критическое значение. Концентрация и неоднородность разряда растут с увеличением микроволновой мощности.
Разряд в смеси газов обладает рядом особенностей, которые могут проявляться в экспериментах с пылевой плазмой. Например, при большом отличии атомных весов ионов и атомов, имеет место сильная анизотропия функции распределения ионов по скоростям, что, в свою очередь, может вызывать значительное изменение свойств пылевых структур. В работе выполнен анализ экспериментов по исследованию пылевых образований в газовом разряде смеси легкого и тяжелого газов — гелия и аргона.
В первом борновском приближении найдены и проанализированы сечения тормозного излучения электронов, проходящих через упорядоченную многослойную структуру кулоновых центров и ускоряемых однородным электрическим полем. Определены условия применимости сечений, полученных ранее в литературе при стремлении внешнего поля к нулю. Показано, что ранее полученные сечения, соответствующие частоте фотона 10-2 совпадают с результатами настоящей работы при напряжении поля более 10-4 (атомных единиц).
Разработана методика определения фрактальной размерности картин фотоиндуцированного рассеяния света (ФИРС). Исследована динамика проявления лазерно-индуцированных дефектов в слоях картин ФИРС стехиометрических монокристаллов ниобата лития различного генезиса посредством анализа фрактальной размерности слоев картин ФИРС. Проведено сравнение данных о лазерно-индуцированных дефектах, полученных методом фрактального анализа слоев ФИРС с данными, полученными методом измерения угла раскрытия индикатрисы ФИРС.
Методом атомно-силовой микроскопии наблюдались структурные фотохимические изменения нанокристаллов йодида серебра. Показаны формы кристаллов во время экспозиции светом на галогениды сенсибилизатора арсеназо III.
Рассмотрены возможности использования нового метода непрерывной аппроксимации ступенчатых функций, основанного на использовании тригонометрических выражений в виде рекурсивных функций. Расчеты проведены для классической модели диффузии неосновных носителей заряда, генерированных широким электронным пучком в двухслойном полупроводниковом материале.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400