Статья: Пассивация и защита поверхности фотодиодов на основе In1-xGaxAs1-yPy/InP пленкой нитрида кремния (2015)

Читать онлайн

В статье обсуждается методика пассивации и защиты поверхности In1-xGaxAs1-yPy с помощью обработки в плазме СF4 и N2 и осаждения пленки Si3N4 плазмохимическим методом при температурах не более 200 оС. Разработанная технология обеспечивает получение и стабилизацию плотности темнового тока при U = 10 B на уровне 10-5—10-6 А/см-2, а также плотность микропор 0—20 см-2 при диэлектрической прочности 107 В/см.

The article considers the method of In1-xGaxAs1-yPy surface passivation and protection by its treatment in CF4 and N2 plasma and Si3N4 film deposition using the plasma-chemical method at temperatures not exceeding 200 оC. The technology developed provides for obtaining and stabilization of dark current density at U = 10 V at the level of 10-5—10-6 A/cm-2, as well as 0—20 cm-2 density of microvoids with 107 V/cm dielectric strength.

Ключевые фразы: диэлектрические покрытия, темновой ток, нитрид кремния, плазмохимическая обработка, плотность микропор
Автор (ы): Андреев Дмитрий Сергеевич, Будтолаев Андрей Константинович, Огнева Ольга Викторовна, Чинарева Инна Викторовна, Тришенков Михаил Алексеевич
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
eLIBRARY ID
22932603
Для цитирования:
АНДРЕЕВ Д. С., БУДТОЛАЕВ А. К., ОГНЕВА О. В., ЧИНАРЕВА И. В., ТРИШЕНКОВ М. А. ПАССИВАЦИЯ И ЗАЩИТА ПОВЕРХНОСТИ ФОТОДИОДОВ НА ОСНОВЕ IN1-XGAXAS1-YPY/INP ПЛЕНКОЙ НИТРИДА КРЕМНИЯ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2015. №1
Текстовый фрагмент статьи