Высоковольтный карбидокремниевый диод Шоттки для применения в области низких температур (2022)
Экспериментально и теоретически исследованы вольт-амперные характеристики высоковольтного российского карбидокремниевого диода Шоттки 5ДШ410А1 в диапазоне температур от 298 К до температуры жидкого азота. Установлено, что при снижении температуры от 298 К до 78 К значение прямого тока возрастает примерно в два раза (до 211 А), а обратное напряжение достигает 1450 В. Теоретически описаны прямые и обратные вольт-амперные характеристики при температуре 78 К. Продемонстрирована возможность стабильной работы диода Шоттки 5ДШ410А1 при низких температурах.
The current-voltage characteristics of a high-voltage russian silicon carbide Schottky diode 5DSH410A1 have been studied experimentally and theoretically in the temperature range from 298 K to a liquid nitrogen temperature. It has been established that decreasing of temperature from 298 K to temperature of 78 K, the value of the direct current increases approximately twice (up to 211 A) and the reverse voltage reaches 1450 V. The forward and reverse current-voltage characteristics at a temperature of 78 K have been described theoretically. The possibility of 5DSH410A1 silicon carbide Schottky diode stable operation under low temperatures is demonstrated.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- УДК
- 537.31. Распространение электричества. Электропроводность
621.382.2. Полупроводниковые (кристаллические) диоды - Префикс DOI
- 10.51368/1996-0948-2022-3-49-55
- eLIBRARY ID
- 49167083
Экспериментально и теоретически исследованы вольт-амперные характеристики высоковольтного карбидокремниевого диода Шоттки 5ДШ410А1 в диапазоне температур от 298 К до температуры жидкого азота. Из прямых вольт-амперных характеристик установлено, что при снижении температуры от 298 К до температуры 78 К значение прямого тока возрастает примерно в два раза до 211 А. При снижении температуры до 78 К обратное напряжение достигает 1450 В. Определена высота барьера Шоттки B = 1,39 эВ. Выполнен расчет прямой вольт-амперные характеристики при температуре 78 К в рамках классической теорией термоэлектронной эмиссии. Показано что обратная вольт-амперная характеристика при температуре 78 К хорошо описывается с учетом фактора понижения высоты барьера, обусловленного наличием промежуточного слоя в виде естественного окисла SiOx на поверхности 4H-SiC. Показана возможность устойчивой работы диода Шоттки 5ДШ410А1 при низких температурах вплоть до температуры жидкого азота, что перспективно для использования его в устройствах силовой электроники с криогенным охлаждением.
Список литературы
- Gutierrez-D E. A., Jamal Deen M., Claeys C. Low Temperature Electronics: Physics, Devices, Circuits, and Applications. – San Diego: Academic Press, 2001.
- Singh R., Baliga B. J. Cryogenic Operation of Silicon Power Devices. – New York: Springer US, 1998.
- Алфеев В. Н. Радиотехника низких температур. – М.: Советское радио, 1966.
- Balestra F., Ghibaudo G. Device and Circuit Cryogenic Operation for Low Temperature Electronics. – Boston: Springer US, 2001.
- Baliga B. J. Fundamentals of Power Semicon-ductor Devices. – Cham: Springer International Publishing AG, 2019.
- Белоус А. И., Ефименко С. А., Турцевич А. С. Полупроводниковая силовая электроника. – М.: Техносфера, 2013.
- Демидов А. А., Рыбалка С. Б. // Прикладная математика & физика. 2021. Т. 53. № 1. С. 53.
- Гудилин Д. // Электроника НТБ. 2014. № 8. С. 92.
- Зотин В. Ф., Дракин А. Ю., Рыбалка С. Б., Демидов А. А., Кульченков E. А. // Прикладная физика. 2021. № 6. С. 67.
- Rybalka S. B., Kulchenkov E. A., Demidov A. A., Zhemoedov N. A., Drakin A. Yu., Zotin V. F., Shishkina O. A. // J. Phys.: Conf. Ser. 2020. Vol. 1679. P. 022045.
- Sedykh S. V., Rybalka S. B., Drakin A. Yu., Demidov A. A., Kulchenkov E. A. // J. Phys.: Conf. Ser. 2019. Vol. 1410. P. 012195.
- 5ДШ410А1 [Электронный ресурс]. URL: http://group-kremny.ru/catalog/diskretnye-poluprovodniki/diody-i-diodnye-sborki_/5dsh410a1/
- Cree C4D20120D Silicon Carbide Schottky Diode - Zero Recovery Rectifier, C4D20120D Rev. F, 09-2016 [electronic resource]. URL: https://assets.wolfspeed.com/uploads/2020/12/C4D20120D.pdf
- Rhoderick E. H. Metal–Semiconductor Contacts. Oxford: Clarendon Press, 1978.
