Статья: ПРИБОРНО-ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ТРАВЛЕНИЯ ЖЕРТВЕННОГО СЛОЯ В ЧУВСТВИТЕЛЬНОМ ЭЛЕМЕНТЕ МИКРОБОЛОМЕТРИЧЕСКОЙ ИК МАТРИЦЫ НА БАЗЕ КНИ СТРУКТУРЫ (2022)

Читать онлайн

В настоящее время большое внимание исследователей привлекает разработка неохлаждаемых ИК матричных микроболометров на базе КНИ структур, что обусловлено их высоким быстродействием и температурной чувствительностью по сравнению с другими болометрическими и термопарными сенсорными элементами, работающими в ИК спектре длин волн. Важным параметром таких КНИ микроболометров является полезная площадь диэлектрической (SiO2) мембраны, поглощающей ИК излучение, и ее хорошая тепловая изоляция, что требует технологического подбора режимов травления жертвенного слоя (Si) через матрицу сквозных отверстий (окон) в SiO2 мембране. В работе проведено TCAD моделирование газофазного травления жертвенного Si слоя с учётом его толщины и размера окон. Показано, что уменьшение размера окон от 120 до 80 мкм2 приводит к снижению в 2 раза времени травления (от 480 до 240 секунд) и обеспечивает эффективное увеличение полезной поверхности чувствительного элемента микроболометра, которая разогревается от ИК излучения. Полученные результаты могут быть полезны в процессе отработки технологических операций изготовления ИК микроболометрических матриц на КНИ подложках.

Ключевые фразы: мэмс технология, неохлаждаемый ик микроболометр, кни структура, химическое травление, tcad моделирование, термопары, тепловой сенсор, жертвенный слой, диэлектрическая мембрана
Автор (ы): Евсиков Илья Дмитриевич
Соавтор (ы): Демин Глеб Дмитриевич, Дюжев Николай Алексеевич, Фетисов Евгений Александрович, Хафизов Ренат Закирович
Журнал: ПРОБЛЕМЫ РАЗРАБОТКИ ПЕРСПЕКТИВНЫХ МИКРО- И НАНОЭЛЕКТРОННЫХ СИСТЕМ (МЭС)

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

УДК
004. Информационные технологии. Компьютерные технологии. Теория вычислительных машин и систем
Для цитирования:
ЕВСИКОВ И. Д., ДЕМИН Г. Д., ДЮЖЕВ Н. А., ФЕТИСОВ Е. А., ХАФИЗОВ Р. З. ПРИБОРНО-ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ТРАВЛЕНИЯ ЖЕРТВЕННОГО СЛОЯ В ЧУВСТВИТЕЛЬНОМ ЭЛЕМЕНТЕ МИКРОБОЛОМЕТРИЧЕСКОЙ ИК МАТРИЦЫ НА БАЗЕ КНИ СТРУКТУРЫ // ПРОБЛЕМЫ РАЗРАБОТКИ ПЕРСПЕКТИВНЫХ МИКРО- И НАНОЭЛЕКТРОННЫХ СИСТЕМ (МЭС). 2022. № 4
Текстовый фрагмент статьи