Исследование влияния на ВАХ матричных фоточувствительных элементов на основе XBn-InGaAs-структур характеристик процессов пассивации поверхности (2022)

Представлены результаты исследования влияния на вольтамперные характеристики (ВАХ) элементов матриц фоточувствительных элементов (ФЧЭ) на основе XBn-InGaAs структур характеристик формирования пассивирующего покрытия и используемых материалов, а также воздействие потока низкоэнергетичных ионов аргона. Пассивирующие покрытия получали методами магнетронного и резистивного напыления диэлектрических материалов сульфида цинка (ZnS), монооксида кремния (SiO) и фторида иттрия (YF3). Показано, что воздействие низкоэнергетичных ионов аргона приводит к катастрофическому увеличению темновых токов непассивированных элементов матриц.

The focal plane arrays based on XBn-InGaAs structures passivated by different dielectric materials (ZnS, SiO, YF3) after low energy argon ions treatment are presented current-voltage characteristics. Surface passivation coating were obtained by magnetron sputtering and resistive deposition methods of dielectric materials (ZnS, SiO, YF3). It was shown, that low energy argon ions treatment leads to the unpassivated focal plane arrays dark current drastic increase.

Тип: Статья
Автор (ы): Трухачев Антон Владимирович
Соавтор (ы): Трухачева Наталия Сергеевна, Седнев Михаил Васильевич, Болтарь Константин

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.59. Проводники с особо высоким сопротивлением. Полупроводники
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2022-3-56-62
eLIBRARY ID
49237406
Текстовый фрагмент статьи