- Perrone D., Naretto M., Ferrero S., Scaltrito L., Pirri C. F. // Materials Science Forum. 2009. Vol. 615–617. P. 647.
- Ivanov P. A., Grekhov I. V., Potapov A. S., Sam-sonova T. P., Il’inskaya N. D., Kon’kov O. I., Serebrennikova O. Yu. // Semiconductors. 2010. Vol. 44. P. 653.
- Sze S. M., Kwok K. Ng. Physics of Semiconductor Devices. – Hoboken: John Wiley & Sons Inc, 2007.
- Rhoderick E. H. // IEE Proc. 1982. Vol. 129. № 1. P. 1.
- Andrews J. M., Lepselter M. P. // Solid-State Electron. 1970. Vol. 13. P. 1011.
- Ivanov P. A., Grekhov I. V., Kon’kov O. I., Potapov A. S., Samsonova T. P., Semenov T. V. // Semiconduc-tors. 2011. Vol. 45. P. 1374.
- E. A. Gutierrez-D, M. Jamal Deen, and C. Claeys, Low Temperature Electronics: Physics, Devices, Circuits, and Applications (Academic Press, San Diego, 2001).
- R. Singh and B. J. Baliga, Cryogenic Operation of Silicon Power Devices (Springer US, New York, 1998).
- V. N. Alfeev, Low temperature radio engineering (Sovetskoe radio, Moscow, 1966) [in Russian].
- F. Balestra and G. Ghibaudo, Device and Circuit Cryogenic Operation for Low Temperature Electronics (Springer US, Boston, 2001).
- B. J. Baliga, Fundamentals of Power Semiconductor Devices (Springer International Publishing AG, Cham, 2019).
- А. I. Belous, S. A. Efimenko, and A. S. Turtsevich. Semiconductor power electronics (Тekhosphera, Moscow, 2013) [in Russian].
- А. А. Demidov and S. B. Rybalka, Applied mathematics & physics 53 (1), 53 (2021).
- D. Gudilin, Elektronika NTB, No. 8, 92 (2014).
- V. F. Zotin, A. Yu. Drakin, S. B. Rybalka, A. A. Demidov, and E. A. Kulchenkov. Applied Physics, No. 6, 67 (2021) [in Russian].
- S. B. Rybalka, E. A. Kulchenkov, A. A. Demidov, N. A. Zhemoedov, A. Yu. Drakin, V. F. Zotin, and O. A. Shishkina. J. Phys.: Conf. Ser. 1679, 022045 (2020).
- S. V. Sedykh, S. B. Rybalka, A. Yu. Drakin, A. A. Demidov, and E. A. Kulchenkov. J. Phys.: Conf. Ser. 1410, 012195 (2019).
- 5DSH410А1 [electronic resource]. URL: http://group-kremny.ru/catalog/diskretnye-poluprovodniki/diody-i-diodnye-sborki_/5dsh410a1/
- Cree C4D20120D Silicon Carbide Schottky Diode - Zero Recovery Rectifier, C4D20120D Rev. F, 09-2016 [elec-tronic resource]. URL: https://assets.wolfspeed.com/uploads/2020/12/C4D20120D.pdf
- E. H. Rhoderick, Metal–Semiconductor Contacts (Clarendon Press, Oxford, 1978).
- D. Perrone, M. Naretto, S. Ferrero, L. Scaltrito, and C. F. Pirri, Materials Science Forum 615–617, 647 (2009).
- P. A. Ivanov, I. V. Grekhov, A. S. Potapov, T. P. Samsonova, N. D. Il’inskaya, O. I. Kon’kov, and O. Yu. Serebrennikova, Semiconductors 44, 653 (2010).
- S. M. Sze and K. Ng. Kwok, Physics of Semiconductor Devices (John Wiley & Sons Inc, Hoboken, 2007).
- E. H. Rhoderick, IEE Proc. 129 (1), 1 (1982).
- J. M. Andrews and M. P. Lepselter, Solid-State Electron 13, 1011 (1970).
- P. A. Ivanov, I. V. Grekhov, O. I. Kon’kov, A. S. Potapov, T. P. Samsonova, T. V. Semenov, Semiconductors 45, 1374 (2011).
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Константинов В. О., Щукин В. Г., Шарафутдинов Р. Г.
