Исследована десорбция дихлорида палладия, стимулированная электронными возбуждениями в пучках электронов и ионов. В качестве прямых методов исследования использована вторично-ионная масс-спектрометрия и оже-спектроскопия. Выяснена природа сил, приводящая к десорбции хлора из дихлорида палладия. Показана возможность создания на поверхности кремниевых пластин узора из металлического палладия с субмикронными размерами путем облучения остросфокусированным электронным или ионным лучом пленки дихлорида палладия. Обоснована перспективность использования десорбции стимулированной электронными возбуждениями для субмикронной литографии, так как при этом используются низкие энергетические пороги пучков и, следовательно, радиационные дефекты не будут возникать. В процессе не используется резист, что существенно сокращает число операций литографии
Desorption of palladium dichloride stimulated by electron excitations under electon and ion beams have been studied. Secondary ion mass-spectrometry and Auger spectroscopy have been used as direct investigation methods. Nature of forces causing the desorption of chlorine from palladium dichloride have been clearified. The possibility of creation of submicron palladium regions on the surface of silicon wafer by means of sharply focused electron or ion beam demonstrated. The use of desorption stimulated by electron excitations in submicron lithography have been shown to be perspective because it uses low energy beam thresholds and hense the radiaton effects do not appear. Also in this process the resist is not used which essentially decrease quantity of lithography operations
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
