Статья: Исследование характеристик мезаструктур матриц p–i–n-диодов на основе гетероэпитаксиальных структур AlxGa1-xN (2015)

Читать онлайн

Сформированы мезаэлементы матриц p–i–n-диодов на основе гетероэпитаксиальных структур AlxGa1-xN, изготовленных методами молекулярно-лучевой (МЛЭ) и МОС-гидридной (МОС) эпитаксии. Разделение элементов матриц формата 320256 с шагом 30 мкм осуществлялось ионно-лучевым травлением через маску фоторезиста в потоке ионов аргона, создаваемого источником Кауфмана, в вакуумной установке. Для определения необходимой глубины травления использовались методы контактной профилометрии и ультрафиолетовой спектрофотометрии, что позволило определить положение n-слоя и достаточную глубину травления образца. Погрешность толщин функциональных слоев ГЭС, указанных в сертификатах производителей, не превышала 28 %. Определены скорости ионно-лучевого травления слоев AlxGa1-xN с различным составом.

Mesa elements of the matrix p–i–n diodes based on AlxGa1-xN heteroepitaxial structures, grown by molecular beam (MBE) and metalorganic (ISO) epitaxy, have been formed. Separating of elements of the arrays format 320256 with pitch 30 micron is carried out by ion-beam etching through a mask of the photoresist in a stream of argon ions produced by the source Kaufman, in the vacuum system. To determine the required depth of the etching techniques, use is made of contact profilometry and ultraviolet spectrophotometry, allowing to determine the position of the n-layer and a sufficient depth of etching the sample. Accuracy thicknesses of functional layers HES specified in certificates of manufacturers does not exceed 28 %. The rates of ion-beam etching AlxGa1-xN layers with different composition have been defined.

Ключевые фразы: alxga1-xn, GaN, гетероэпитаксиальные структуры, p–i–n-фотодиод, ионно-лучевое травление, видимо-слепой поддиапазон, солнечно-слепой поддиапазон, граница поглощения (пропускания)
Автор (ы): Смирнов Дмитрий Валентинович (Smirnov D. V.), Болтарь Константин Олегович, Седнев Михаил Васильевич, Шаронов Юрий Павлович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
621.383. Фотоэлектроника
eLIBRARY ID
24115161
Для цитирования:
СМИРНОВ Д. В., БОЛТАРЬ К., СЕДНЕВ М. В., ШАРОНОВ Ю. П. ИССЛЕДОВАНИЕ ХАРАКТЕРИСТИК МЕЗАСТРУКТУР МАТРИЦ P–I–N-ДИОДОВ НА ОСНОВЕ ГЕТЕРОЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СТРУКТУР ALXGA1-XN // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2015. №4
Текстовый фрагмент статьи