Эффект перекристаллизации при рафинировании металлургического кремния в электронно-пучковой плазме 5
Бондаренко Д. А., Вавилин К. В., Двинин С. А., Задириев И. И., Кралькина Е. А., Лобастов И. А., Маринин С. Ю., Никонов А. М., Селиванов М. Ю.
Характеристики ВЧ катода-нейтрализатора при использовании аргона в качестве рабочего газа 11
Шандриков М. В., Окс Е. М., Черкасов А. А.
Особенности инжекции электронов из плазмы эмиттерного разряда в планарную магнетронную распылительную систему 17
Батукаев Т. С., Билера И. В., Крашевская Г. В., Лебедев Ю. А., Назаров Н. А.
Хроматографическое исследование СВЧ-разряда в жидком нефрасе с барботированием СО2 25
Николаев А. Г., Фролова В. П., Юшков Г. Ю.
Генерация пучков многозарядных ионов тантала в вакуумным дуговым ионном источнике с субмикросекундной длительностью импульса 30
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Войцеховский А. В., Дзядух С. М., Горн Д. И., Дворецкий С. А., Михайлов Н. Н., Сидоров Г. Ю., Якушев М. В.
Экспериментальное исследование барьерных NBN-структур на основе МЛЭ n-HgCdTe для детектирования в MWIR и LWIR спектральных областях 37
Вильдяева М. Н., Климанов Е. А., Ляликов А. В., Макарова Э. А., Скребнева П. С.
Влияние процессов отжига на время жизни носителей заряда и его однородность в пластинах кремния n-типа 43
Рыбалка С. Б., Демидов А. А., Кульченков Е. А.
Высоковольтный карбидокремниевый диод Шоттки для применения в области низких температур 49
Трухачев А. В., Трухачева Н. С., Седнев М. В., Болтарь К. О.
Исследование влияния на ВАХ матричных фоточувствительных элементов на основе XBn-InGaAs-структур характеристик процессов пассивации поверхности 56
ФИЗИЧЕСКОЕ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ
Кравчук Д. А.
Результаты экспериментальных исследований оптоакустического отклика в биологических тканях и их моделях 63
Манухин В. В.
Распыление карбидных пленок с поверхности титана и вольфрама ионами гелия средних энергий 67
Асваров А. Ш., Ахмедов А. К., Мурлиев Э. К., Каневский В. М.
Искровое плазменное спекание композитной металлокерамической системы ZnO – Zn 73
Исмаилов А. М., Муслимов А. Э.
Быстрый УФ отклик в пленках оксида цинка c островками металлического серебра 79
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Фролова В. Е., Денисов Д. Г., Патрикеев В. Е., Ерофеева Н. А.
Исследование влияния особенностей процесса полирования на качество обработки поверхностей оптических деталей 85
C O N T E N T S
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
V. O. Konstantinov, V. G. Shchukin, and R. G. Sharafutdinov
The effect of recrystallization in metallurgical silicon refining using an electron-beam plasma 5
D. A. Bondarenko, K. V. Vavilin, S. A. Dvinin, I. I. Zadiriev, E. A. Kralkina, I. A. Lobastov,
S. Yu. Marinin, A. M. Nikonov, and M. Yu. Selivanov
Characteristics of RF cathode-neutralizer using argon as the working gas 11
M. V. Shandrikov, E. M. Oks, and A. A. Cherkasov
Special features of electron injection from an emitter discharge plasma into a planar magnetron sputtering system 17
T. S. Batukaev, I. V. Bilera, G. V. Krashevskaya, Yu. A. Lebedev, and N. A. Nazarov
Chromatographic study of microwave discharge in liquid Nefras with CO2 bubbling 25
A. G. Nikolaev, V. P. Frolova, and G. Yu. Yushkov
Generation multiply charged tantalum ion beams in a vacuum arc ion source with a submicrosecond pulse duration 30
PHOTOELECTRONICS
A. V. Voitsekhovskii, S. M. Dzyadukh, D. I. Gorn, S. A. Dvoretskii, N. N. Mikhailov, G. Yu. Sidorov, and M. V. Yakushev
Experimental study of NBN barrier structures based on MBE n-HgCdTe for MWIR and LWIR photodetectors 37
M. N. Vil’dyaeva, E. A. Klimanov, A. V. Lyalikov, E. A. Makarova, and P. S. Skrebneva
Influence of heat treatment on lateral lifetime charge carrier and its homogeneity in n-type silicon wafers 43
S. B. Rybalka, A. A. Demidov, E. A. Kulchenkov
High voltage silicon carbide Schottky diode for low temperature applications 49
A. V. Trukhachev, N. S. Trukhacheva, M. V. Sednev, and K. O. Boltar
Focal plane arrays based on XBn-InGaAs structures surface passivation influence of methods on the current-voltage characteristics 56
PHYSICAL SCIENCE OF MATERIALS
D. A. Kravchuk
Results of experimental studies of optoacoustic response in biological tissues and their models 63
V. V. Manukhin
Sputtering of titanium and tungsten carbide films from the surface titanium and tungsten by helium ions of medium energies bombardment 67
