Статья: Влияние частоты поля на особенности плазменной обработки полимеров (2015)

Читать онлайн

Проведен сравнительный анализ особенностей травления поверхностных слоев полимерных материалов в условиях плазмы низкочастотных (звуковых) и высокочастотных разрядов. Для различных конструкций плазмохимических реакторов в рамках феноменологического подхода проанализирована специфика процессов травления. Показано, что наличие области отрицательного свечения в тлеющих разрядах звукового диапазона частоты (ТРЗЧ) объясняет сравнимые значения скорости травления в тлеющих разрядах радиодиапазона (ТРРЧ) и ТРЗЧ при близких значениях поглощаемой мощности при различающихся на порядок значениях токов. Приводится ряд соображений, которые необходимо учитывать при выборе плазменного источника для конкретного процесса травления.

A comparative analysis of the characteristics of the etching of the surface layers of polymeric materials in plasma of low frequency (sound) and high frequency (radio) discharges was carried out. Within the phenomenological approach, the specifics of etching processes were analyzed for plasma chemical reactors of different designs. It is shown that the existence of area of the negative glow in low-frequency glow discharges does explain the comparable values of the etching rate both in radio- and sound frequency glow discharges at close values of the absorbed power but for values of currents which differ in the order. Some reasons which are necessary for considering at a choice of a plasma source for process of etching are resumed.

Ключевые фразы: низко- и высокочастотный объемные разряды, пониженное давление, влияние частоты на параметры разряда
Автор (ы): Марусин Владлен Васильевич, Щукин Владимир Германович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
53. Физика
eLIBRARY ID
24115155
Для цитирования:
МАРУСИН В. В., ЩУКИН В. Г. ВЛИЯНИЕ ЧАСТОТЫ ПОЛЯ НА ОСОБЕННОСТИ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛИМЕРОВ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2015. №4
Текстовый фрагмент статьи