Статья: МИКРОЭЛЕКТРОНИКА: КМОП-СТРУКТУРЫ (Обзор исследований в России) (1996)

Читать онлайн

Дана краткая информация об основных научных и производственных центрах России, ведущих исследования и разработки в области КМОП-технологии микроэлектроники, которая сейчас является наиболее распространенной технологией изготовления ИС. Представлены основные физико-технологические принципы разработки КМОП-приборов, современные направления фундаментальных и прикладных работ, в частности, в области сверхкомпактных быстродействующих СБИС субмикронного диапазона. Обсуждается проблема обеспечения материально-технологической базы микроэлектроники. Представлена справочная информация о номенклатуре выпускаемых промышленностью КМОП-СБИС и новых перспективных разработках

The review contains brief information about the main scientific and industrial electron centers in Russia engaged in the development and production of CMOS integrated circuits. Main physical and technological principles of its construction and modern direction of fundamental and applied works are submitted, including area of supercompact high-speed submicron VLSI for military and multimedia applications. The problems of material and equipment well-beling of microelectronics are discussed. Associated reference information on the nomenclature of industrial-type CMOS chips and new advanced VLSI Systems are presented

Ключевые фразы: микроэлектроника, кмоп-технология микроэлектроники, направления развития комп-структур
Автор (ы): Байков И. С. (Baykov I. S.), Байков А. И.
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.382. Электронные элементы, использующие свойства твердого тела. Полупроводниковая электроника
Для цитирования:
БАЙКОВ И. С., БАЙКОВ А. И. МИКРОЭЛЕКТРОНИКА: КМОП-СТРУКТУРЫ (ОБЗОР ИССЛЕДОВАНИЙ В РОССИИ) // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 1996. №1
Текстовый фрагмент статьи