A. Sh. Asvarov, A. K. Akhmedov, E. K. Murliev, and V. M. Kanevsky
Spark plasma sintering of a composite ZnO – Zn cermet system 73
A. M. Ismailov and A. E. Muslimov
Fast UV response in ZnO films with Ag islands 79
PHYSICAL APPARATUS AND ITS ELEMENTS
V. E. Frolova, D. G. Denisov, V. E. Patrikeev, and N. A. Erofeeva
Study of the influence of the physical and chemical features of the polishing process on the quality of surface treatment of optical parts 85
Другие статьи выпуска
Проведен анализ практических результатов современного мирового состояния технологии формообразования с целью обеспечения эффективности отечественных технологий. Выполнен сравнительный анализ существующих математических моделей, описывающих функцию съема оптического материала. Осуществлена апробация реальной математической модели, разработанной на основе экспериментальных исследований, в производственных условиях. Результатом работы является анализ графической зависимости шероховатости отполированной поверхности от концентрации полировальной суспензии.
Исследовано влияние островковой структуры Ag на УФ отклик в пленках ZnO. Нанесение островков Ag размерами до 1 мкм уменьшает время релаксации фототока до 1 с. Островки Ag являются эффективным каналом стока электронов. Отжиг пленок ZnO с покрытием Ag в открытой атмосфере при температуре 600 оС возвращает пленки в исходное состояние с длительной релаксацией фототока. Полученные результаты могут найти применение в технологии создания быстрых фотодетекторов на основе ZnO.
Определены закономерности влияния таких основных действующих факторов метода искрового плазменного спекания, как температура спекания, давление и длительность изотермической выдержки, на процесс синтеза композитной металлокерамики в системе ZnO–Zn с различным содержанием металлической фазы цинка. На основании полученных зависимостей плотности композитной металлокерамики от содержания цинка установлены оптимальные режимы синтеза для каждого состава, при которых сохраняется однородная двухфазная структура и достигаются максимальные значения плотности.
Аналитическая модель распыления бинарных слоистых неоднородных мишеней применена к случаю распыления пленок карбида металла с поверхности металла ионами гелия. На основе модели получена аналитическая формула, позволяющая рассчитать полный и парциальные коэффициенты распыления неоднородных мишеней легкими ионами. Результаты расчетов полных коэффициентов распыления пленок карбидов титана и вольфрама с поверхности металлов ионами гелия приведены в сравнении с результатами компьютерного моделирования.
Оптоакустический метод диагностики биологических тканей можно использовать для определения концентрации гемоглобина, глюкозы, гематокрита, в силу того, что он имеет высокое пространственное разрешение. Проведены измерения акустического сигнала in vitro в свиной крови и модельных биологических жидкостях в присутствии полистирольных микросфер как моделей эритроцитов. С помощью приведенного метода (in vitro) измеряли локальное состояние крови в присутствии концентрации гепарина, а также в модельных биологических средах. Результаты согласуются с опубликованными работами в этой области. Несмотря на то, что пока метод не достаточно точен и требует дальнейшей оптимизации, калибровки, он имеет большие перспективы как легко реализуемый неивазивный метод измерения в реальном времени.
Представлены результаты исследования влияния на вольтамперные характеристики (ВАХ) элементов матриц фоточувствительных элементов (ФЧЭ) на основе XBn-InGaAs структур характеристик формирования пассивирующего покрытия и используемых материалов, а также воздействие потока низкоэнергетичных ионов аргона. Пассивирующие покрытия получали методами магнетронного и резистивного напыления диэлектрических материалов сульфида цинка (ZnS), монооксида кремния (SiO) и фторида иттрия (YF3). Показано, что воздействие низкоэнергетичных ионов аргона приводит к катастрофическому увеличению темновых токов непассивированных элементов матриц.
Показано, что предварительная термическая обработка в кислороде и азоте при 1150 С в течение нескольких часов значительно снижает неравномерность в распределении времени жизни неосновных носителей заряда в кремнии, выращенном методом Чохральского, при последующих диффузионных процессах. Полученный результат объясняется образованием при отжиге приповехностной зоны с пониженной концентрацией кислорода, в которой подавляется рост кислородных преципитатов.
