Экспериментальное исследование барьерных NBN-структур на основе МЛЭ n-HgCdTe для детектирования в MWIR и LWIR спектральных областях (2022)

Проведено исследование электрофизических и фотоэлектических характеристик барьерных фоточувствительных структур в конфигурации NBN на основе n-HgCdTe (КРТ). Исследовано семь различных типов фоточувствительных структур для MWIR и LWIR диапазонов инфракрасного (ИК) излучения, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ). Проведены измерения вольт-амперных характеристик (ВАХ), как темновых, так и при наличии засветки. Определены параметры NBN-структуры, реализующей максимальные значения фототока и минимальные значения темновых токов в рабочем интервале напряжений смещения V для повышенных рабочих температур.

This work is devoted to an experimental study of the electrical and photoelectric characteristics of barrier photosensitive structures in the NBN configuration based on n-HgCdTe. Seven dif-ferent types of photosensitive structures for MWIR and LWIR infrared radiation ranges grown by molecular beam epitaxy have been studied. The current-voltage characteristics were measured both in the dark and under the illumination. The parameters of the NBN structure, which realizes the maximum values of the photocurrent and the minimum values of dark currents in the operating range of bias voltages V for elevated operating temperatures, are determined.

Тип: Статья
Автор (ы): Войцеховский Александр Васильевич
Соавтор (ы): Дзядух Станислав Михайлович, Горн Дмитрий Игоревич, Дворецкий Сергей, Михайлов Николай, Сидоров Георгий Юрьевич
Ключевые фразы: ИМПЕДАНС, молекулярно-лучевая эпитаксия, IMPEDANCE, ВОЛЬТ-АМПЕРНАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.592. Полупроводники
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2022-3-37-42
eLIBRARY ID
49167081
Текстовый фрагмент статьи