Проведено исследование электрофизических и фотоэлектических характеристик барьерных фоточувствительных структур в конфигурации NBN на основе n-HgCdTe (КРТ). Исследовано семь различных типов фоточувствительных структур для MWIR и LWIR диапазонов инфракрасного (ИК) излучения, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ). Проведены измерения вольт-амперных характеристик (ВАХ), как темновых, так и при наличии засветки. Определены параметры NBN-структуры, реализующей максимальные значения фототока и минимальные значения темновых токов в рабочем интервале напряжений смещения V для повышенных рабочих температур.
В вакуумных дуговых ионных источниках, функционирующих при амплитуде импульса тока дуги в сотни ампер и длительности импульса более десятков микросекунд, средняя зарядность ионов материала катода в ионном пучке находится в пределах от 1+ для углерода до около 3+ для тяжелых металлов. Повышение зарядовых состояний ионов плазмы вакуумной дуги позволяет обеспечить увеличение энергии ионов в извлекаемом пучке без соответствующего повышения ускоряющего напряжения, либо наоборот, получить ионы с заданной энергией при существенно меньшем ускоряющем напряжении. Это расширяет возможности ионных источников при решении задач науки и практики. Зарядовые состояния ионов могут быть существенно увеличены в случае вакуумной дуги с субмикросекундной длительностью импульса. В данной статье представлено исследование процессов генерации пучков многозарядных ионов тяжелых металлов на примере ионов тантала. За счет сокращения длительности импульса тока дуги до субмикросекундного уровня были получены рекордные для тантала зарядовые состояния вплоть до 13+ при среднем заряде ионов тантала в пучке 11+.
Задача разложения СО2 является одной из составляющих проблем, связанных с глобальным потеплением. Одним из перспективных направлений является использование низкотемпературной плазмы. Для этих целей применяются разные типы разрядов. СВЧ-разряд в жидких углеводородах в этих задачах не исследован. В настоящей работе приведены первые результаты по исследованию продуктов СВЧ-разряда в жидком Нефрасе С2 80/120 (нефтяной растворитель, смесь легких углеводородов с температурой кипения от 33 до 205 оC) при введении в разрядную зону СО2. Основными продуктами являются Н2, С2Н2, С2Н4, СН4, СО2, СО. В продуктах не обнаружено кислорода. Это может объясняться его связыванием с водородом и метаном, которые образуются при разложении нефраса. Показано, что степень разложения СО2 достигает 70 %.
Изучены особенности инжекции электронов из плазмы эмиттерного разряда в разрядную систему планарного магнетронного разряда. В качестве эмиттерного разряда использовались тлеющий разряд с полым катодом и вакуумная дуга. Инжекция электронов осуществлялась через центральное отверстие в мишени магнетрона. Давление рабочего газа (аргон) в вакуумной камере составляло 0,05–0,09 Па. Эмиттерный тлеющий разряд в полом катоде функционировал как в слаботочном непрерывном режиме (10–100 мА), так и сильноточном импульсном режиме (10–20 А, 25 мкс, 1 Гц). Вакуумный дуговой эмиттер функционировал в импульсном режиме (10–60 А, 200 мкс, 1 Гц). Измерены токи эмиссии для различных конфигураций разрядной системы, в том числе определены условия, обеспечивающие полное переключение электронного компонента тока эмиттера в разрядную систему магнетронного распылителя.
Представлены первые результаты экспериментального исследования характеристик катода-нейтрализатора, рабочий процесс которого основан на индуктивном ВЧ-разряде в аргоне. Рассмотрен диапазон расходов аргона 4–10 см3/мин, диапазон мощностей ВЧ-генератора 35–150 Вт. Показано, что при достижении порогового значения напряжения между коллектором ионов и положительно заряженным относительно коллектора электродом (анодом) наблюдается скачкообразный рост электронного тока.
Предложен метод плазмохимического рафинирования металлургического кремния. Метод основан, во-первых, на испарении легколетучих примесей за счет быстрого разогрева металлургического кремния с помощью электронного пучка. Во-вторых, на переводе труднолетучих примесей в их легколетучие соединения в химически актив-ной электронно-пучковой плазме. И в-третьих, на перекристаллизации полученного кремния под действием электронного пучка. Указанным методом на лабораторном оборудовании проведено рафинирование металлургического кремния. Показано, что за счет использования перекристаллизации кремния под действием электронного пучка эффективность рафинирования существенно увеличена.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400